หน้าหลักarrow-rightดัชนีโรงงานของจีนarrow-rightเป้าหมายเซรามิกที่พ่นออกมา โรงงานarrow-rightรายการของซัพพลายเออร์
ฟิลเตอร์
หมวดหมู่สินค้า
เพิ่มเติม
การรับรองระบบการจัดการ
เพิ่มเติม
ขีดความสามารถด้านวิจัยและพัฒนา
รายได้ประจำปี
จำนวนพนักงาน
จังหวัดและภูมิภาค
เพิ่มเติม
เกี่ยวกับ เป้าหมายเซรามิกที่พ่นออกมา
  • นวัตกรรมเทคโนโลยี
  • ซัพพลายเชนที่เชื่อถือได้
  • ความสามารถในการผลิตอย่างครบวงจร

เป้าหมายเซรามิกที่พ่นออกมา90+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายเซรามิคโพลี - ซิลิคอนสำหรับเป้าหมายพัตต์ / ผลิตไฟฟ้าด้วยพลังงานแสงอาทิตย์

เป้าหมายเซรามิคโพลี - ซิลิคอนสำหรับเป้าหมายพัตต์ / ผลิตไฟฟ้าด้วยพลังงานแสงอาทิตย์

US$35.00-50.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายโมโนซิลิคอน เซรามิกโมโนคริสตัลไลน์สำหรับการสปัตเตอร์ เป้าหมายพลังงานแสงอาทิตย์ โทรศัพท์มือถือ

เป้าหมายโมโนซิลิคอน เซรามิกโมโนคริสตัลไลน์สำหรับการสปัตเตอร์ เป้าหมายพลังงานแสงอาทิตย์ โทรศัพท์มือถือ

US$35.00-75.00
1 กก.(MOQ)
In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

US$40.00
1 กก.(MOQ)
SrRuO3 เป้าหมายเซรามิกสตรอนเทียมรูทีเนตสำหรับการเคลือบฟิล์มบางแบบออปติคัล

SrRuO3 เป้าหมายเซรามิกสตรอนเทียมรูทีเนตสำหรับการเคลือบฟิล์มบางแบบออปติคัล

US$40.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ซิงค์ เซเลเนียม เซรามิก สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต Znse 99.99% ขนาดที่กำหนดเองสำหรับวัสดุทางแสง

ซิงค์ เซเลเนียม เซรามิก สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต Znse 99.99% ขนาดที่กำหนดเองสำหรับวัสดุทางแสง

US$150.00-1,500.00
1 pieces(MOQ)
99.99% เป้าหมายเซรามิกซิลิกอนไดออกไซด์บริสุทธิ์สำหรับการสปัตเตอร์ที่แม่นยำ

99.99% เป้าหมายเซรามิกซิลิกอนไดออกไซด์บริสุทธิ์สำหรับการสปัตเตอร์ที่แม่นยำ

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายเซรามิก 99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อินเดียมดีบุก

เป้าหมายเซรามิก 99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อินเดียมดีบุก

US$110.00
1 บางส่วน(MOQ)
Hfo2 เป้าหมายวัสดุเซรามิกออกไซด์ฮาฟเนียมสำหรับการสปัตเตอร์แมกนีตรอน มีขนาดให้เลือกหลายขนาด

Hfo2 เป้าหมายวัสดุเซรามิกออกไซด์ฮาฟเนียมสำหรับการสปัตเตอร์แมกนีตรอน มีขนาดให้เลือกหลายขนาด

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
99.99% เป้าหมายเซรามิก Ysz เป้าหมายซึ่งมีการเสถียรภาพด้วยอิตเทรียมซึ่งเป็นซิลิเกตซึ่งใช้ในการพ่นวัสดุ

99.99% เป้าหมายเซรามิก Ysz เป้าหมายซึ่งมีการเสถียรภาพด้วยอิตเทรียมซึ่งเป็นซิลิเกตซึ่งใช้ในการพ่นวัสดุ

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.99% B4c เป้าหมายเซรามิก คาร์บอไนด์โบรอน คาร์บอน เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ

99.99% B4c เป้าหมายเซรามิก คาร์บอไนด์โบรอน คาร์บอน เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายเซรามิกคาร์ไบด์อะลูมิเนียมคุณภาพสูง Al4c3 เป้าหมาย

เป้าหมายเซรามิกคาร์ไบด์อะลูมิเนียมคุณภาพสูง Al4c3 เป้าหมาย

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.99% เป้าหมายเซรามิกซิรโคเนียมคาร์ไบด์แบบสปัตเตอร์

99.99% เป้าหมายเซรามิกซิรโคเนียมคาร์ไบด์แบบสปัตเตอร์

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
ซิลิคอนคาร์ไบด์ ซิก ความบริสุทธิ์สูง เคลือบเซรามิกเป้าหมาย การประมวลผลการสปัตเตอร์แมกนีตรอน การปรับแต่ง

ซิลิคอนคาร์ไบด์ ซิก ความบริสุทธิ์สูง เคลือบเซรามิกเป้าหมาย การประมวลผลการสปัตเตอร์แมกนีตรอน การปรับแต่ง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ซิลิคอนคาร์ไบด์เป้าหมาย ซิก 99.9% การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก

ซิลิคอนคาร์ไบด์เป้าหมาย ซิก 99.9% การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.9%- 99.99% Ruo2 เป้าหมาย 1-10inch รูทีเนียมไดออกไซด์สำหรับการสปัตเตอร์

เป้าหมายที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.9%- 99.99% Ruo2 เป้าหมาย 1-10inch รูทีเนียมไดออกไซด์สำหรับการสปัตเตอร์

US$2,000.00-4,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์แทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง, เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม โรเดียม / รูทีเนียม

เป้าหมายการสปัตเตอร์แทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง, เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม โรเดียม / รูทีเนียม

US$700.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
แลนทานัม เฮกซาโบรไบด์ Lab6 เซรามิก ดิสก์ สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต

แลนทานัม เฮกซาโบรไบด์ Lab6 เซรามิก ดิสก์ สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
เซรามิกเป้าหมายแลนทานัมเฮกซาโบรได์ที่มีอิเล็กตรอนปล่อยสูง Lab6

เซรามิกเป้าหมายแลนทานัมเฮกซาโบรได์ที่มีอิเล็กตรอนปล่อยสูง Lab6

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการพ่นวัสดุเซรามิกแลนทานัมโบรไรด์ Lab6

เป้าหมายการพ่นวัสดุเซรามิกแลนทานัมโบรไรด์ Lab6

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
แบรนด์ TMAXCN 99.5% เป้าซิลิคอนคาร์ไบด์เซรามิกซิกสำหรับการเคลือบ

แบรนด์ TMAXCN 99.5% เป้าซิลิคอนคาร์ไบด์เซรามิกซิกสำหรับการเคลือบ

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบเบนช์ท็อปสำหรับโลหะ ออกไซด์ เซรามิก และเซมิคอนดักเตอร์

เครื่องเคลือบด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบเบนช์ท็อปสำหรับโลหะ ออกไซด์ เซรามิก และเซมิคอนดักเตอร์

US$15,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN ความบริสุทธิ์สูง 99.5% คาร์ไบด์โบรอนบริสุทธิ์ B4c เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก

แบรนด์ TMAXCN ความบริสุทธิ์สูง 99.5% คาร์ไบด์โบรอนบริสุทธิ์ B4c เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกซิงค์สแตนเนตความหนาแน่นสูง Zn2sno4 วัสดุเคลือบเซรามิก

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกซิงค์สแตนเนตความหนาแน่นสูง Zn2sno4 วัสดุเคลือบเซรามิก

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
การเคลือบโลหะสูญญากาศด้วยเป้าหมายเซอร์โคเนียม

การเคลือบโลหะสูญญากาศด้วยเป้าหมายเซอร์โคเนียม

US$30.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการฉีดไอออนแม่เหล็กตรอนสามารถจัดการกับสีเข้มได้

เครื่องเคลือบด้วยการฉีดไอออนแม่เหล็กตรอนสามารถจัดการกับสีเข้มได้

US$15,000.00-150,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ระบบเคลือบสูญญากาศ PVD ด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กชนิดกลาง

ระบบเคลือบสูญญากาศ PVD ด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กชนิดกลาง

US$15,000.00-150,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยวิธีอาร์คและสปัตเตอร์ริ่งสำหรับชิ้นส่วนสแตนเลส

เครื่องเคลือบด้วยวิธีอาร์คและสปัตเตอร์ริ่งสำหรับชิ้นส่วนสแตนเลส

US$15,000.00-85,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 ปี·5.0
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ไนไตรด์โบรอน เรือระเหยไนไตรด์โบรอน เซรามิกโบรอนไนไตรด์ หม้อไฟฟ้า

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ไนไตรด์โบรอน เรือระเหยไนไตรด์โบรอน เซรามิกโบรอนไนไตรด์ หม้อไฟฟ้า

US$150.00-160.00
100 กก.(MOQ)
ไทเทเนียมไดโบไรด์ (TiB2) แผ่นเป้าสปัตเตอร์ริ่ง เซรามิก

ไทเทเนียมไดโบไรด์ (TiB2) แผ่นเป้าสปัตเตอร์ริ่ง เซรามิก

US$30.00
50 กก.(MOQ)
Tib2 เซรามิกส์เป้าหมายการพ่นไอระเหย ไทเทเนียมไดโบรไรด์

Tib2 เซรามิกส์เป้าหมายการพ่นไอระเหย ไทเทเนียมไดโบรไรด์

US$30.00
50 กก.(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
เปลือกเซรามิกทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์ Ws2 สำหรับการเคลือบคุณภาพสูง

เปลือกเซรามิกทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์ Ws2 สำหรับการเคลือบคุณภาพสูง

US$9.00-12.00
10 กก.(MOQ)
ทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์สูง Ws2 เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกสำหรับการเคลือบ

ทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์สูง Ws2 เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกสำหรับการเคลือบ

US$9.00-12.00
10 กก.(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
ลูกปืนอะลูมิเนียม APP-512 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

ลูกปืนอะลูมิเนียม APP-512 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

US$3,180.00-8,500.00
1 ตัน(MOQ)
ลูกปืนอะลูมิเนียม API-625 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

ลูกปืนอะลูมิเนียม API-625 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

US$3,180.00-8,500.00
1 ตัน(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายรูทีเนียมสำหรับการสปัตเตอร์ด้วยแมกเนตรอน ความบริสุทธิ์สูง

เป้าหมายรูทีเนียมสำหรับการสปัตเตอร์ด้วยแมกเนตรอน ความบริสุทธิ์สูง

US$32,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายรูทีเนียมบริสุทธิ์สูงเป้าหมายแบบกลมสำหรับการสปัตเตอร์

เป้าหมายรูทีเนียมบริสุทธิ์สูงเป้าหมายแบบกลมสำหรับการสปัตเตอร์

US$75,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายซิลิคอนไนไตรด์บริสุทธิ์สูง

วัสดุเป้าหมายซิลิคอนไนไตรด์บริสุทธิ์สูง

US$15,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ทังสเตนความแม่นยำสูง

4n เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ทังสเตนความแม่นยำสูง

US$3,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายกลมจากนิกเกิลคุณภาพสูงสำหรับการสปัตเตอร์

เป้าหมายกลมจากนิกเกิลคุณภาพสูงสำหรับการสปัตเตอร์

US$10.00
1 pcs(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนเซรามิกที่มีจุดหลอมเหลวสูง Zr702

เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนเซรามิกที่มีจุดหลอมเหลวสูง Zr702

US$15.00
1 pcs(MOQ)
ท่อเป้าหมายที่มีความแข็งสูง ผิวเรียบและนิกเกิลที่มีความบริสุทธิ์สูง

ท่อเป้าหมายที่มีความแข็งสูง ผิวเรียบและนิกเกิลที่มีความบริสุทธิ์สูง

US$30.00
10 ชิ้น(MOQ)
ดีเยี่ยมในการนำความร้อนและไฟฟ้า แท่งกลมเซอร์โคเนียมบริสุทธิ์ตรง

ดีเยี่ยมในการนำความร้อนและไฟฟ้า แท่งกลมเซอร์โคเนียมบริสุทธิ์ตรง

US$15.00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

US$80.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องทำกระจกนำไฟฟ้า ITO, เทคโนโลยีการพ่นฟิล์มบางด้วยแม่เหล็ก PVD

เครื่องทำกระจกนำไฟฟ้า ITO, เทคโนโลยีการพ่นฟิล์มบางด้วยแม่เหล็ก PVD

US$45,000.00-150,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
เครื่องเคลือบแก้วด้วยการพ่นแม่เหล็กหลายสี

เครื่องเคลือบแก้วด้วยการพ่นแม่เหล็กหลายสี

US$45,000.00-150,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
เครื่องเคลือบแม่เหล็กแบบสปัตเตอร์ล้อรถสีสันสดใส

เครื่องเคลือบแม่เหล็กแบบสปัตเตอร์ล้อรถสีสันสดใส

US$45,000.00-150,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
แบเรียมไททาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตราเชียเทียตเป้าหมายบาสติโอ 3, PVD Magnetoron SInputเซ นเซอร์ , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ

แบเรียมไททาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตราเชียเทียตเป้าหมายบาสติโอ 3, PVD Magnetoron SInputเซ นเซอร์ , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SInputering

วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SInputering

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายอะลูมิเนียมออกไซด์ (ZO) บริสุทธิ์สูง , สังกะสีออกไซด์ (ZnO) เจือด้วยอลูมิเนียมออกไซด์ (Al2O3) , เป้าหมายออกไซด์ของ tron Scering Oxide - ทองแดง (CZnO) , การเชื่อมแผ่นหลังด้วยอะลูมิเนียมออกไซด์ (Al2O3)

วัสดุเป้าหมายอะลูมิเนียมออกไซด์ (ZO) บริสุทธิ์สูง , สังกะสีออกไซด์ (ZnO) เจือด้วยอลูมิเนียมออกไซด์ (Al2O3) , เป้าหมายออกไซด์ของ tron Scering Oxide - ทองแดง (CZnO) , การเชื่อมแผ่นหลังด้วยอะลูมิเนียมออกไซด์ (Al2O3)

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
โค้ตเตอร์สปัตเตอร์ริงแมกเนตรอนสี่ตัวพร้อมห้องโหลดล็อกสำหรับฟิล์มบางเซรามิก

โค้ตเตอร์สปัตเตอร์ริงแมกเนตรอนสี่ตัวพร้อมห้องโหลดล็อกสำหรับฟิล์มบางเซรามิก

US$28,500.00-40,100.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

US$8,730.00-8,900.00
1 บางส่วน(MOQ)
การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

US$21,000.00-26,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์ม PTFE ด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบสามเป้าหมายแบบ DC

เครื่องเคลือบฟิล์ม PTFE ด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบสามเป้าหมายแบบ DC

US$28,500.00-40,100.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ปี
·ผู้ผลิต/โรงงานผลิต
ส่งแบบสอบถาม
เซรามิก, ไดอิเล็กทริก, ออปติก, ออกไซด์, ฟิล์มแข็ง, ฟิล์ม PTFE เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดูอัลเป้าหมาย

เซรามิก, ไดอิเล็กทริก, ออปติก, ออกไซด์, ฟิล์มแข็ง, ฟิล์ม PTFE เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดูอัลเป้าหมาย

US$26,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
การเคลือบด้วยสปัตเตอร์แมกเนตรอนแบบเป้าหมายเดียวพร้อมตัวตรวจสอบความหนาฟิล์ม

การเคลือบด้วยสปัตเตอร์แมกเนตรอนแบบเป้าหมายเดียวพร้อมตัวตรวจสอบความหนาฟิล์ม

US$18,000.00-19,200.00
1 set(MOQ)
การเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบเดี่ยว แบบคู่ และแบบสามด้วยการตรวจสอบความหนาของฟิล์ม

การเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบเดี่ยว แบบคู่ และแบบสามด้วยการตรวจสอบความหนาของฟิล์ม

US$60,000.00-61,200.00
1 set(MOQ)
การสปัตเตอร์ด้วยแม่เหล็กแบบจุดเดียวที่มีฟังก์ชันการพันใยแก้วนำแสง

การสปัตเตอร์ด้วยแม่เหล็กแบบจุดเดียวที่มีฟังก์ชันการพันใยแก้วนำแสง

US$28,000.00-29,500.00
1 set(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
แบเรียมไตตาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตรอนเทียเนต Target Basritot3, PVD Magnetoron SInputtrering Target , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ , อนุภาค , การติดแผ่นรอง

แบเรียมไตตาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตรอนเทียเนต Target Basritot3, PVD Magnetoron SInputtrering Target , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ , อนุภาค , การติดแผ่นรอง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SOutput ความแม่นยำของชิ้นงาน , ข้อมูลจำเพาะแบบกำหนดเอง

วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SOutput ความแม่นยำของชิ้นงาน , ข้อมูลจำเพาะแบบกำหนดเอง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายของเซอร์รีเนียมสเทอริง

เป้าหมายของเซอร์รีเนียมสเทอริง

ต่อรองได้
5 ชิ้น(MOQ)
Ito ( แท็บเล็ต ) เป้าหมายการป้อนข้อมูล

Ito ( แท็บเล็ต ) เป้าหมายการป้อนข้อมูล

ต่อรองได้
5 ชิ้น(MOQ)
หมุนเป้าหมายซิลิคอน

หมุนเป้าหมายซิลิคอน

ต่อรองได้
5 เซ็ต(MOQ)
ITO Target

ITO Target

ต่อรองได้
5 ชิ้น(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Ybco Yb2cuba3o7 ytrium trium Copper Oxide Smilering Target

Ybco Yb2cuba3o7 ytrium trium Copper Oxide Smilering Target

US$250.00-500.00
1 บางส่วน(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ชิ้นงานที่ใช้เทเซรามิค

ชิ้นงานที่ใช้เทเซรามิค

US$100.00
1 บางส่วน(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการป้อนข้อมูล Ito

เป้าหมายการป้อนข้อมูล Ito

US$20.00-1,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายของเอาต์พุตเป้าหมายแบบ Oium ที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับอุตสาหกรรมฟิล์มบาง

เป้าหมายของเอาต์พุตเป้าหมายแบบ Oium ที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับอุตสาหกรรมฟิล์มบาง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์เซอเรียมที่ปรับแต่งพรีเมียมสำหรับความเป็นเลิศในการเคลือบ

เป้าหมายการสปัตเตอร์เซอเรียมที่ปรับแต่งพรีเมียมสำหรับความเป็นเลิศในการเคลือบ

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายแกโดลิเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการผลิตอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง

เป้าหมายแกโดลิเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการผลิตอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายโลหะเคลือบแบบพิเศษที่ปรับขนาดได้สำหรับการใช้งานที่แม่นยำ

เป้าหมายโลหะเคลือบแบบพิเศษที่ปรับขนาดได้สำหรับการใช้งานที่แม่นยำ

US$115.00-130.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายโลหะแลนทานัมคุณภาพสูงสำหรับเทคโนโลยีขั้นสูง

เป้าหมายโลหะแลนทานัมคุณภาพสูงสำหรับเทคโนโลยีขั้นสูง

US$150.00-350.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ปี·5.0
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
คุณภาพสูงเป้าหมายโมลิบดีนัมแผ่นโมลิบดีนัม

คุณภาพสูงเป้าหมายโมลิบดีนัมแผ่นโมลิบดีนัม

US$40.00-88.00
1 kg(MOQ)
Mo1 ราคาเป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการสปัตเตอร์

Mo1 ราคาเป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการสปัตเตอร์

US$40.00-88.00
1 kg(MOQ)
คริสตัลโมลิบดีนัมโม-ลาอุณหภูมิสูงที่ปรับแต่งได้

คริสตัลโมลิบดีนัมโม-ลาอุณหภูมิสูงที่ปรับแต่งได้

US$31.00-49.00
1 kg(MOQ)
ยอดขายสูงสุด Tzm โมลิบดีนัม เบทเตอร์ / เรือ

ยอดขายสูงสุด Tzm โมลิบดีนัม เบทเตอร์ / เรือ

US$31.00-54.00
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Ferrous Oxide Feo 4n Sputtering Target for PVD Coating

Ferrous Oxide Feo 4n Sputtering Target for PVD Coating

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Ceramic Sputtering Target in Various Shapes for PVD Coating Compound Target

Ceramic Sputtering Target in Various Shapes for PVD Coating Compound Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
5-200kw แหล่งการพ่นที่เป็นแบบทั่วไปสำหรับอุตสาหกรรมการเคลือบฟิล์มบาง แคโธดสปัตเตอร์แบบหมุน เป้าหมายการพ่นแบบหมุน

5-200kw แหล่งการพ่นที่เป็นแบบทั่วไปสำหรับอุตสาหกรรมการเคลือบฟิล์มบาง แคโธดสปัตเตอร์แบบหมุน เป้าหมายการพ่นแบบหมุน

US$6,900.00-7,000.00
2 sets(MOQ)
หมุนแคโทด, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

หมุนแคโทด, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

US$6,700.00-6,800.00
2 sets(MOQ)
เครื่องสปัตเตอร์แมกนีตรอน PVD สำหรับการบำบัดพื้นผิวเซรามิก

เครื่องสปัตเตอร์แมกนีตรอน PVD สำหรับการบำบัดพื้นผิวเซรามิก

US$80,000.00-180,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนความแม่นยำสูงสำหรับโลหะ แก้ว และเซรามิก

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนความแม่นยำสูงสำหรับโลหะ แก้ว และเซรามิก

US$80,000.00-180,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
ราคาจากโรงงาน ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์ ITO หมุนเวียนคุณภาพสูง 4n In2o3 และ Sno2

ราคาจากโรงงาน ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์ ITO หมุนเวียนคุณภาพสูง 4n In2o3 และ Sno2

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
ราคาจำหน่ายโรงงาน เปอร์เซ็นต์ต่ำ 4n เป้าหมายกลม ITO ขนาดเล็ก

ราคาจำหน่ายโรงงาน เปอร์เซ็นต์ต่ำ 4n เป้าหมายกลม ITO ขนาดเล็ก

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
ราคาจำหน่ายโรงงาน เป้าหมาย ITO ความบริสุทธิ์สูง สำหรับ Rpd 4n

ราคาจำหน่ายโรงงาน เป้าหมาย ITO ความบริสุทธิ์สูง สำหรับ Rpd 4n

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
เป้าหมายโลหะ ITO ความบริสุทธิ์สูง 4n ออกไซด์ของอินเดียมและออกไซด์ของดีบุก In2o3 และ Sno2

เป้าหมายโลหะ ITO ความบริสุทธิ์สูง 4n ออกไซด์ของอินเดียมและออกไซด์ของดีบุก In2o3 และ Sno2

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
99.999% แผ่นเป้าหมายซิลิคอนโมโนคริสตัลบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์/เป้าหมายเซรามิกซิลิคอน

99.999% แผ่นเป้าหมายซิลิคอนโมโนคริสตัลบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์/เป้าหมายเซรามิกซิลิคอน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n เป้าหมาย Azo ZnO: Al2O3 เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบหมุน

4n เป้าหมาย Azo ZnO: Al2O3 เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบหมุน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ขนาดที่กำหนดเอง เปอร์เซ็นต์คาร์บอนกราไฟต์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์ 99.99% เป้าหมายทองแดงที่มีการยึดติด

ขนาดที่กำหนดเอง เปอร์เซ็นต์คาร์บอนกราไฟต์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์ 99.99% เป้าหมายทองแดงที่มีการยึดติด

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n TiO2 เป้าหมายไทเทเนียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

4n TiO2 เป้าหมายไทเทเนียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
Indium Oxide Target, In2o3 Target

Indium Oxide Target, In2o3 Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Izo Target, Sputtering Izo Target, Indium-Zinc Oxide

Izo Target, Sputtering Izo Target, Indium-Zinc Oxide

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย Igzo เป้าหมาย TFT Channel Igzo Layชั้นใน Indium Gallant-Zinium Oxide

เป้าหมาย Igzo เป้าหมาย TFT Channel Igzo Layชั้นใน Indium Gallant-Zinium Oxide

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ITO Target, ITO Rotary Target, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

ITO Target, ITO Rotary Target, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ชิ้นงานแบบหมุน Tiox การประยุกต์ใช้งานส่วนใหญ่สำหรับการเคลือบแก้ว Low-E เป้าหมาย Magnetoron SInputstering ชิ้นงาน Titanium Oxide

ชิ้นงานแบบหมุน Tiox การประยุกต์ใช้งานส่วนใหญ่สำหรับการเคลือบแก้ว Low-E เป้าหมาย Magnetoron SInputstering ชิ้นงาน Titanium Oxide

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย NbOx แบบหมุนได้ 99.95 % สำหรับการป้อนเอาต์พุตคุณภาพสูง

เป้าหมาย NbOx แบบหมุนได้ 99.95 % สำหรับการป้อนเอาต์พุตคุณภาพสูง

ต่อรองได้
2 ชิ้น(MOQ)
เป้าหมายกลุ่มการเชื่อมต่อตู้ถึงกันของ Heeterose, เป้าหมายสำหรับการเดินไปมาของ ITO ของบริษัทสำหรับกลุ่มการเดินตู้ , 1: เป้าหมาย 3 Hjt ITO 97

เป้าหมายกลุ่มการเชื่อมต่อตู้ถึงกันของ Heeterose, เป้าหมายสำหรับการเดินไปมาของ ITO ของบริษัทสำหรับกลุ่มการเดินตู้ , 1: เป้าหมาย 3 Hjt ITO 97

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายหมุนของเครื่องพลาริโอ , เป้าหมาย Magnetoron SOutput trastering , In2o3: เป้าหมายหมายเลข 2, 90 : 10 ITO, 95 ITO, 5 ITO, 97 3 ITO

เป้าหมายหมุนของเครื่องพลาริโอ , เป้าหมาย Magnetoron SOutput trastering , In2o3: เป้าหมายหมายเลข 2, 90 : 10 ITO, 95 ITO, 5 ITO, 97 3 ITO

ต่อรองได้
10 กก.(MOQ)
14
เกี่ยวกับเรา การประกาศ ข้อตกลงสำหรับผู้ใช้ นโยบายความเป็นส่วนตัว คอนแทคเตอร์ Made-in-China.com ผลิตภัณฑ์ด่วน ข้อมูลเชิงลึก
ตัวเลือกภาษา: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. สงวนลิขสิทธิ์
Focusจะไม่รับผิดชอบต่อความแตกต่างระหว่างเวอร์ชันภาษาอังกฤษและเวอร์ชันภาษาอื่นของเว็บไซต์ หากมีความขัดแย้งใด ๆ ให้ใช้เวอร์ชันภาษาอังกฤษเป็นหลัก การใช้ไซต์นี้ของคุณอยู่ภายใต้และถือเป็นการรับทราบและยอมรับ ของเรา ข้อกำหนดและเงื่อนไข