Question 1

การใช้งานของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตคืออะไร?

Accepted Answer

ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตเป็นวัสดุที่จำเป็นซึ่งใช้ในอุตสาหกรรมต่างๆ โดยเฉพาะในด้านอิเล็กทรอนิกส์และการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เป้าหมายเหล่านี้ถูกใช้ในกระบวนการการเคลือบด้วยไอ (PVD) ซึ่งซิลิคอนจะถูกเคลือบลงบนพื้นผิวเพื่อสร้างฟิล์มบาง การใช้งานของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตมีความหลากหลายและกว้างขวาง ทำให้เป็นส่วนประกอบที่สำคัญในเทคโนโลยีสมัยใหม่ หนึ่งในแอปพลิเคชันหลักของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตคือในการผลิตวงจรรวม (ICs) ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ซิลิคอนเป็นวัสดุพื้นฐานที่ใช้ในการสร้างทรานซิสเตอร์ ไดโอด และส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ กระบวนการสปัตเตอร์ริงช่วยให้สามารถควบคุมความหนาและความสม่ำเสมอของชั้นซิลิคอนได้อย่างแม่นยำ ซึ่งเป็นสิ่งสำคัญสำหรับประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์สุดท้าย อีกหนึ่งแอปพลิเคชันที่สำคัญคือในการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ ซิลิคอนเป็นวัสดุหลักในเซลล์โฟโตโวลตาอิก ซึ่งเปลี่ยนแสงแดดให้เป็นไฟฟ้า การใช้ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตในการเคลือบฟิล์มบางช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพและประสิทธิผลของแผงโซลาร์เซลล์ ทำให้แหล่งพลังงานทดแทนมีความเป็นไปได้และเข้าถึงได้มากขึ้น นอกจากนี้ ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตยังถูกใช้ในการผลิตการเคลือบทางแสง การเคลือบเหล่านี้ถูกนำไปใช้กับเลนส์และกระจกเพื่อเพิ่มคุณสมบัติการสะท้อนและการส่งผ่าน แรงสามารถสร้างชั้นซิลิคอนที่บางและสม่ำเสมอผ่านการสปัตเตอร์ริงเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการบรรลุคุณลักษณะทางแสงที่ต้องการ ในด้านของระบบไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (MEMS) ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตมีบทบาทสำคัญเช่นกัน อุปกรณ์ MEMS ซึ่งใช้ในแอปพลิเคชันต่างๆ เช่น เซ็นเซอร์และแอคทูเอเตอร์ มักต้องการชั้นซิลิคอนที่แม่นยำสำหรับการทำงาน ฟิล์มที่สร้างขึ้นจากกระบวนการสปัตเตอร์ริงช่วยให้สามารถสร้างโครงสร้างที่ซับซ้อนซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับประสิทธิภาพของอุปกรณ์เหล่านี้ โดยรวมแล้ว การใช้งานของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตมีความสำคัญต่อความก้าวหน้าของเทคโนโลยีในหลายภาคส่วน รวมถึงอิเล็กทรอนิกส์ พลังงานทดแทน และออปติก เมื่ออุตสาหกรรมยังคงพัฒนาและต้องการวัสดุที่มีประสิทธิภาพสูงขึ้น ความสำคัญของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตจะยิ่งเพิ่มขึ้น

Question 2

ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตถูกผลิตอย่างไร?

Accepted Answer

กระบวนการผลิตซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตประกอบด้วยหลายขั้นตอนที่สำคัญเพื่อให้มั่นใจในคุณภาพและประสิทธิภาพที่สูง กระบวนการเริ่มต้นด้วยการเลือกซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการผลิตสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตที่ตรงตามข้อกำหนดที่เข้มงวดของการใช้งานต่างๆ ขั้นตอนแรกในกระบวนการผลิตคือการทำให้ซิลิคอนบริสุทธิ์ ซึ่งมักจะทำได้ผ่านกระบวนการทางเคมีที่ช่วยขจัดสิ่งเจือปนและเพิ่มคุณภาพของวัสดุ ซิลิคอนที่บริสุทธิ์จะถูกหลอมและหล่อเป็นแท่งขนาดใหญ่ แท่งเหล่านี้จะถูกตัดเป็นแผ่นบาง ซึ่งใช้เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ต เมื่อแผ่นซิลิคอนถูกเตรียมแล้ว จะมีการทำกระบวนการที่เรียกว่าการเผา (sintering) ในระหว่างการเผา แผ่นจะถูกสัมผัสกับอุณหภูมิสูงในสภาพแวดล้อมที่ควบคุม ขั้นตอนนี้มีความสำคัญเนื่องจากช่วยขจัดความพรุนที่เหลืออยู่และเพิ่มความหนาแน่นของวัสดุ ผลลัพธ์คือเป้าหมายที่เป็นของแข็งและสม่ำเสมอซึ่งพร้อมสำหรับการประมวลผลเพิ่มเติม หลังจากการเผา ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตจะถูกกลึงเพื่อให้ได้ขนาดและพื้นผิวที่ต้องการ เทคนิคการกลึงที่แม่นยำจะถูกใช้เพื่อให้แน่ใจว่าเป้าหมายตรงตามข้อกำหนดที่จำเป็นสำหรับการใช้งานสปัตเตอร์ริง ขั้นตอนนี้มีความสำคัญ เนื่องจากข้อบกพร่องใดๆ ในเป้าหมายอาจนำไปสู่ความไม่สอดคล้องกันในกระบวนการเคลือบ สุดท้าย ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตจะต้องผ่านการทดสอบควบคุมคุณภาพเพื่อให้แน่ใจว่าตรงตามมาตรฐานอุตสาหกรรม ซึ่งอาจรวมถึงการทดสอบความบริสุทธิ์ ความหนาแน่น และลักษณะการทำงาน เป้าหมายที่ผ่านการทดสอบที่เข้มงวดเหล่านี้เท่านั้นที่จะถูกบรรจุและจัดส่งให้กับลูกค้าเพื่อใช้ในแอปพลิเคชันต่างๆ สรุปได้ว่าการผลิตซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตเป็นกระบวนการที่ซับซ้อนซึ่งต้องการความใส่ใจในรายละเอียดในทุกขั้นตอน ตั้งแต่การทำให้บริสุทธิ์ไปจนถึงการกลึงและการควบคุมคุณภาพ ทุกขั้นตอนมีความสำคัญในการผลิตเป้าหมายที่มีคุณภาพสูงซึ่งตรงตามความต้องการของเทคโนโลยีสมัยใหม่

Question 3

ประโยชน์ของการใช้ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตคืออะไร?

Accepted Answer

ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตมีข้อดีมากมายที่ทำให้เป็นตัวเลือกที่ต้องการในหลายแอปพลิเคชัน โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์ หนึ่งในข้อดีหลักของการใช้ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตคือความบริสุทธิ์สูง ซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นสิ่งจำเป็นเพื่อให้มั่นใจในประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือของส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์ กระบวนการสปัตเตอร์ริงช่วยให้สามารถเคลือบฟิล์มบางได้โดยมีการปนเปื้อนน้อยที่สุด ซึ่งเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการทำงานของอุปกรณ์ต่างๆ เช่น วงจรรวมและเซลล์แสงอาทิตย์ อีกหนึ่งข้อดีที่สำคัญคือความสามารถในการควบคุมความหนาและความสม่ำเสมอของฟิล์มที่เคลือบได้อย่างแม่นยำ กระบวนการสปัตเตอร์ริงช่วยให้ผู้ผลิตสามารถสร้างชั้นซิลิคอนที่มีความสม่ำเสมอในความหนา ซึ่งเป็นสิ่งสำคัญสำหรับประสิทธิภาพของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ระดับการควบคุมนี้มีความสำคัญโดยเฉพาะในแอปพลิเคชันที่แม้แต่การเปลี่ยนแปลงเล็กน้อยในความหนาของฟิล์มสามารถนำไปสู่ปัญหาประสิทธิภาพที่สำคัญ ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตยังมีการยึดเกาะที่ยอดเยี่ยมกับพื้นผิวต่างๆ คุณสมบัตินี้มีความสำคัญเพื่อให้แน่ใจว่าชั้นซิลิคอนที่เคลือบจะยังคงอยู่ในระหว่างขั้นตอนการประมวลผลถัดไป คุณสมบัติการยึดเกาะที่แข็งแกร่งของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตช่วยเพิ่มความทนทานและความน่าเชื่อถือของผลิตภัณฑ์สุดท้าย นอกจากนี้ ความหลากหลายของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตยังเป็นข้อได้เปรียบที่น่าทึ่ง พวกเขาสามารถใช้ในแอปพลิเคชันที่หลากหลาย ตั้งแต่การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ไปจนถึงการเคลือบทางแสงและอุปกรณ์ MEMS ความหลากหลายนี้ทำให้ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตเป็นวัสดุที่มีค่าสำหรับผู้ผลิตที่ต้องการปรับปรุงกระบวนการผลิตและลดต้นทุนวัสดุ นอกจากนี้ กระบวนการสปัตเตอร์ริงเองยังเป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อมเมื่อเปรียบเทียบกับวิธีการเคลือบอื่นๆ มันสร้างของเสียน้อยลงและอนุญาตให้มีการรีไซเคิลวัสดุ ซึ่งช่วยสนับสนุนการปฏิบัติการผลิตที่ยั่งยืนมากขึ้น สรุปได้ว่าข้อดีของการใช้ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตมีมากมายและมีความสำคัญ ตั้งแต่ความบริสุทธิ์สูงและการควบคุมความหนาของฟิล์มที่แม่นยำไปจนถึงการยึดเกาะที่ยอดเยี่ยมและความหลากหลาย เป้าหมายเหล่านี้มีบทบาทสำคัญในการพัฒนาเทคโนโลยีในหลายอุตสาหกรรม

Question 4

เมื่อเลือกซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตควรพิจารณาปัจจัยใดบ้าง?

Accepted Answer

เมื่อเลือกซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตสำหรับแอปพลิเคชันเฉพาะ มีปัจจัยสำคัญหลายประการที่ต้องพิจารณาเพื่อให้แน่ใจว่าประสิทธิภาพและความเข้ากันได้ที่ดีที่สุด หนึ่งในปัจจัยหลักคือความบริสุทธิ์ของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ต ซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการใช้งานในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งแม้แต่สิ่งเจือปนเล็กน้อยก็สามารถส่งผลกระทบอย่างมากต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ดังนั้นจึงเป็นสิ่งสำคัญที่จะต้องเลือกเป้าหมายที่มีระดับความบริสุทธิ์ที่ตรงตามข้อกำหนดเฉพาะของแอปพลิเคชันที่ตั้งใจ อีกปัจจัยที่สำคัญคือขนาดและรูปทรงของเป้าหมาย ซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตมีหลายขนาดและรูปทรง และการเลือกจะขึ้นอยู่กับระบบสปัตเตอร์ริงที่ใช้ จำเป็นต้องตรวจสอบให้แน่ใจว่าขนาดของเป้าหมายเข้ากันได้กับอุปกรณ์สปัตเตอร์ริงเพื่อให้ได้ผลลัพธ์การเคลือบที่ดีที่สุด อัตราการเคลือบยังเป็นปัจจัยสำคัญที่ต้องพิจารณา แอปพลิเคชันต่างๆ อาจต้องการอัตราการเคลือบที่แตกต่างกัน และการเลือกเป้าหมายที่สามารถให้ระดับที่ต้องการเป็นสิ่งสำคัญสำหรับการตอบสนองต่อเวลาในการผลิตและมาตรฐานคุณภาพ การเข้าใจความสัมพันธ์ระหว่างวัสดุเป้าหมายและอัตราการเคลือบสามารถช่วยให้ผู้ผลิตปรับแต่งกระบวนการของตนได้ นอกจากนี้ คุณสมบัติทางความร้อนของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตควรได้รับการพิจารณา ความสามารถของเป้าหมายในการทนต่ออุณหภูมิสูงในระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์ริงมีความสำคัญต่อการรักษาความสมบูรณ์และประสิทธิภาพ การเลือกเป้าหมายที่มีคุณสมบัติทางความร้อนที่เหมาะสมสามารถช่วยป้องกันปัญหาต่างๆ เช่น การเสื่อมสภาพหรือการล้มเหลวของเป้าหมายในระหว่างการทำงาน สุดท้าย ราคาของซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตเป็นปัจจัยที่สำคัญ ในขณะที่เป้าหมายคุณภาพสูงอาจมีราคาสูง แต่สิ่งสำคัญคือต้องชั่งน้ำหนักต้นทุนกับประโยชน์ที่อาจเกิดขึ้นในด้านประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือ การลงทุนในซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตที่มีคุณภาพสูงสามารถนำไปสู่ประสิทธิภาพการผลิตที่ดีขึ้นและลดของเสีย ซึ่งในที่สุดจะส่งผลให้เกิดการประหยัดต้นทุนในระยะยาว สรุปได้ว่าการเลือกซิลิคอนสปัตเตอร์ริงทาร์เก็ตที่เหมาะสมเกี่ยวข้องกับการพิจารณาปัจจัยต่างๆ เช่น ความบริสุทธิ์ ขนาด อัตราการเคลือบ คุณสมบัติทางความร้อน และต้นทุน โดยการพิจารณาปัจจัยเหล่านี้ ผู้ผลิตสามารถมั่นใจได้ว่าพวกเขาเลือกเป้าหมายที่เหมาะสมที่สุดสำหรับแอปพลิเคชันเฉพาะของตน ซึ่งนำไปสู่ประสิทธิภาพและประสิทธิผลที่ดีขึ้นในกระบวนการผลิตของพวกเขา

เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอน70+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

เป้าหมายเซรามิคโพลี - ซิลิคอนสำหรับเป้าหมายพัตต์ / ผลิตไฟฟ้าด้วยพลังงานแสงอาทิตย์

เป้าหมายโมโนซิลิคอน เซรามิกโมโนคริสตัลไลน์สำหรับการสปัตเตอร์ เป้าหมายพลังงานแสงอาทิตย์ โทรศัพท์มือถือ

SiO2 เป้าหมายเซรามิกที่มีการสปัตเตอร์ซิลิกอนออกไซด์สำหรับการเคลือบฟิล์ม PVD

เป้าหมายการเชื่อมเคลือบเซรามิคเคลือบเซรามิค Monocrystalline สำหรับเป้าหมายอินพุต / โทรศัพท์มือถือ

บรรจุสูญญากาศ อลูมิเนียม ซิลิคอน 99.999% อัลซิ 99/1wt% เป้าหมายการสปัตเตอร์ ขนาดที่กำหนดเอง

คอมพาวด์ Si3n4 เป้าหมายซิลิกอนไนโตรเจนสำหรับการสปัตเตอร์เพื่อการเคลือบ PVD

ไทเทเนียมซิลิคอน 99.9% ไทเทเนียมซิลิคอนบริสุทธิ์ Tisi20at% เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ

99.999% แผ่นเป้าซิลิคอนที่ไม่มีการดัดแปลงสำหรับการเคลือบ PVD

99.999% เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ซิลิคอนบริสุทธิ์ ซิลิคอนโมโนและโพลีคริสตัล

ทิอัลซิ สังกะสี อลูมิเนียม ซิลิกอน โลหะผสม สำหรับการเคลือบด้วยแมกนีตรอน

3n5, 4n อลูมิเนียมซิลิคอนอัลลอยด์สำหรับการใช้งานในเซมิคอนดักเตอร์

เป้าหมายโลหะผสมไนโครซี่นิกเกิลโครเมียมซิลิคอนสำหรับการเคลือบด้วยการพ่นสูญญากาศ

วัสดุเป้าหมายการสปัตเตอร์สูญญากาศอัลลอยซิลิคอนบริสุทธิ์สูง

ซิลิคอนรอบเป้าหมายความบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสุญญากาศ/การเคลือบด้วย PVD

เป้าหมายซิลิคอนไนไตรด์ Si3o4 เป้าหมาย

6n แผ่นซิลิคอนบริสุทธิ์สูง, แผ่นรองและการยึดติดมีให้บริการ

เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนอะลูมิเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับอุตสาหกรรมฟิล์มบาง

99.98%~99.998% อลูมิเนียม Al เป้าหมายสำหรับตัวเก็บประจุอิเล็กโทรไลติก

เป้าหมายทังสเตน 99.999% ความบริสุทธิ์สูง เป้าหมายการพ่นเคลือบทังสเตนสำหรับการเคลือบ

ไทเทเนียม ทังสเตน Wti10 เป้าหมายการสปัตเตอร์ 99.99%

ซิลิคอน 705 เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับโซลูชันโลหะที่มีคุณภาพสูงแบบกำหนดเอง

เป้าหมายการสปัตเตอร์เซอร์โคเนียมคุณภาพสูง 705 สำหรับโซลูชันที่กำหนดเองในวันนี้

แผ่นเป้าหมายสปัตเตอร์โลหะฮาฟเนียมที่มีความทนทานต่อการสึกหรอหลายฟังก์ชันแบบขายส่ง

การกลึงที่มีความแม่นยำทนต่อความเมื่อยล้าขายส่งแผ่นฮาฟเนียมบริสุทธิ์

Sio2 การผลิตซิลิคอนเป้าหมายแบบสปัตเตอร์ริ่ง

ซิลิกอนออกไซด์ Sio2 ดิสก์ที่กำหนดเอง โรงงานในประเทศจีน

วัสดุดิบความบริสุทธิ์สูง 99.7% ซิลิคอนแท่งโลหะเป้าหมายซิลิคอนบริสุทธิ์แท่งเป้าหมายการพ่นวัสดุ

ซิลิคอนพอลิคริสตัลไลน์บริสุทธิ์ 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนพอลิซิลิคอน

ชิ้นงานแบบหมุนโพลีเอสเตอร์ศรี / หมุนโนซิลิคอนท่อ / การเคลื่อนที่สำหรับ Magnetoron สปัตเตอริง

ชิ้นงานแบบหมุนโพลีเอสเตอร์ศรี / หมุนโนซิลิคอนท่อ / การเคลื่อนที่สำหรับ Magnetoron สปัตเตอริง

เป้าหมายซิลิคอนหมุนที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% สำหรับเซลล์แสงอาทิตย์

เป้าทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์สูงและขัดเงาสำหรับการใช้งานการโจมตีด้วยไอออนขั้นสูง

เป้าหมายโมลิบดีนัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานอุตสาหกรรมขั้นสูง

เป้าหมายโมลิบดีนัมบริสุทธิ์ความหนาแน่นสูง 99.9% 100mm เส้นผ่านศูนย์กลางเคลือบฟิล์มบางเลือก RoHS

เป้าหมายทังสเตนหมุนเวียนพรีเมียมสำหรับการใช้งานการสปัตเตอร์ที่มีประสิทธิภาพ

เครื่องเคลือบ PVD เทคโนโลยีสูงสำหรับเครื่องมือกัดโลหะคาร์ไบด์

ระบบเคลือบ PVD ไทเทเนียมไนไตรด์อลูมิเนียมขนาดเล็กสำหรับเคลือบเครื่องมือแข็งที่มีการควบคุมคุณภาพสูง

PVD Target Aluminum Al Cylindrical Rotatable Sputter Target 99.999% Purity 2n-5n Available

เป้าหมายของ Uvtm เกี่ยวกับนิทรรศการสำหรับการเคลือบสีแบบวิกเกอร์สปี 13249153016

Rotary Indium Target in Sputtering Target

เป้าหมายฟอสฟอรัสเป้าหมาย SIP Silicon Phฟอสฟอรัส เป้าหมาย

n เป้าหมายของ 99.99 Purity Silicon PhoBosphorus SInputering

ชุดควบคุมความจุ 99.999 % Cu CupRum CU ปรับขนาดได้ตามความต้องการแบบหมุนเป้าหมาย เป้าหมายการพัตต์ทองแดง

3n แผ่นเป้าสำหรับการสปัตเตอร์ซิลิคอนบริสุทธิ์สูงและอลูมิเนียม / เป้าหมายหมุนอลูมิเนียมซอลิคน

99.999% แผ่นเป้าหมายซิลิคอนโมโนคริสตัลบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์/เป้าหมายเซรามิกซิลิคอน

3n แผ่นเป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนโครเมียมบริสุทธิ์สูง / เป้าหมายหมุนซิลิคอนโครเมียม

ท่อเป้ากราฟิตที่มีความบริสุทธิ์สูงและประสิทธิภาพสูงที่ปรับแต่งได้

ท่อกราไฟต์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและประสิทธิภาพสูงพร้อมการนำไฟฟ้าที่สม่ำเสมอและการสึกหรอที่ต่ำ

แท่งเชื่อมต่อกราไฟต์ทนความร้อนสูงสำหรับการใช้งานในอุตสาหกรรม

ผู้ผลิตที่กำหนดเองของอิเล็กโทรดกราไฟต์และผลิตภัณฑ์กราไฟต์สำหรับเตาเผาอุณหภูมิสูงและเตาเผาโมโนผลึก

อะลูมิเนียมเป้าหมายอัลลอยอัลซี่อัลลอยอัลลอยที่หมุนได้ 99.99 เปอร์เซ็นต์ เป้าหมาย

ชิ้นงาน SI แบบหมุนได้ , สเปรย์พลาสมาสุญญากาศ , เป้าหมาย Magnetoron SOutput

เป้าหมาย SI Planar สำหรับเคลือบฟิล์ม PVD Thin Film ชนิด P-Type เป้าหมาย Silicon Planar Slopering

ชิ้นงานแบบหมุนทำจากอะลูมิเนียมซิลิโคน ( ชิ้นงานสปีปัตเตอริงคุณภาพสูง )

เป้าหมายพลาเท ering ไทเทเนียมสำหรับ Purity Planetarity สูงจากหมายเลข 2n6 ถึง 4n, 4n5, 5n

เป้าหมายเทเนียมสเทอริงที่การฟอกแบบ High Purity

ซัพพลายเออร์เป้าหมายของการป้อนข้อมูลคุณภาพสูงในประเทศจีน

คุณภาพสูงของแผ่นดิสก์โมลิบดีนัม

คริสตัลโมลิบดีนัมประสิทธิภาพสูงสำหรับโลหะผง

หม้อหลอมโมลิบดีนัมตามแบบของศุลกากร

ท่อโมลิบดีนัมและท่อโมลิบดีนัม

เป้าหมายซิลิคอนแบบแผ่นสำหรับการสปัตเตอร์และการเคลือบสุญญากาศ

เป้าหมายหมุน U-Spring Sial / เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการสปัตเตอร์แม่เหล็กและการเคลือบสุญญากาศ

เป้าหมายหมุนแบบยูสปริง / เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการสปัตเตอร์แบบแมกนตรอนและการเคลือบสุญญากาศ

เป้าหมายเทนเซอร์อะลูมิเนียม

ชิ้นงานสปัตเตอริง

Si Target in Flat Panel Display Industry

เป้าหมายสำหรับการพัตต์เซรามิค All2O3

เป้าหมายซิลิคอนโครเมียม (Cri)

หมุนเป้าหมายซิลิคอน

เป้าหมายพัตต์เองสำหรับการใส่ไทเทเนียม OLED ITO 99.99 % ทองแดงอิเล็กทรอนิกส์ซิลิคอน ส่วนประกอบ

เคลือบด้วยสุญญากาศบนพื้นผิว PVD Thin Film ตำแหน่งเคลือบทองแดง Cathodic ชิ้นงานที่มีการสปัตเตอริง

เป้าหมายการพัตต์ซิลิคอน

ชิ้นงานเซรามิค , เคลือบ PVD แบบสปัตเตอริง

เป้าหมายการพัตต์ซิลิคอน

เครื่องเคลือบฟิล์มบางเซมิคอนดักเตอร์ด้วยการระเหิดด้วยลำแสงอิเล็กตรอน

แหล่งไอออนเพิ่มประสิทธิภาพเครื่องเคลือบด้วยการระเหยของลำแสงอิเล็กตรอน

ระบบเคลือบด้วยการระเหยแบบอินทรีย์ อนินทรีย์ รวมกัน

350 ระบบเคลือบด้วยการระเหิดความร้อนจากแหล่งที่สี่ ชนิดอินทรีย์และอนินทรีย์