หน้าหลักarrow-rightดัชนีโรงงานของจีนarrow-rightเป้าหมายการสปัตเตอร์พีวีดี โรงงานarrow-rightรายการของซัพพลายเออร์
ฟิลเตอร์
หมวดหมู่สินค้า
เพิ่มเติม
การรับรองระบบการจัดการ
เพิ่มเติม
ขีดความสามารถด้านวิจัยและพัฒนา
รายได้ประจำปี
จำนวนพนักงาน
จังหวัดและภูมิภาค
เพิ่มเติม
เกี่ยวกับ เป้าหมายการสปัตเตอร์พีวีดี
  • นวัตกรรมเทคโนโลยี
  • ซัพพลายเชนที่เชื่อถือได้
  • ความสามารถในการผลิตอย่างครบวงจร

เป้าหมายการสปัตเตอร์พีวีดี70+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
99.95% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียมบริสุทธิ์ เป้าหมายโครเมียมบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบ PVD

99.95% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียมบริสุทธิ์ เป้าหมายโครเมียมบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบ PVD

US$30.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย PVD 3n5 4n เป้าหมายการสปัตเตอร์รูทีเนียม

เป้าหมาย PVD 3n5 4n เป้าหมายการสปัตเตอร์รูทีเนียม

US$1,080.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าทังสเตน PVD 3n5 เป้าทังสเตนสำหรับการสปัตเตอร์เพื่อการเคลือบฟิล์มบาง

เป้าทังสเตน PVD 3n5 เป้าทังสเตนสำหรับการสปัตเตอร์เพื่อการเคลือบฟิล์มบาง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
1~15 วัสดุเคลือบ PVD ขนาดนิ้วหรือแบบกำหนดเอง 3n5 99.95 เป้าหมายการสปัตเตอร์โคบอลต์

1~15 วัสดุเคลือบ PVD ขนาดนิ้วหรือแบบกำหนดเอง 3n5 99.95 เป้าหมายการสปัตเตอร์โคบอลต์

US$30.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
แผ่นเป้าหมายซึ่งทำจากเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 สำหรับการเคลือบด้วย PVD เซอร์โคเนียมดิสก์

แผ่นเป้าหมายซึ่งทำจากเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 สำหรับการเคลือบด้วย PVD เซอร์โคเนียมดิสก์

US$1.00-3,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นเป้าสำหรับการเคลือบ PVD จากเซอร์โคเนียมคุณภาพสูง Zr702 Zr705

แผ่นเป้าสำหรับการเคลือบ PVD จากเซอร์โคเนียมคุณภาพสูง Zr702 Zr705

US$1.00-3,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
โรงงานเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 แผ่นเป้าหมายสำหรับการเคลือบ PVD แผ่นดิสก์เซอร์โคเนียม

โรงงานเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 แผ่นเป้าหมายสำหรับการเคลือบ PVD แผ่นดิสก์เซอร์โคเนียม

US$1.00-3,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายซิเนียมพรีเมียมสำหรับการเคลือบฟิล์มบางที่เหนือกว่า

เป้าหมายซิเนียมพรีเมียมสำหรับการเคลือบฟิล์มบางที่เหนือกว่า

US$10.00-1,000.00
10 piece(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
โครเมียม แคร แผ่นท่อเปลือกสำหรับการเคลือบ PVD ราคาคุ้มค่า

โครเมียม แคร แผ่นท่อเปลือกสำหรับการเคลือบ PVD ราคาคุ้มค่า

US$50.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลม ทองแดง Cu OFC

แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลม ทองแดง Cu OFC

US$100.00-500.00
1 กก.(MOQ)
แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลมอลูมิเนียม โรงงาน

แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลมอลูมิเนียม โรงงาน

US$80.00-500.00
1 บางส่วน(MOQ)
โรงงานเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแผ่นกลม นิกเกิลโครเมียม อัลลอย Ni/Cr

โรงงานเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแผ่นกลม นิกเกิลโครเมียม อัลลอย Ni/Cr

US$80.00-800.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียมบริสุทธิ์สูง Gr1 Gr2 สำหรับ PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียมบริสุทธิ์สูง Gr1 Gr2 สำหรับ PVD

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
ราคาหมายถึงเป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม PVD ที่ปรับแต่งได้

ราคาหมายถึงเป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม PVD ที่ปรับแต่งได้

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายพีวีดีของโลหะผสมไทเทเนียมและอลูมิเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม เป้าหมายโลหะผสมไทอัลสำหรับการเคลือบ

เป้าหมายพีวีดีของโลหะผสมไทเทเนียมและอลูมิเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม เป้าหมายโลหะผสมไทอัลสำหรับการเคลือบ

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
ความบริสุทธิ์สูง 99.6% PVD M86 แท่งไทเทเนียม ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 98X40mm แท่งไทเทเนียม

ความบริสุทธิ์สูง 99.6% PVD M86 แท่งไทเทเนียม ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 98X40mm แท่งไทเทเนียม

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 3n5 สำหรับการเคลือบ PVD

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 3n5 สำหรับการเคลือบ PVD

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN แผ่นเป้าหมายฮาฟเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอน

แบรนด์ TMAXCN แผ่นเป้าหมายฮาฟเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอน

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN 3n/4n/4n5 วัสดุเคลือบ PVD ไม้เทอร์ วัสดุผสมทังสเตน ไทเทเนียม เป้าหมายการพ่นวัสดุ

แบรนด์ TMAXCN 3n/4n/4n5 วัสดุเคลือบ PVD ไม้เทอร์ วัสดุผสมทังสเตน ไทเทเนียม เป้าหมายการพ่นวัสดุ

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการเคลือบด้วย PVD แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งโครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.95% สำหรับการเคลือบในสุญญากาศ

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการเคลือบด้วย PVD แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งโครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.95% สำหรับการเคลือบในสุญญากาศ

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์อลูมิเนียมทองแดงอัลคูบริสุทธิ์สูง 99.9% สำหรับการเคลือบ PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์อลูมิเนียมทองแดงอัลคูบริสุทธิ์สูง 99.9% สำหรับการเคลือบ PVD

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อินเดียมดีบุกบริสุทธิ์สูง 99.99% สำหรับการเคลือบ PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อินเดียมดีบุกบริสุทธิ์สูง 99.99% สำหรับการเคลือบ PVD

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.95% เป้าหมายเซรามิกอาโซที่มีอลูมิเนียมเจือสังกะสีออกไซด์สำหรับการเคลือบ PVD

99.95% เป้าหมายเซรามิกอาโซที่มีอลูมิเนียมเจือสังกะสีออกไซด์สำหรับการเคลือบ PVD

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ฮาฟเนียมบริสุทธิ์สูง 99.95% สำหรับการเคลือบ PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์ฮาฟเนียมบริสุทธิ์สูง 99.95% สำหรับการเคลือบ PVD

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

ส่งแบบสอบถาม
SiO2 เป้าหมายเซรามิกที่มีการสปัตเตอร์ซิลิกอนออกไซด์สำหรับการเคลือบฟิล์ม PVD

SiO2 เป้าหมายเซรามิกที่มีการสปัตเตอร์ซิลิกอนออกไซด์สำหรับการเคลือบฟิล์ม PVD

US$25.00-100.00
1 กก.(MOQ)
Mn เป้าหมายแมงกานีสเซอเทเลตสำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบางชนิด / PVD เคลือบฟิล์ม

Mn เป้าหมายแมงกานีสเซอเทเลตสำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบางชนิด / PVD เคลือบฟิล์ม

US$500.00
1 กก.(MOQ)
ชิ้นงานเซรามิคชนิดพัตต์สำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบาง / ฟิล์ม PVD แบบออปติก การเคลือบผิว

ชิ้นงานเซรามิคชนิดพัตต์สำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบาง / ฟิล์ม PVD แบบออปติก การเคลือบผิว

US$25.00-100.00
1 กก.(MOQ)
ชิ้นงานพัตต์โลหะ / อัลลอยเทอริเทม / เซอร์มิคพัตต์

ชิ้นงานพัตต์โลหะ / อัลลอยเทอริเทม / เซอร์มิคพัตต์

US$35.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้ารูทีเนียมสแควร์บริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีน

เป้ารูทีเนียมสแควร์บริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีน

US$2,000.00-30,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าสำหรับการพ่นวัสดุจากโลหะผสมทังสเตนและเรเนียมสำหรับการตกตะกอนด้วยไอระเหยทางกายภาพ

เป้าสำหรับการพ่นวัสดุจากโลหะผสมทังสเตนและเรเนียมสำหรับการตกตะกอนด้วยไอระเหยทางกายภาพ

US$2,000.00-3,000.00
1 kilograms(MOQ)
เป้าหมายรูบริสุทธิ์สูงสำหรับการพ่นเปลือกสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีนจัดหา

เป้าหมายรูบริสุทธิ์สูงสำหรับการพ่นเปลือกสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีนจัดหา

US$700.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์เรเนียมบริสุทธิ์สูง 99.99% โลหะเรเนียมกลม

เป้าหมายการสปัตเตอร์เรเนียมบริสุทธิ์สูง 99.99% โลหะเรเนียมกลม

US$1,000.00-4,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
ประเภทการเคลือบ PVD ที่ได้รับความนิยมมากที่สุดคือเปลือกชนิดเปลือกโครเมียม

ประเภทการเคลือบ PVD ที่ได้รับความนิยมมากที่สุดคือเปลือกชนิดเปลือกโครเมียม

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
ผู้ผลิตที่กำหนดราคาต่ำ โลหะโครเมียมบริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ PVD

ผู้ผลิตที่กำหนดราคาต่ำ โลหะโครเมียมบริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ PVD

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
การขายตรงจากโรงงาน เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียมที่ใช้ในการเตรียมฟิล์มบางสำหรับเซนเซอร์แรงดึงแบบต้านทาน

การขายตรงจากโรงงาน เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียมที่ใช้ในการเตรียมฟิล์มบางสำหรับเซนเซอร์แรงดึงแบบต้านทาน

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
ราคาจากโรงงาน 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

ราคาจากโรงงาน 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายทองแดงการเคลือบด้วยการระเหิดในสุญญากาศ

เป้าหมายทองแดงการเคลือบด้วยการระเหิดในสุญญากาศ

US$35,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะผสมทองคำบริสุทธิ์สูงและดีบุก

99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะผสมทองคำบริสุทธิ์สูงและดีบุก

US$265,000.00
10 ชิ้น(MOQ)
เป้าหมายการเคลือบด้วยการพ่นโลหะเงินและทองแดง เป้าหมายแบบแผ่นกลม

เป้าหมายการเคลือบด้วยการพ่นโลหะเงินและทองแดง เป้าหมายแบบแผ่นกลม

US$8,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์สูญญากาศแบบ PVD โบรอนบริสุทธิ์สูง 99.9%

เป้าหมายการสปัตเตอร์สูญญากาศแบบ PVD โบรอนบริสุทธิ์สูง 99.9%

US$1,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนทรงกระบอกสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยไอระเหยโลหะท่อไทเทเนียมวัสดุดิบสำหรับการเคลือบแคโทด

เป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนทรงกระบอกสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยไอระเหยโลหะท่อไทเทเนียมวัสดุดิบสำหรับการเคลือบแคโทด

US$800.00-1,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุไทเทเนียมบริสุทธิ์ที่ปรับแต่งได้ บล็อกไทเทเนียม วัสดุไทเทเนียมสูญญากาศ วัสดุเป้าหมายโลหะการเคลือบไอออนหลายอาร์ค

วัสดุไทเทเนียมบริสุทธิ์ที่ปรับแต่งได้ บล็อกไทเทเนียม วัสดุไทเทเนียมสูญญากาศ วัสดุเป้าหมายโลหะการเคลือบไอออนหลายอาร์ค

US$500.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
หมุนแคโทด, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

หมุนแคโทด, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

US$6,700.00-6,800.00
2 sets(MOQ)
5-200kw แหล่งการพ่นที่เป็นแบบทั่วไปสำหรับอุตสาหกรรมการเคลือบฟิล์มบาง แคโธดสปัตเตอร์แบบหมุน เป้าหมายการพ่นแบบหมุน

5-200kw แหล่งการพ่นที่เป็นแบบทั่วไปสำหรับอุตสาหกรรมการเคลือบฟิล์มบาง แคโธดสปัตเตอร์แบบหมุน เป้าหมายการพ่นแบบหมุน

US$6,900.00-7,000.00
2 sets(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
99.9% เป้าหมายการเคลือบสูญญากาศนิกเกิลโครเมียมอลูมิเนียมสำหรับกระบวนการ PVD เป้าหมายโครเมียมแทนทาลัม

99.9% เป้าหมายการเคลือบสูญญากาศนิกเกิลโครเมียมอลูมิเนียมสำหรับกระบวนการ PVD เป้าหมายโครเมียมแทนทาลัม

US$55.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงกลม ดิ 100*40

เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงกลม ดิ 100*40

US$60.00
1 บางส่วน(MOQ)
ความต้านทานความร้อนและความเสถียรทางเคมีที่ยอดเยี่ยมของเป้าทองคำไทเทเนียมสำหรับการเคลือบในสุญญากาศ

ความต้านทานความร้อนและความเสถียรทางเคมีที่ยอดเยี่ยมของเป้าทองคำไทเทเนียมสำหรับการเคลือบในสุญญากาศ

US$60.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายกลมไทเทเนียมที่ทำขึ้นตามสั่ง Dí a 100*40

เป้าหมายกลมไทเทเนียมที่ทำขึ้นตามสั่ง Dí a 100*40

US$60.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
ส่งแบบสอบถาม
การพ่นไอระเหยไทเทเนียม เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบสุญญากาศ เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับเครื่องเคลือบสุญญากาศแบบหลายอาร์ค

การพ่นไอระเหยไทเทเนียม เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบสุญญากาศ เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับเครื่องเคลือบสุญญากาศแบบหลายอาร์ค

US$35.00-50.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายพีวีดีของโลหะผสมไทเทเนียมและอลูมิเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม เป้าหมายโลหะผสมไทอัลสำหรับการเคลือบ

เป้าหมายพีวีดีของโลหะผสมไทเทเนียมและอลูมิเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม เป้าหมายโลหะผสมไทอัลสำหรับการเคลือบ

US$80.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

US$80.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม PVD เป้าหมายโครเมียม/เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม PVD เป้าหมายโครเมียม/เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

US$130.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายทองคำบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบด้วยการพ่นสุญญากาศ

เป้าหมายทองคำบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบด้วยการพ่นสุญญากาศ

US$200.00
10 g(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์ระดับพรีเมียม 99.99% สำหรับการใช้งานขั้นสูง

เป้าหมายการสปัตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์ระดับพรีเมียม 99.99% สำหรับการใช้งานขั้นสูง

US$200.00
10 g(MOQ)
4n เป้าสำหรับการสปุตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์คุณภาพสูง

4n เป้าสำหรับการสปุตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์คุณภาพสูง

US$200.00
10 g(MOQ)
99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์คุณภาพสูง, เป้าหมายทองคำ

99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์คุณภาพสูง, เป้าหมายทองคำ

US$200.00
100 g(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ปี
·ผู้ผลิต/โรงงานผลิต
ส่งแบบสอบถาม
แหล่งเป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนสูญญากาศสูงสำหรับกระบวนการเคลือบพีวีดี

แหล่งเป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนสูญญากาศสูงสำหรับกระบวนการเคลือบพีวีดี

US$1,800.00-2,000.00
1 set(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการพ่นเปลือกโลหะด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบ DC ที่มีเป้าหมายการพ่นสามเท่า

เครื่องเคลือบด้วยการพ่นเปลือกโลหะด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบ DC ที่มีเป้าหมายการพ่นสามเท่า

US$38,000.00-39,500.00
1 set(MOQ)
เครื่องเคลือบพลาสมาสปัตเตอร์แบบคู่สำหรับตัวอย่างเซมและโครเมียม

เครื่องเคลือบพลาสมาสปัตเตอร์แบบคู่สำหรับตัวอย่างเซมและโครเมียม

US$7,900.00-8,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบเป้าหมายเดี่ยวพร้อมแหล่งจ่ายไฟแบบอคติ

การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบเป้าหมายเดี่ยวพร้อมแหล่งจ่ายไฟแบบอคติ

US$10,000.00-12,000.00
1 set(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 ปี
ส่งแบบสอบถาม
เป้าสำหรับการสปัตเตอร์โครเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์ที่แม่นยำและแม่พิมพ์

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์โครเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์ที่แม่นยำและแม่พิมพ์

US$90.00-110.00
2 ชิ้น(MOQ)
เป้าซีโอเนียมบริสุทธิ์สูงจากโรงงานโดยตรงสำหรับการใช้งานด้านออปติก

เป้าซีโอเนียมบริสุทธิ์สูงจากโรงงานโดยตรงสำหรับการใช้งานด้านออปติก

US$90.00-99.00
10 กก.(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะกาดอลิเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบด้วย PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะกาดอลิเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบด้วย PVD

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์อลูมิเนียมไทเทเนียม Alloy/50 สำหรับเครื่องเคลือบ PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์อลูมิเนียมไทเทเนียม Alloy/50 สำหรับเครื่องเคลือบ PVD

US$3,380.00
1 ตัน(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายไทเทเนียม

ผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายไทเทเนียม

US$30.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบทองด้วยการชุบไอออนแบบอาร์คแคโธดิก PVD

เครื่องเคลือบทองด้วยการชุบไอออนแบบอาร์คแคโธดิก PVD

US$100,000.00-230,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องชุบทองด้วยไอออนแบบพีวีดีจากอาร์คแคโธด

เครื่องชุบทองด้วยไอออนแบบพีวีดีจากอาร์คแคโธด

US$100,000.00-230,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
สายการเคลือบด้วยการพ่นสปัตเตอร์แม่เหล็กสำหรับการตกแต่ง PVD ของนาฬิกาที่มีคุณภาพสูง

สายการเคลือบด้วยการพ่นสปัตเตอร์แม่เหล็กสำหรับการตกแต่ง PVD ของนาฬิกาที่มีคุณภาพสูง

US$75,000.00-160,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายพัตต์สำหรับ PVD เคลือบ PVC CR จะมีโครเมียม 99.5

เป้าหมายพัตต์สำหรับ PVD เคลือบ PVC CR จะมีโครเมียม 99.5

US$60.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายของฮิปโครเมียมเอาต์พุตสำหรับเคลือบ PVD

เป้าหมายของฮิปโครเมียมเอาต์พุตสำหรับเคลือบ PVD

US$70.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายสำหรับนักปีนเทรเมียมตั้งเป้า 99.5 CR สำหรับ PVD

เป้าหมายสำหรับนักปีนเทรเมียมตั้งเป้า 99.5 CR สำหรับ PVD

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายเทรเมียมพรีเมียมสำหรับ 99.5 กลม CR สำหรับ PVD

เป้าหมายเทรเมียมพรีเมียมสำหรับ 99.5 กลม CR สำหรับ PVD

US$80.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เคลือบ PVD โรงงานเคลือบ Cu Plate แผ่นทองแดงเป้าหมายสำหรับการป้อนข้อมูลด้วยมัลติอาร์ค Rotary Semiconductor

เคลือบ PVD โรงงานเคลือบ Cu Plate แผ่นทองแดงเป้าหมายสำหรับการป้อนข้อมูลด้วยมัลติอาร์ค Rotary Semiconductor

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
China CU เป้าหมายของทองแดงผสมทองแดงผสมแบบพิสุทธิ์สำหรับ PVD การเคลือบผิว

China CU เป้าหมายของทองแดงผสมทองแดงผสมแบบพิสุทธิ์สำหรับ PVD การเคลือบผิว

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
การปรับแต่ง Chromium Chrome Multi Arc Target Material Magnetoron SOutputering สำหรับ เคลือบ PVD

การปรับแต่ง Chromium Chrome Multi Arc Target Material Magnetoron SOutputering สำหรับ เคลือบ PVD

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายไทเทเนียม 99.999 % สำหรับเครื่องเคลือบ PVD

เป้าหมายไทเทเนียม 99.999 % สำหรับเครื่องเคลือบ PVD

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

ส่งแบบสอบถาม
Rotatable Tiox Sial Silver Sputtering Target Cathode Tube High Quality Purity for PVD Nano Thin Film Material

Rotatable Tiox Sial Silver Sputtering Target Cathode Tube High Quality Purity for PVD Nano Thin Film Material

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ผู้ผลิตเป้าหมายของกลุ่มบริษัท Uvtm Factory Smotering ในจีน 18 ปีที่ผ่านมา สำหรับ Msd และ PVD Vacuum Sputter แบบต่อเนื่องสายการผลิต วิกกี้ 13249153016

ผู้ผลิตเป้าหมายของกลุ่มบริษัท Uvtm Factory Smotering ในจีน 18 ปีที่ผ่านมา สำหรับ Msd และ PVD Vacuum Sputter แบบต่อเนื่องสายการผลิต วิกกี้ 13249153016

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานนักเดินเบาบนไม้พัตต์สำหรับเคลือบ PVD แก้ว Low E ความบริสุทธิ์สูง

ชิ้นงานนักเดินเบาบนไม้พัตต์สำหรับเคลือบ PVD แก้ว Low E ความบริสุทธิ์สูง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Chrome Cr PVD Target Planar Bonding on Cooper Backing Plate or Tube

Chrome Cr PVD Target Planar Bonding on Cooper Backing Plate or Tube

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

US$8,730.00-8,900.00
1 บางส่วน(MOQ)
การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

US$21,000.00-26,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบคู่สำหรับเดสก์ท็อปที่มีช่องสแตนเลส

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบคู่สำหรับเดสก์ท็อปที่มีช่องสแตนเลส

US$8,730.00-8,900.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบเป้าหมายเดี่ยวในห้องควอตซ์สำหรับตัวอย่างเซม

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบเป้าหมายเดี่ยวในห้องควอตซ์สำหรับตัวอย่างเซม

US$8,730.00-8,900.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
แบเรียมไททาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตราเชียเทียตเป้าหมายบาสติโอ 3, PVD Magnetoron SInputเซ นเซอร์ , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ

แบเรียมไททาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตราเชียเทียตเป้าหมายบาสติโอ 3, PVD Magnetoron SInputเซ นเซอร์ , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานที่เคลือบสารสุญญากาศ Hafnafnium, Hfo2 Hafnium Dioxide Target, Hfzro2 Mas, PVD Magnetortron Swering Vacuum Target

ชิ้นงานที่เคลือบสารสุญญากาศ Hafnafnium, Hfo2 Hafnium Dioxide Target, Hfzro2 Mas, PVD Magnetortron Swering Vacuum Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานโลหะ Rufitythenium อันมีค่าสูงสำหรับการเคลือบผิวแบบ Magnetoron Swistering วัสดุเคลือบ PVD ที่มีอนุภาคระเหย

ชิ้นงานโลหะ Rufitythenium อันมีค่าสูงสำหรับการเคลือบผิวแบบ Magnetoron Swistering วัสดุเคลือบ PVD ที่มีอนุภาคระเหย

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานอะลูมิเนียมความบริสุทธิ์สูงอัล , วัสดุเป้าหมายอลูมิเนียม , PVD ( ไอระเหยกายภาพ ) วัสดุเคลือบผิว Magneton SOutput Aluminium Target และการเชื่อม

ชิ้นงานอะลูมิเนียมความบริสุทธิ์สูงอัล , วัสดุเป้าหมายอลูมิเนียม , PVD ( ไอระเหยกายภาพ ) วัสดุเคลือบผิว Magneton SOutput Aluminium Target และการเชื่อม

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายซิลิคอนระดับสูง : เคลือบ Magnetortremering PVD (Physical Vapor dePosition) วัสดุเป้าหมายซิลิคอนสำหรับการเคลือบ Magnetoron SOutput SOutput Dilering เป้าหมายซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO2)

วัสดุเป้าหมายซิลิคอนระดับสูง : เคลือบ Magnetortremering PVD (Physical Vapor dePosition) วัสดุเป้าหมายซิลิคอนสำหรับการเคลือบ Magnetoron SOutput SOutput Dilering เป้าหมายซิลิคอนไดออกไซด์ (SiO2)

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายทังสเตนหมุนเวียนพรีเมียมสำหรับการใช้งานการสปัตเตอร์ที่มีประสิทธิภาพ

เป้าหมายทังสเตนหมุนเวียนพรีเมียมสำหรับการใช้งานการสปัตเตอร์ที่มีประสิทธิภาพ

US$50.00-270.00
10 กก.(MOQ)
เป้าหมายโมลิบดีนัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานอุตสาหกรรมขั้นสูง

เป้าหมายโมลิบดีนัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานอุตสาหกรรมขั้นสูง

US$30.00-60.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายโมลิบดีนัมที่หล่อขึ้นในระดับนาโนสำหรับการเคลือบ PVD ที่สม่ำเสมอ

เป้าหมายโมลิบดีนัมที่หล่อขึ้นในระดับนาโนสำหรับการเคลือบ PVD ที่สม่ำเสมอ

US$30.00-60.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Hunan Radiance Material Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายเทนเซอร์โมลิบดีนัมแบบรีไฮไฟสูงสำหรับ PVD Slatering

เป้าหมายเทนเซอร์โมลิบดีนัมแบบรีไฮไฟสูงสำหรับ PVD Slatering

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับ PVD SOutputering

เป้าหมายทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับ PVD SOutputering

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
6n เป้าหมายซิลิคอนโพล / เป้าหมายซิลิคอนโมโน / รองซิลิคอนเป้าหมาย / ซิลิคอนซิลิคอนสวิทช์สำหรับการเดินเป็นรอบ เคลือบ PVD

6n เป้าหมายซิลิคอนโพล / เป้าหมายซิลิคอนโมโน / รองซิลิคอนเป้าหมาย / ซิลิคอนซิลิคอนสวิทช์สำหรับการเดินเป็นรอบ เคลือบ PVD

US$10.00-99.00
1 บางส่วน(MOQ)
6n เป้าหมายซิลิคอนโพล / เป้าหมายซิลิคอนโมโน / รองซิลิคอนเป้าหมาย / ซิลิคอนซิลิคอนสวิทช์สำหรับการเดินเป็นรอบ เคลือบ PVD

6n เป้าหมายซิลิคอนโพล / เป้าหมายซิลิคอนโมโน / รองซิลิคอนเป้าหมาย / ซิลิคอนซิลิคอนสวิทช์สำหรับการเดินเป็นรอบ เคลือบ PVD

US$10.00-99.00
1 บางส่วน(MOQ)

Baoji Tianbo Metal Materials Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายสำหรับการวัดความร้อนลงบนพื้นดิน PVD สำหรับการเคลือบ PVD

เป้าหมายสำหรับการวัดความร้อนลงบนพื้นดิน PVD สำหรับการเคลือบ PVD

US$75.00
1 บางส่วน(MOQ)
13
ผลิตภัณฑ์ยอดนิยม
วัสดุเคลือบ
ท่อ ท่อเหล็ก
การบำบัดพื้นผิวพลาสติก
การเคลือบฟิล์มโลหะ
ฟิล์มเคลือบโลหะผสม
จีน เซอร์โคเนียม
การเคลือบด้วยไอทางกายภาพ
เป้าหมาย Pvd
ผู้ผลิตที่เกี่ยวข้อง & ซัพพลายเออร์
สามเป้าหมาย โรงงาน
ท่อเป้าหมาย โรงงาน
ซิลิคอนเป้า โรงงาน
นิเกิลเป้าหมาย โรงงาน
สปัตเตอร์ริ่ง ผู้ผลิต
ท่อสูญญากาศสามเป้าหมาย ผู้ผลิต
เป้าหมายที่พ่นออกมา ผู้ผลิต
แผ่นสแตนเลสพีวีดี ผู้ผลิต
เกี่ยวกับเรา การประกาศ ข้อตกลงสำหรับผู้ใช้ นโยบายความเป็นส่วนตัว คอนแทคเตอร์ Made-in-China.com ผลิตภัณฑ์ด่วน ข้อมูลเชิงลึก
ตัวเลือกภาษา: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2025 Focus Technology Co., Ltd. สงวนลิขสิทธิ์
Focusจะไม่รับผิดชอบต่อความแตกต่างระหว่างเวอร์ชันภาษาอังกฤษและเวอร์ชันภาษาอื่นของเว็บไซต์ หากมีความขัดแย้งใด ๆ ให้ใช้เวอร์ชันภาษาอังกฤษเป็นหลัก การใช้ไซต์นี้ของคุณอยู่ภายใต้และถือเป็นการรับทราบและยอมรับ ของเรา ข้อกำหนดและเงื่อนไข