Question 1

แผ่นซิลิคอนใช้ทำอะไร?

Accepted Answer

แผ่นซิลิคอน ซึ่งมักเรียกว่าแผ่น Si เป็นแผ่นบางของผลึกซิลิคอนที่ทำหน้าที่เป็นฐานสำหรับอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ แผ่นเหล่านี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งใช้ในการผลิตวงจรรวม (ICs) เซลล์แสงอาทิตย์ และชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ การใช้งานหลักของแผ่น Si คือในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับอิเล็กทรอนิกส์สมัยใหม่ รวมถึงคอมพิวเตอร์ สมาร์ทโฟน และอุปกรณ์ดิจิทัลอื่นๆ
กระบวนการสร้างแผ่นซิลิคอนเริ่มต้นด้วยการทำให้ซิลิคอนบริสุทธิ์ ซึ่งได้มาจากทราย ซิลิคอนที่บริสุทธิ์จะถูกหลอมและสร้างเป็นโครงสร้างผลึกเดี่ยวผ่านกระบวนการที่เรียกว่ากระบวนการ Czochralski หลังจากที่ผลึกซิลิคอนถูกสร้างขึ้น จะถูกตัดเป็นแผ่นบาง โดยทั่วไปมีเส้นผ่านศูนย์กลางประมาณ 200 มม. ถึง 300 มม. แผ่นเหล่านี้จะต้องผ่านการบำบัดต่างๆ รวมถึงการขัดและทำความสะอาด เพื่อเตรียมพร้อมสำหรับการผลิตชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์
ในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ แผ่นซิลิคอนทำหน้าที่เป็นฐานซึ่งมีการฝากวัสดุหลายชั้น การกัดกร่อน และการสร้างรูปแบบเพื่อสร้างวงจรอิเล็กทรอนิกส์ที่ซับซ้อน กระบวนการนี้เกี่ยวข้องกับการถ่ายภาพด้วยแสง ซึ่งใช้แสงในการถ่ายโอนรูปแบบไปยังแผ่นซิลิคอน ตามด้วยการกัดกร่อนเพื่อลบวัสดุที่ไม่ต้องการ ผลลัพธ์คือการจัดเรียงของทรานซิสเตอร์และส่วนประกอบอื่นๆ ที่สามารถทำหน้าที่ต่างๆ ภายในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์
นอกจากบทบาทในอุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์แล้ว แผ่นซิลิคอนยังถูกใช้ในการผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ เซลล์แสงอาทิตย์ที่เปลี่ยนแสงแดดเป็นไฟฟ้ามักใช้แผ่นซิลิคอนเป็นวัสดุหลัก ประสิทธิภาพของเซลล์แสงอาทิตย์สามารถได้รับผลกระทบอย่างมากจากคุณภาพและความบริสุทธิ์ของซิลิคอนที่ใช้ ทำให้แผ่นซิลิคอนเป็นส่วนประกอบที่สำคัญในภาคพลังงานหมุนเวียน
โดยรวมแล้ว แผ่นซิลิคอนเป็นสิ่งที่ขาดไม่ได้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ ช่วยให้การผลิตอุปกรณ์ที่หลากหลายซึ่งขับเคลื่อนชีวิตประจำวันของเรา ความหลากหลายและบทบาทที่สำคัญในเทคโนโลยีทำให้แผ่นซิลิคอนเป็นจุดสนใจของการวิจัยและพัฒนาในด้านการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และแอปพลิเคชันพลังงานหมุนเวียน

Question 2

แผ่นซิลิคอนผลิตอย่างไร?

Accepted Answer

กระบวนการผลิตแผ่นซิลิคอนเป็นกระบวนการที่ซับซ้อนและควบคุมอย่างเข้มงวด ซึ่งประกอบด้วยหลายขั้นตอนสำคัญ การเดินทางเริ่มต้นด้วยการสกัดซิลิคอนจากทรายควอตซ์ ซึ่งจากนั้นจะถูกทำให้บริสุทธิ์เพื่อลบสิ่งเจือปน ซิลิคอนที่บริสุทธิ์นี้จะถูกหลอมในเตาเผาที่อุณหภูมิสูง โดยทั่วไปประมาณ 1,400 องศาเซลเซียส เพื่อสร้างพูลซิลิคอนหลอมเหลว
เมื่อซิลิคอนหลอมเหลวแล้ว จะมีการแนะนำผลึกเมล็ดพันธุ์เข้าสู่ซิลิคอนหลอมเหลว ผลึกเมล็ดพันธุ์นี้จะถูกดึงขึ้นอย่างช้าๆ ในขณะที่หมุน ทำให้ซิลิคอนหลอมเหลวตกผลึกไปรอบๆ กระบวนการนี้เรียกว่ากระบวนการ Czochralski ซึ่งส่งผลให้เกิดการสร้างแท่งซิลิคอนผลึกเดี่ยว คุณภาพของแท่งซิลิคอนมีความสำคัญ เนื่องจากจะกำหนดคุณสมบัติทางไฟฟ้าของแผ่นซิลิคอนที่ได้
หลังจากที่แท่งซิลิคอนถูกสร้างขึ้น จะถูกทำให้เย็นและตัดเป็นแผ่นบางโดยใช้เลื่อยเพชร ความหนาของแผ่นเหล่านี้อาจแตกต่างกัน แต่โดยทั่วไปจะมีความหนาประมาณ 0.5 มม. ถึง 1 มม. แผ่นที่ถูกตัดจะถูกขัดเพื่อให้ได้พื้นผิวที่เรียบ ซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับขั้นตอนการประมวลผลถัดไป กระบวนการขัดนี้จะลบรอยเลื่อยและข้อบกพร่องใดๆ เพื่อให้แน่ใจว่าแผ่นเหล่านี้เหมาะสมสำหรับการถ่ายภาพด้วยแสง
หลังจากการขัด แผ่นจะต้องผ่านกระบวนการทำความสะอาดเพื่อลบสิ่งปนเปื้อนที่อาจสะสมระหว่างการตัดและการขัด การทำความสะอาดนี้มีความสำคัญ เนื่องจากแม้แต่อนุภาคเล็กน้อยก็สามารถส่งผลกระทบต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์สุดท้าย แผ่นที่ทำความสะอาดแล้วจะถูกตรวจสอบหาข้อบกพร่อง และเฉพาะแผ่นที่ตรงตามมาตรฐานคุณภาพที่เข้มงวดเท่านั้นที่จะดำเนินการไปยังขั้นตอนถัดไป
เมื่อแผ่นซิลิคอนพร้อมแล้ว มักจะต้องผ่านการบำบัดเพิ่มเติม เช่น การดอปปิ้ง ซึ่งเป็นการแนะนำสิ่งเจือปนเพื่อปรับเปลี่ยนคุณสมบัติทางไฟฟ้าของซิลิคอน กระบวนการดอปปิ้งนี้มีความสำคัญในการสร้างซิลิคอนประเภท p-type และ n-type ซึ่งจำเป็นสำหรับการสร้างจุดตัด p-n ในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์
โดยสรุป การผลิตแผ่นซิลิคอนเป็นกระบวนการที่ต้องใช้ความละเอียดและความใส่ใจในรายละเอียด ตั้งแต่การสกัดซิลิคอนในขั้นต้นไปจนถึงการขัดและการดอปปิ้งขั้นสุดท้าย ทุกขั้นตอนมีบทบาทสำคัญในการรับประกันคุณภาพและประสิทธิภาพของแผ่นซิลิคอนที่ใช้ในแอปพลิเคชันอิเล็กทรอนิกส์ต่างๆ

Question 3

ประเภทต่างๆ ของแผ่นซิลิคอนคืออะไร?

Accepted Answer

แผ่นซิลิคอนมีหลายประเภท ซึ่งแต่ละประเภทถูกปรับแต่งสำหรับแอปพลิเคชันเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ประเภทที่พบบ่อยที่สุดของแผ่นซิลิคอน ได้แก่ แผ่นซิลิคอนผลึกเดี่ยว แผ่นซิลิคอนผลึกหลายตัว และแผ่นซิลิคอนอะมอร์ฟัส การทำความเข้าใจความแตกต่างระหว่างประเภทเหล่านี้เป็นสิ่งสำคัญสำหรับการเลือกแผ่นที่เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันที่กำหนด
แผ่นซิลิคอนผลึกเดี่ยวทำจากโครงสร้างผลึกเดี่ยว ซึ่งให้คุณสมบัติทางไฟฟ้าและประสิทธิภาพที่ดี แผ่นเหล่านี้มักถูกใช้ในแอปพลิเคชันที่มีประสิทธิภาพสูง เช่น ไมโครโปรเซสเซอร์และเซลล์แสงอาทิตย์ระดับสูง ความสม่ำเสมอของโครงสร้างผลึกในแผ่นซิลิคอนผลึกเดี่ยวช่วยให้การเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอนดีขึ้น ส่งผลให้ประสิทธิภาพในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ดีขึ้น
แผ่นซิลิคอนผลึกหลายตัวประกอบด้วยโครงสร้างผลึกหลายตัว แม้ว่าจะมีประสิทธิภาพต่ำกว่าแผ่นซิลิคอนผลึกเดี่ยว แต่ก็มีต้นทุนการผลิตที่ต่ำกว่า แผ่นซิลิคอนผลึกหลายตัวมักถูกใช้ในแผงโซลาร์เซลล์ ซึ่งมีข้อพิจารณาด้านต้นทุนเป็นสิ่งสำคัญ แม้ว่าจะมีประสิทธิภาพต่ำกว่าเล็กน้อย แต่ความก้าวหน้าในเทคโนโลยีได้ปรับปรุงประสิทธิภาพของแผ่นซิลิคอนผลึกหลายตัวอย่างมีนัยสำคัญในช่วงหลายปีที่ผ่านมา
แผ่นซิลิคอนอะมอร์ฟัสเป็นแผ่นที่ไม่มีผลึกและมักถูกใช้ในเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบางและเทคโนโลยีการแสดงผลบางประเภท แผ่นเหล่านี้มีข้อดีสำหรับแอปพลิเคชันที่ต้องการวัสดุที่ยืดหยุ่นและมีน้ำหนักเบา อย่างไรก็ตาม โดยทั่วไปแล้วจะมีประสิทธิภาพต่ำกว่าเมื่อเปรียบเทียบกับแผ่นซิลิคอนผลึก
นอกจากประเภทหลักเหล่านี้ แผ่นซิลิคอนยังสามารถจัดประเภทตามระดับการดอปปิ้ง ความหนา และพื้นผิวได้ ตัวอย่างเช่น แผ่นสามารถมีการดอปปิ้งเบา หรือหนัก ขึ้นอยู่กับคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ต้องการ ความหนาของแผ่นยังสามารถแตกต่างกัน โดยแผ่นที่บางกว่าจะถูกใช้ในแอปพลิเคชันที่น้ำหนักและการใช้วัสดุเป็นสิ่งสำคัญ
โดยสรุป ประเภทต่างๆ ของแผ่นซิลิคอนมีวัตถุประสงค์ที่แตกต่างกันในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ แผ่นซิลิคอนผลึกเดี่ยว แผ่นซิลิคอนผลึกหลายตัว และแผ่นซิลิคอนอะมอร์ฟัสแต่ละประเภทมีคุณสมบัติที่เป็นเอกลักษณ์ซึ่งทำให้เหมาะสมกับแอปพลิเคชันเฉพาะ ตั้งแต่ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ที่มีประสิทธิภาพสูงไปจนถึงโซลูชันพลังงานแสงอาทิตย์ที่คุ้มค่า

Question 4

บทบาทของแผ่นซิลิคอนในพลังงานแสงอาทิตย์

Accepted Answer

แผ่นซิลิคอนมีบทบาทสำคัญในอุตสาหกรรมพลังงานแสงอาทิตย์ โดยทำหน้าที่เป็นวัสดุหลักสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์ (PV) ที่เปลี่ยนแสงแดดเป็นไฟฟ้า ประสิทธิภาพและประสิทธิผลของแผงโซลาร์เซลล์ขึ้นอยู่กับคุณภาพและประเภทของแผ่นซิลิคอนที่ใช้ในการก่อสร้าง การทำความเข้าใจบทบาทของแผ่นซิลิคอนในพลังงานแสงอาทิตย์สามารถทำให้เห็นความสำคัญของพวกมันในโซลูชันพลังงานหมุนเวียน
ในเซลล์แสงอาทิตย์ แผ่นซิลิคอนถูกใช้เพื่อสร้างจุดตัด p-n ซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นในการผลิตไฟฟ้าเมื่อสัมผัสกับแสงแดด เมื่อฟอตอนของแสงกระทบแผ่นซิลิคอน จะกระตุ้นอิเล็กตรอน สร้างคู่ของอิเล็กตรอน-หลุม จุดตัด p-n ช่วยให้การเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอนเหล่านี้เกิดขึ้น สร้างกระแสไฟฟ้าที่สามารถนำไปใช้เป็นพลังงานได้ ประสิทธิภาพของกระบวนการนี้ขึ้นอยู่กับความบริสุทธิ์และโครงสร้างผลึกของซิลิคอนที่ใช้ในแผ่น
แผ่นซิลิคอนผลึกเดี่ยวมักได้รับความนิยมสำหรับแผงโซลาร์เซลล์ที่มีประสิทธิภาพสูงเนื่องจากคุณสมบัติทางไฟฟ้าที่ดี แผ่นเหล่านี้มีโครงสร้างผลึกที่สม่ำเสมอ ช่วยให้การเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอนดีขึ้นและอัตราการแปลงพลังงานสูงขึ้น ดังนั้น แผงโซลาร์เซลล์ผลึกเดี่ยวจึงมักมีคะแนนประสิทธิภาพสูงกว่าเมื่อเปรียบเทียบกับแผงที่ทำจากแผ่นซิลิคอนผลึกหลายตัวหรืออะมอร์ฟัส
แผ่นซิลิคอนผลึกหลายตัว แม้ว่าจะมีประสิทธิภาพต่ำกว่า แต่ก็มีต้นทุนการผลิตที่ต่ำกว่า ทำให้เป็นตัวเลือกที่ได้รับความนิยมสำหรับการติดตั้งพลังงานแสงอาทิตย์ขนาดใหญ่ซึ่งมีข้อพิจารณาด้านต้นทุนเป็นสิ่งสำคัญ ความก้าวหน้าในเทคนิคการผลิตได้ปรับปรุงประสิทธิภาพของเซลล์แสงอาทิตย์ผลึกหลายตัว ทำให้เป็นตัวเลือกที่เหมาะสมสำหรับการใช้งานหลายประเภท
แผ่นซิลิคอนอะมอร์ฟัสถูกใช้ในเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง ซึ่งมีน้ำหนักเบาและยืดหยุ่น แผ่นซิลิคอนประเภทนี้มีความเหมาะสมโดยเฉพาะในแอปพลิเคชันที่แผงแข็งแบบดั้งเดิมอาจไม่เหมาะสม แม้ว่าเซลล์ซิลิคอนอะมอร์ฟัสจะมีประสิทธิภาพต่ำกว่า แต่ความหลากหลายและความสะดวกในการรวมเข้ากับพื้นผิวต่างๆ ทำให้เป็นตัวเลือกที่น่าสนใจสำหรับตลาดบางแห่ง
โดยสรุป แผ่นซิลิคอนมีความสำคัญต่อภาคพลังงานแสงอาทิตย์ ช่วยให้การผลิตเซลล์แสงอาทิตย์ที่มีประสิทธิภาพซึ่งใช้แสงแดดในการผลิตไฟฟ้า การเลือกประเภทของแผ่นซิลิคอนสามารถส่งผลกระทบอย่างมากต่อประสิทธิภาพและความคุ้มค่าของแผงโซลาร์เซลล์ ทำให้เป็นส่วนประกอบที่สำคัญในการเปลี่ยนไปสู่แหล่งพลังงานหมุนเวียน

ซิลิคอนเวฟเฟอร์100+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

12 แผ่นซิลิคอนเวเฟอร์ชนิดผลึกเดี่ยวขนาดหนึ่งนิ้ว ประเภท N/P ทางเลือก ซิลิคอนคาร์ไบด์ เวเฟอร์ซิลิคอน

ขายดี แผ่นซิลิคอนสำหรับการวิจัยในห้องปฏิบัติการ ขนาด 4 นิ้ว สำหรับเซมิคอนดักเตอร์

ขายส่งแผ่นซิลิคอนโมโนคริสตัลลีน 12inch แผ่นซิลิคอนปลอม

วัสดุเซมิคอนดักเตอร์ซิลิคอนคริสตัลเดี่ยวชนิด N/P ที่ผ่านการขัดเงา

แผ่นซิลิคอนคริสตัลเดี่ยวที่ปรับแต่งได้ ซับสเตรตซิลิคอน ตัวเลือกแผ่นซิลิคอนคาร์ไบด์

แผ่นซิลิคอนเกรดออปติคัลความแม่นยำสูง ประเภท P สำหรับขัดพื้นผิวสำหรับสเปกโตรมิเตอร์อินฟราเรด

แผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์ชนิด P-Type และ N-Type ที่ผ่านการขัดเงาเดี่ยว 4-8inch ซับสเตรตซิลิคอน เวเฟอร์ซิลิคอน

แผ่นซิลิคอนชนิด P ที่มีการดัดแปลง แผ่นซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์ออกไซด์

แผ่นซิลิคอนชนิด N ที่มีการเคลือบเงาทั้งสองด้าน สำหรับการใช้งานในหลอดแสงและหลอดไฟ LED

2/4/6/8/12 ความต้านทานสูงประเภท N ของซิลิคอน Si แผ่นเวเฟอร์ ขนาด

หน้าต่าง IR ส่องสว่างด้วยซิลิคอนเวเฟอร์แผ่นความร้อนที่มีการเคลือบอาร์สำหรับการใช้งาน NIR

การจัดจำหน่ายซิลิคอนเวเฟอร์ Far IR คุณภาพสูง

สต็อก D100/150/200mm T500-1000um ดัมมี่ ไพรม์ เทสต์ ซิลิคอน ซิลิคอน วาฟเฟอร์

แผ่นซิลิคอนขัดเงาเกรดกึ่ง 4 นิ้ว 100mm ซิลิคอนเวเฟอร์

เกรดพรีเมียมซิลิคอนเวเฟอร์เกรดไอซี เวเฟอร์โมโนคริสตัลไลน์ซิลิคอน เวเฟอร์เอ็มซีซีย์

ยุตัย 2/3/4/5/6/8 อินช์ ออกไซด์ ซิลิคอน เวเฟอร์ ซิโอ เวเฟอร์ Sio2 ซิ เวเฟอร์

แผ่นซิลิคอนคาร์ไบด์ชนิด N ที่ผ่านการขัดเงาสองด้าน แผ่นเซมิคอนดักเตอร์

แผ่นซิลิคอนคาร์ไบด์ชนิด N ที่ผ่านการขัดเงา 4h

ซิลิคอนเวเฟอร์ผลึกเดี่ยว ประเภทซับสเตรตซิลิคอนชนิด N/P ทางเลือกเวเฟอร์ซิลิคอนคาร์ไบด์

4 นิ้ว 6inch วัสดุเวเฟอร์ซิกสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ ชนิด Si-N ชนิด Si-P

ซิลิคอนเวเฟอร์ 2 / 3 / 4 / 5 / 6 / 8 นิ้ว ขัดด้านเดียว Si Wafer

หน้าต่างซิลิคอน (ซิ) และแผ่นซิลิคอน (ซิ) มีสินค้าในสต็อก

หน้าต่างแก้วซิลิคอนออปติคัล ซิลิคอนเวเฟอร์ความแม่นยำสูง ราคา

ประเภทแผ่นซิลิคอนผลึกเดี่ยว

ซิลิคอนเวเฟอร์ความแม่นยำสูงสำหรับออปติกและอิเล็กทรอนิกส์

หน้าต่างซิลิคอนบริสุทธิ์สูง แผ่นซิลิคอนที่มีความแม่นยำสำหรับระบบเลเซอร์

หน้าต่างซิลิคอนอินฟราเรดที่กำหนดเองความแม่นยำสูง แก้วอินฟราเรดแบนเวเฟอร์ซิลิคอน

ซิลิคอนเวเฟอร์ขนาดใหญ่ที่มีความบริสุทธิ์สูงและผ่านการขัดเงาในระดับเซมิคอนดักเตอร์

แผ่นซิลิคอน แผ่นซิลิคอนโมโนคริสตัล/แผ่นซิลิคอน/แผ่นประเภทเอ็น/แผ่นประเภทพี

6-Inch ซิลิคอนเวเฟอร์ ซิลิคอนเวเฟอร์ เวเฟอร์ เซมิคอนดักเตอร์เวเฟอร์

8-Inch ซิลิคอนเวเฟอร์ ซิลิคอนเวเฟอร์ เวเฟอร์ เซมิคอนดักเตอร์เวเฟอร์

ซิลิคอนเวเฟอร์คุณภาพสูง - 12-Inch ขนาดสำหรับการผลิตอิเล็กทรอนิกส์

ซิลิคอนเวเฟอร์เกรดออปติคัล / เวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์สำหรับเลเซอร์และส่วนประกอบออปติคัลอินฟราเรด

เวเฟอร์ซิลิคอนแบบพรีเมียมที่กำหนดเองสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง

เลนส์ซิลิคอนออปติกพรีเมียมสำหรับการถ่ายภาพอินฟราเรดความละเอียดสูง

เลนส์ซิลิคอนอินฟราเรดประสิทธิภาพสูงสำหรับการถ่ายภาพที่ดียิ่งขึ้น

100mm ซิลิคอนโมโนคริสตัล Wafer/4 แผ่นซิลิคอนขนาดนิ้ว

2"3"4"6"8"12" 100 การจัดแนว Ssp/DSP ไพรม์ ดัมมี่/IC เกรด ซิลิคอน เวฟเฟอร์

2" 3" 4" 5" 6" 8" 12" แผ่นซิลิคอน ประเภท P หรือ N ทดสอบหลัก ตัวอย่าง (100) (110) (111)

2 นิ้ว 50.8mm วัสดุซิลิคอนที่โดปด้วยโบรอนประเภท N

ซิลิคอนคาร์ไบด์เวเฟอร์ 6 นิ้ว 4h เซมิอินซูเลติง

ซิลิคอนคาร์ไบด์เวเฟอร์ 4 นิ้ว 4h ประเภท N เซมิเกรด

ซิลิคอนคาร์ไบด์เวเฟอร์ 2 นิ้ว 6h ประเภทพีเกรด

ซิลิคอนคาร์ไบด์ซับสเตรตเวเฟอร์ 100mm 0.5mm ขัดเงา 4h-Sic

การตัดเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์อย่างแม่นยำด้วยเทคโนโลยีลับขั้นสูง

ระบบวางชิ้นส่วนเวเฟอร์อัตโนมัติขั้นสูงสำหรับการผลิตที่แม่นยำ

โซลูชันการผลิตเวเฟอร์ที่มีความแม่นยำสูงสำหรับวิศวกรรมระดับโลก

เครื่องตัดเวเฟอร์ซิลิคอน/ซิลิคอนคาร์ไบด์ที่มีเทคโนโลยีการปรับตำแหน่งอัตโนมัติขั้นสูง

คุณภาพสูง 6-Inch 4h-Sic แผ่นเวเฟอร์เอพิตักเซียล

ขายร้อน 4-Inch แผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนคาร์ไบด์ที่มีการเติบโตแบบ epitaxial ถูกใช้ในการผลิตอุปกรณ์ MEMS

เครื่องตัดตัวอย่าง CNC ที่มีความแม่นยำพร้อมอุปกรณ์เสริม

เตาอบฟิล์มฮาโลเจนแนวตั้งสำหรับการอบอ่อนอย่างรวดเร็วในห้องปฏิบัติการ

เซมิคอนดักเตอร์ 4h แผ่นซิลิคอนคาร์ไบด์สำหรับอิเล็กทรอนิกส์พลังงาน

ซิลิคอนโลหะ - 30% ผลผลิตเวเฟอร์ที่สูงขึ้น + 20% การใช้พลังงานที่น้อยลง

การจัดหาซิลิคอนคาร์ไบด์สีเขียวในรูปแบบก้อน 98% สำหรับการตัดแผ่นเซลล์แสงอาทิตย์

โรงงานจัดหา 2-4-6 นิ้ว ฟาร์ IR ซิลิคอน Si แผ่นเวเฟอร์ คริสตัล คุณภาพสูง Si แผ่นเวเฟอร์

130003263 ชาร์มิลส์ เครื่องตัดลวดอีดีเอ็ม แบบหกเหลี่ยมที่มีแขน

แผ่นซิลิคอนคาร์ไบด์แบบกำหนดเองสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ ประเภท N/P

150 มม . RF GN SI HMT Epi Epi สำหรับผู้ผลิตและซัพพลายเออร์

ผู้ผลิตเวเฟอร์ Si 500 ถึง 600um SIC

ผู้ผลิตแผ่นเวเฟอร์ Gan ขนาด 4 นิ้วที่มีการวัดขนาด N ชนิด Si

SI ผู้ผลิตเวเฟอร์แบบฟรีสีขนาด 2 นิ้ว

หนาน owin 4~6 นิ้วอัล n Epiptaxial เวเฟอร์ / เทมเพลต Aln (AlN on Sapphire / Ain on Si / AlN on SIC)

CVD เวเฟอร์เพชรระดับเพชร / ความร้อนเพชร 2 นิ้ว อ่างล้างหน้า

Nantowin Gan Epetaxial เวเฟอร์ / GaN on SIC (GaN/SIC)

เท็มเพลต Nantowin 4~6 นิ้วแบบ GN Epetaxial เวเฟอร์ /GaN Epi เวเฟอร์ /GaN (Gan ON Se/ GaN on SIC/ GaN on GN/ เกา N ทำแซฟไฟร์ )

SIC/SI/SI/Gcd/Gcd/Inp/SO/ST/TS/SV) TPV/Tcv/TTGV เวเฟอร์

6/8 นิ้ว Semiconductor 4 นิ้วเวเฟอร์ซิลิคอนชนิด 2 เซมิคอนดักเตอร์

ซิลิคอนผลึกเดี่ยวขนาด 2 นิ้ว 6 นิ้ว 8 นิ้ว 12 นิ้ว ตัวตั้งต้น N/C ประเภท P SSP <2> 100 <1> PRIN/ ทดสอบ / เกรดการผลิต 111

210mm*210mm ประเภท P แผ่นซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์สำหรับเซลล์แสงอาทิตย์

ประเภท P แผ่นเซลล์แสงอาทิตย์โมโนคริสตัลไลน์

ประเภท N โมโนผลึกซิลิคอนแผ่นเซลล์แสงอาทิตย์

ประเภท P โพลี แบล็ค ซิลิคอน แผ่นเซลล์แสงอาทิตย์

แผ่นเซรามิกไนไตรด์อะลูมิเนียมที่มีความนำความร้อนสูงสำหรับอุตสาหกรรม

วัสดุเซรามิกอลูมิเนียมไนไตรด์แผ่นที่มีการนำความร้อนสูง

แผ่นเซรามิกไนไตรด์อะลูมิเนียมที่ปรับแต่งได้สำหรับการกระจายความร้อน

แผ่นเซรามิกอัลนิตไตรด์ที่มีฉนวน

ดีดึงลึกอลูมิเนียมแผ่นสำหรับเครื่องครัว (A1050, 1060, 1100, 3003, 8011)

การผลิตแบบมิลล์ 3003 วัสดุก่อสร้าง 3005 H14 แผ่นอลูมิเนียม