หน้าหลักarrow-rightดัชนีโรงงานของจีนarrow-rightเป้าหมาย Pvd โรงงานarrow-rightรายการของซัพพลายเออร์
ฟิลเตอร์
หมวดหมู่สินค้า
เพิ่มเติม
การรับรองระบบการจัดการ
เพิ่มเติม
ขีดความสามารถด้านวิจัยและพัฒนา
รายได้ประจำปี
เพิ่มเติม
จำนวนพนักงาน
จังหวัดและภูมิภาค
เพิ่มเติม
เกี่ยวกับ เป้าหมาย Pvd
  • นวัตกรรมเทคโนโลยี
  • ซัพพลายเชนที่เชื่อถือได้
  • ความสามารถในการผลิตอย่างครบวงจร

เป้าหมาย Pvd100+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
99.95% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียมบริสุทธิ์ เป้าหมายโครเมียมบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบ PVD

99.95% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียมบริสุทธิ์ เป้าหมายโครเมียมบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบ PVD

US$30.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเคลือบ PVD ของซินกัง โลหะ ไทเทเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบแผ่นกลม

วัสดุเคลือบ PVD ของซินกัง โลหะ ไทเทเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบแผ่นกลม

US$35.00-45.00
1 บางส่วน(MOQ)
99.99 ออกไซด์นีโอบีอัมบริสุทธิ์ Nb2o5 ผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ PVD

99.99 ออกไซด์นีโอบีอัมบริสุทธิ์ Nb2o5 ผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ PVD

US$500.00-1,500.00
1 กก.(MOQ)
4n 99.99% เป้าหมายทองแดงบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ PVD

4n 99.99% เป้าหมายทองแดงบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ PVD

US$45.00-125.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
โรงงานเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 แผ่นเป้าหมายสำหรับการเคลือบ PVD แผ่นดิสก์เซอร์โคเนียม

โรงงานเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 แผ่นเป้าหมายสำหรับการเคลือบ PVD แผ่นดิสก์เซอร์โคเนียม

US$1.00-3,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ท่อเป้าซีลิโคน Zr702 เป้าซีลิโคนสำหรับการเคลือบ PVD

ท่อเป้าซีลิโคน Zr702 เป้าซีลิโคนสำหรับการเคลือบ PVD

US$1.00-3,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นเป้าหมายซึ่งทำจากเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 สำหรับการเคลือบด้วย PVD เซอร์โคเนียมดิสก์

แผ่นเป้าหมายซึ่งทำจากเซอร์โคเนียม Zr702 Zr705 สำหรับการเคลือบด้วย PVD เซอร์โคเนียมดิสก์

US$1.00-3,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นเป้าสำหรับการเคลือบ PVD จากเซอร์โคเนียมคุณภาพสูง Zr702 Zr705

แผ่นเป้าสำหรับการเคลือบ PVD จากเซอร์โคเนียมคุณภาพสูง Zr702 Zr705

US$1.00-3,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบแผ่นท่อทังสเตน Ti/W สำหรับการเคลือบ PVD ราคาคุ้มค่า

เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบแผ่นท่อทังสเตน Ti/W สำหรับการเคลือบ PVD ราคาคุ้มค่า

US$300.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลม ทองแดง Cu OFC

แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลม ทองแดง Cu OFC

US$100.00-500.00
1 กก.(MOQ)
แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลม บิสมัธ

แผ่นเป้าหมายการเคลือบ PVD แบบแบนกลม บิสมัธ

US$80.00-500.00
1 บางส่วน(MOQ)
โครเมียม Cr หลายชิ้นส่วนสำหรับการสร้างเป้าหมายการสปัตเตอร์ 99.99% บริสุทธิ์ ประเทศจีน การเคลือบ PVD

โครเมียม Cr หลายชิ้นส่วนสำหรับการสร้างเป้าหมายการสปัตเตอร์ 99.99% บริสุทธิ์ ประเทศจีน การเคลือบ PVD

US$50.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับเครื่องเคลือบ PVD

เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับเครื่องเคลือบ PVD

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
ราคาหมายถึงเป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม PVD ที่ปรับแต่งได้

ราคาหมายถึงเป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม PVD ที่ปรับแต่งได้

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
ความบริสุทธิ์สูง 99.6% PVD M86 แท่งไทเทเนียม ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 98X40mm แท่งไทเทเนียม

ความบริสุทธิ์สูง 99.6% PVD M86 แท่งไทเทเนียม ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 98X40mm แท่งไทเทเนียม

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูง 99.99% สำหรับเครื่องเคลือบสุญญากาศ / PVD

เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูง 99.99% สำหรับเครื่องเคลือบสุญญากาศ / PVD

US$10.00-25.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายโครเมียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสุญญากาศ/การเคลือบด้วยวิธี PVD

เป้าหมายโครเมียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสุญญากาศ/การเคลือบด้วยวิธี PVD

US$1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ซิลิคอนรอบเป้าหมายความบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสุญญากาศ/การเคลือบด้วย PVD

ซิลิคอนรอบเป้าหมายความบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสุญญากาศ/การเคลือบด้วย PVD

US$6,200.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายทองแดงการเคลือบด้วยการระเหิดในสุญญากาศ

เป้าหมายทองแดงการเคลือบด้วยการระเหิดในสุญญากาศ

US$35,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะผสมทองคำบริสุทธิ์สูงและดีบุก

99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะผสมทองคำบริสุทธิ์สูงและดีบุก

US$265,000.00
10 ชิ้น(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการเคลือบด้วย PVD แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งโครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.95% สำหรับการเคลือบในสุญญากาศ

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการเคลือบด้วย PVD แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งโครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.95% สำหรับการเคลือบในสุญญากาศ

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN แผ่นเป้าหมายฮาฟเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอน

แบรนด์ TMAXCN แผ่นเป้าหมายฮาฟเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอน

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 3n5 สำหรับการเคลือบ PVD

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม/Cr ที่มีความบริสุทธิ์สูง 3n5 สำหรับการเคลือบ PVD

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN 3n/4n/4n5 วัสดุเคลือบ PVD ไม้เทอร์ วัสดุผสมทังสเตน ไทเทเนียม เป้าหมายการพ่นวัสดุ

แบรนด์ TMAXCN 3n/4n/4n5 วัสดุเคลือบ PVD ไม้เทอร์ วัสดุผสมทังสเตน ไทเทเนียม เป้าหมายการพ่นวัสดุ

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายโลหะผสมไนโครซี่นิกเกิลโครเมียมซิลิคอนสำหรับการเคลือบด้วยการพ่นสูญญากาศ

เป้าหมายโลหะผสมไนโครซี่นิกเกิลโครเมียมซิลิคอนสำหรับการเคลือบด้วยการพ่นสูญญากาศ

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.95% แผ่นนีโอบีมบริสุทธิ์ Nb เป้าหมายการสปัตเตอร์นีโอบีมสำหรับกระบวนการ PVD

99.95% แผ่นนีโอบีมบริสุทธิ์ Nb เป้าหมายการสปัตเตอร์นีโอบีมสำหรับกระบวนการ PVD

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์นิกเกิลเหล็กอัลลอยด์บริสุทธิ์สำหรับกระบวนการ PVD ขั้นสูง

99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์นิกเกิลเหล็กอัลลอยด์บริสุทธิ์สำหรับกระบวนการ PVD ขั้นสูง

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.95% เป้าหมายเซรามิกอาโซที่มีอลูมิเนียมเจือสังกะสีออกไซด์สำหรับการเคลือบ PVD

99.95% เป้าหมายเซรามิกอาโซที่มีอลูมิเนียมเจือสังกะสีออกไซด์สำหรับการเคลือบ PVD

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

ส่งแบบสอบถาม
Mn เป้าหมายแมงกานีสเซอเทเลตสำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบางชนิด / PVD เคลือบฟิล์ม

Mn เป้าหมายแมงกานีสเซอเทเลตสำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบางชนิด / PVD เคลือบฟิล์ม

US$500.00
1 กก.(MOQ)
ชิ้นงานเซรามิคชนิดพัตต์สำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบาง / ฟิล์ม PVD แบบออปติก การเคลือบผิว

ชิ้นงานเซรามิคชนิดพัตต์สำหรับการเคลือบฟิล์มแบบบาง / ฟิล์ม PVD แบบออปติก การเคลือบผิว

US$25.00-100.00
1 กก.(MOQ)
SiO2 เป้าหมายเซรามิกที่มีการสปัตเตอร์ซิลิกอนออกไซด์สำหรับการเคลือบฟิล์ม PVD

SiO2 เป้าหมายเซรามิกที่มีการสปัตเตอร์ซิลิกอนออกไซด์สำหรับการเคลือบฟิล์ม PVD

US$25.00-100.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายอัลลอย NIV วัสดุนิกเกิลวาเนเดียมอัลลอยเอาต์พุตสำหรับ LCD/ เซมิคอนดักเตอร์

เป้าหมายอัลลอย NIV วัสดุนิกเกิลวาเนเดียมอัลลอยเอาต์พุตสำหรับ LCD/ เซมิคอนดักเตอร์

US$100.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้ารูทีเนียมสแควร์บริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีน

เป้ารูทีเนียมสแควร์บริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีน

US$2,000.00-30,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายรูบริสุทธิ์สูงสำหรับการพ่นเปลือกสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีนจัดหา

เป้าหมายรูบริสุทธิ์สูงสำหรับการพ่นเปลือกสำหรับการเคลือบ PVD ผู้ผลิตในประเทศจีนจัดหา

US$700.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าสำหรับการพ่นวัสดุจากโลหะผสมทังสเตนและเรเนียมสำหรับการตกตะกอนด้วยไอระเหยทางกายภาพ

เป้าสำหรับการพ่นวัสดุจากโลหะผสมทังสเตนและเรเนียมสำหรับการตกตะกอนด้วยไอระเหยทางกายภาพ

US$2,000.00-3,000.00
1 kilograms(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์เรเนียมบริสุทธิ์สูง 99.99% โลหะเรเนียมกลม

เป้าหมายการสปัตเตอร์เรเนียมบริสุทธิ์สูง 99.99% โลหะเรเนียมกลม

US$1,000.00-4,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
ผู้ผลิตที่กำหนดราคาต่ำ โลหะโครเมียมบริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ PVD

ผู้ผลิตที่กำหนดราคาต่ำ โลหะโครเมียมบริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ PVD

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
ประเภทการเคลือบ PVD ที่ได้รับความนิยมมากที่สุดคือเปลือกชนิดเปลือกโครเมียม

ประเภทการเคลือบ PVD ที่ได้รับความนิยมมากที่สุดคือเปลือกชนิดเปลือกโครเมียม

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
โลหะโครเมียมสปัตเตอร์ริ่งแท็กเก็ตที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.99%

โลหะโครเมียมสปัตเตอร์ริ่งแท็กเก็ตที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.99%

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
ราคาขายโรงงาน 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

ราคาขายโรงงาน 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

US$60.00-150.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนทรงกระบอกสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยไอระเหยโลหะท่อไทเทเนียมวัสดุดิบสำหรับการเคลือบแคโทด

เป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนทรงกระบอกสำหรับการเคลือบสูญญากาศด้วยไอระเหยโลหะท่อไทเทเนียมวัสดุดิบสำหรับการเคลือบแคโทด

US$800.00-1,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
การเคลือบด้วยอาร์ค การยิงอาร์ค การเคลือบไอออน

การเคลือบด้วยอาร์ค การยิงอาร์ค การเคลือบไอออน

US$2,500.00-2,600.00
3 sets(MOQ)
วัสดุไทเทเนียมบริสุทธิ์ที่ปรับแต่งได้ บล็อกไทเทเนียม วัสดุไทเทเนียมสูญญากาศ วัสดุเป้าหมายโลหะการเคลือบไอออนหลายอาร์ค

วัสดุไทเทเนียมบริสุทธิ์ที่ปรับแต่งได้ บล็อกไทเทเนียม วัสดุไทเทเนียมสูญญากาศ วัสดุเป้าหมายโลหะการเคลือบไอออนหลายอาร์ค

US$500.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ปืนแมกเนตรอนเป้าหมายแผ่นกลมสำหรับการเคลือบสูญญากาศ PVD

ปืนแมกเนตรอนเป้าหมายแผ่นกลมสำหรับการเคลือบสูญญากาศ PVD

US$11,900.00-12,000.00
2 sets(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ปี
·ผู้ผลิต/โรงงานผลิต
ส่งแบบสอบถาม
แหล่งเป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนสูญญากาศสูงสำหรับกระบวนการเคลือบพีวีดี

แหล่งเป้าหมายการสปัตเตอร์แมกนีตรอนสูญญากาศสูงสำหรับกระบวนการเคลือบพีวีดี

US$1,800.00-2,000.00
1 set(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการพ่นเปลือกโลหะด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบ DC ที่มีเป้าหมายการพ่นสามเท่า

เครื่องเคลือบด้วยการพ่นเปลือกโลหะด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบ DC ที่มีเป้าหมายการพ่นสามเท่า

US$38,000.00-39,500.00
1 set(MOQ)
เครื่องเคลือบพลาสมาสามเป้าหมายสแตนเลสสตีลผงพร้อม 150W แหล่งจ่ายไฟฟ้ากระแสตรงแรงดันสูงสำหรับเครื่องมือการแพทย์

เครื่องเคลือบพลาสมาสามเป้าหมายสแตนเลสสตีลผงพร้อม 150W แหล่งจ่ายไฟฟ้ากระแสตรงแรงดันสูงสำหรับเครื่องมือการแพทย์

US$12,000.00-13,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบพลาสมาสปัตเตอร์แบบคู่สำหรับตัวอย่างเซมและโครเมียม

เครื่องเคลือบพลาสมาสปัตเตอร์แบบคู่สำหรับตัวอย่างเซมและโครเมียม

US$7,900.00-8,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
99.9% เป้าหมายการเคลือบสูญญากาศนิกเกิลโครเมียมอลูมิเนียมสำหรับกระบวนการ PVD เป้าหมายโครเมียมแทนทาลัม

99.9% เป้าหมายการเคลือบสูญญากาศนิกเกิลโครเมียมอลูมิเนียมสำหรับกระบวนการ PVD เป้าหมายโครเมียมแทนทาลัม

US$55.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้ากลมซึ่งมีความเหนียวสีและความต้านทานความร้อนจากเซอร์โคเนียม

เป้ากลมซึ่งมีความเหนียวสีและความต้านทานความร้อนจากเซอร์โคเนียม

US$15.00
5 ชิ้น(MOQ)
เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงกลม ดิ 100*40

เป้าหมายไทเทเนียมบริสุทธิ์สูงกลม ดิ 100*40

US$60.00
1 บางส่วน(MOQ)
ความต้านทานความร้อนและความเสถียรทางเคมีที่ยอดเยี่ยม เป้ากลมไนโอเบียม

ความต้านทานความร้อนและความเสถียรทางเคมีที่ยอดเยี่ยม เป้ากลมไนโอเบียม

US$19.00
5 ชิ้น(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม PVD เป้าหมายโครเมียม/เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม PVD เป้าหมายโครเมียม/เป้าหมายการสปัตเตอร์โครเมียม

US$130.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

US$80.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
การพ่นไอระเหยไทเทเนียม เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบสุญญากาศ เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับเครื่องเคลือบสุญญากาศแบบหลายอาร์ค

การพ่นไอระเหยไทเทเนียม เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบสุญญากาศ เป้าหมายไทเทเนียมสำหรับเครื่องเคลือบสุญญากาศแบบหลายอาร์ค

US$35.00-50.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายพีวีดีของโลหะผสมไทเทเนียมและอลูมิเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม เป้าหมายโลหะผสมไทอัลสำหรับการเคลือบ

เป้าหมายพีวีดีของโลหะผสมไทเทเนียมและอลูมิเนียม เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม เป้าหมายโลหะผสมไทอัลสำหรับการเคลือบ

US$80.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายทองคำบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบด้วยการพ่นสุญญากาศ

เป้าหมายทองคำบริสุทธิ์สำหรับการเคลือบด้วยการพ่นสุญญากาศ

US$200.00
10 g(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์ระดับพรีเมียม 99.99% สำหรับการใช้งานขั้นสูง

เป้าหมายการสปัตเตอร์ทองคำบริสุทธิ์ระดับพรีเมียม 99.99% สำหรับการใช้งานขั้นสูง

US$200.00
10 g(MOQ)
ขายตรงจากโรงงานของ 99.99% - 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์วัสดุทองคำ

ขายตรงจากโรงงานของ 99.99% - 99.999% เป้าหมายการสปัตเตอร์วัสดุทองคำ

US$200.00
100 g(MOQ)
99.99% เป้าสำหรับการพ่นทองคำบริสุทธิ์คุณภาพสูง Au

99.99% เป้าสำหรับการพ่นทองคำบริสุทธิ์คุณภาพสูง Au

US$200.00
10 g(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 ปี·5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าสำหรับการสปัตเตอร์โครเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์ที่แม่นยำและแม่พิมพ์

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์โครเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์ที่แม่นยำและแม่พิมพ์

US$90.00-110.00
2 ชิ้น(MOQ)
เป้าซีโอเนียมบริสุทธิ์สูงจากโรงงานโดยตรงสำหรับการใช้งานด้านออปติก

เป้าซีโอเนียมบริสุทธิ์สูงจากโรงงานโดยตรงสำหรับการใช้งานด้านออปติก

US$90.00-99.00
10 กก.(MOQ)
ฟอยล์โมลิบดีนัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์เซมิคอนดักเตอร์ (PVD) ฟอยล์โมปรับความหนาได้ 0.01mm-0.2mm

ฟอยล์โมลิบดีนัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์เซมิคอนดักเตอร์ (PVD) ฟอยล์โมปรับความหนาได้ 0.01mm-0.2mm

US$200.00-450.00
50 กก.(MOQ)
เรือนิกเกิลบริสุทธิ์สูง 99.6% หม้อหลอมโลหะนิกเกิลทนความร้อนสำหรับห้องปฏิบัติการเซมิคอนดักเตอร์

เรือนิกเกิลบริสุทธิ์สูง 99.6% หม้อหลอมโลหะนิกเกิลทนความร้อนสำหรับห้องปฏิบัติการเซมิคอนดักเตอร์

US$22.00-26.00
50 กก.(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการพ่นวัสดุไทเทเนียม อลูมิเนียม ทองแดง โครเมียม นิกเกิล ท่อแมกนีตรอน การเคลือบ PVD แบบหมุน

เป้าหมายการพ่นวัสดุไทเทเนียม อลูมิเนียม ทองแดง โครเมียม นิกเกิล ท่อแมกนีตรอน การเคลือบ PVD แบบหมุน

US$0.50-10.00
10 ชิ้น(MOQ)
ชิ้นส่วนเครื่องจักรกลที่มีความแม่นยำจากอลูมิเนียมอโนไดซ์ที่ผ่านการกลึง CNC

ชิ้นส่วนเครื่องจักรกลที่มีความแม่นยำจากอลูมิเนียมอโนไดซ์ที่ผ่านการกลึง CNC

US$0.50-10.00
10 ชิ้น(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะ gadolinium ความบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งาน PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะ gadolinium ความบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งาน PVD

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์อลูมิเนียมไทเทเนียม Alloy/50 สำหรับเครื่องเคลือบ PVD

เป้าหมายการสปัตเตอร์อลูมิเนียมไทเทเนียม Alloy/50 สำหรับเครื่องเคลือบ PVD

US$3,380.00
1 ตัน(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายไทเทเนียม

ผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายไทเทเนียม

US$30.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD, เครื่องจักรเคลือบสูญญากาศ PVD, อุปกรณ์เคลือบ PVD, เครื่องเคลือบ PVD

เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD, เครื่องจักรเคลือบสูญญากาศ PVD, อุปกรณ์เคลือบ PVD, เครื่องเคลือบ PVD

US$25,000.00-88,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
อุปกรณ์เคลือบสูญญากาศแบบไอออนหลายชั้นสำหรับเครื่องใช้ในห้องน้ำ

อุปกรณ์เคลือบสูญญากาศแบบไอออนหลายชั้นสำหรับเครื่องใช้ในห้องน้ำ

US$15,000.00-82,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ผู้ผลิตเครื่องเคลือบ PVD สำหรับก๊อกน้ำและเฟอร์นิเจอร์สแตนเลสสตีล

ผู้ผลิตเครื่องเคลือบ PVD สำหรับก๊อกน้ำและเฟอร์นิเจอร์สแตนเลสสตีล

US$15,000.00-150,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายโมลิบดีนัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานอุตสาหกรรมขั้นสูง

เป้าหมายโมลิบดีนัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานอุตสาหกรรมขั้นสูง

US$30.00-60.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายทังสเตนหมุนเวียนพรีเมียมสำหรับการใช้งานการสปัตเตอร์ที่มีประสิทธิภาพ

เป้าหมายทังสเตนหมุนเวียนพรีเมียมสำหรับการใช้งานการสปัตเตอร์ที่มีประสิทธิภาพ

US$50.00-270.00
10 กก.(MOQ)
เป้าหมายโมลิบดีนัมที่หล่อขึ้นในระดับนาโนสำหรับการเคลือบ PVD ที่สม่ำเสมอ

เป้าหมายโมลิบดีนัมที่หล่อขึ้นในระดับนาโนสำหรับการเคลือบ PVD ที่สม่ำเสมอ

US$30.00-60.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมที่ปรับแต่งได้พร้อมความหนาแน่นสูงสำหรับการใช้งานในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบแก้ว

เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมที่ปรับแต่งได้พร้อมความหนาแน่นสูงสำหรับการใช้งานในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบแก้ว

US$30.00-80.00
10 กก.(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
การปรับแต่ง Chromium Chrome Multi Arc Target Material Magnetoron SOutputering สำหรับ เคลือบ PVD

การปรับแต่ง Chromium Chrome Multi Arc Target Material Magnetoron SOutputering สำหรับ เคลือบ PVD

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
เคลือบ PVD โรงงานเคลือบ Cu Plate แผ่นทองแดงเป้าหมายสำหรับการป้อนข้อมูลด้วยมัลติอาร์ค Rotary Semiconductor

เคลือบ PVD โรงงานเคลือบ Cu Plate แผ่นทองแดงเป้าหมายสำหรับการป้อนข้อมูลด้วยมัลติอาร์ค Rotary Semiconductor

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
China CU เป้าหมายของทองแดงผสมทองแดงผสมแบบพิสุทธิ์สำหรับ PVD การเคลือบผิว

China CU เป้าหมายของทองแดงผสมทองแดงผสมแบบพิสุทธิ์สำหรับ PVD การเคลือบผิว

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
การขายส่งโรงงาน PVD แบบ High-Purity สำหรับวัสดุเป้าหมายทองแดง Flat Copper

การขายส่งโรงงาน PVD แบบ High-Purity สำหรับวัสดุเป้าหมายทองแดง Flat Copper

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายของฮิปโครเมียมเอาต์พุตสำหรับเคลือบ PVD

เป้าหมายของฮิปโครเมียมเอาต์พุตสำหรับเคลือบ PVD

US$70.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายพัตต์สำหรับ PVD เคลือบ PVC CR จะมีโครเมียม 99.5

เป้าหมายพัตต์สำหรับ PVD เคลือบ PVC CR จะมีโครเมียม 99.5

US$60.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายเทรเมียมพรีเมียมสำหรับ 99.5 กลม CR สำหรับ PVD

เป้าหมายเทรเมียมพรีเมียมสำหรับ 99.5 กลม CR สำหรับ PVD

US$80.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายสำหรับนักปีนเทรเมียมตั้งเป้า 99.5 CR สำหรับ PVD

เป้าหมายสำหรับนักปีนเทรเมียมตั้งเป้า 99.5 CR สำหรับ PVD

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

ส่งแบบสอบถาม
Rotatable Tiox Sial Silver Sputtering Target Cathode Tube High Quality Purity for PVD Nano Thin Film Material

Rotatable Tiox Sial Silver Sputtering Target Cathode Tube High Quality Purity for PVD Nano Thin Film Material

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
PVD Target Aluminum Al Cylindrical Rotatable Sputter Target 99.999% Purity 2n-5n Available

PVD Target Aluminum Al Cylindrical Rotatable Sputter Target 99.999% Purity 2n-5n Available

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ผู้ผลิตเป้าหมายของกลุ่มบริษัท Uvtm Factory Smotering ในจีน 18 ปีที่ผ่านมา สำหรับ Msd และ PVD Vacuum Sputter แบบต่อเนื่องสายการผลิต วิกกี้ 13249153016

ผู้ผลิตเป้าหมายของกลุ่มบริษัท Uvtm Factory Smotering ในจีน 18 ปีที่ผ่านมา สำหรับ Msd และ PVD Vacuum Sputter แบบต่อเนื่องสายการผลิต วิกกี้ 13249153016

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Chrome Cr PVD Target Planar Bonding on Cooper Backing Plate or Tube

Chrome Cr PVD Target Planar Bonding on Cooper Backing Plate or Tube

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

US$21,000.00-26,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

US$8,730.00-8,900.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดีซีที่มีช่องสแตนเลสสำหรับฟิล์ม ITO

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดีซีที่มีช่องสแตนเลสสำหรับฟิล์ม ITO

US$8,730.00-8,900.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการพ่นผงแมกนีตรอนสำหรับอุปกรณ์เคลือบที่เหมาะสม

เครื่องเคลือบด้วยการพ่นผงแมกนีตรอนสำหรับอุปกรณ์เคลือบที่เหมาะสม

US$28,500.00-40,100.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
แบเรียมไททาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตราเชียเทียตเป้าหมายบาสติโอ 3, PVD Magnetoron SInputเซ นเซอร์ , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ

แบเรียมไททาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตราเชียเทียตเป้าหมายบาสติโอ 3, PVD Magnetoron SInputเซ นเซอร์ , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานที่เคลือบสารสุญญากาศ Hafnafnium, Hfo2 Hafnium Dioxide Target, Hfzro2 Mas, PVD Magnetortron Swering Vacuum Target

ชิ้นงานที่เคลือบสารสุญญากาศ Hafnafnium, Hfo2 Hafnium Dioxide Target, Hfzro2 Mas, PVD Magnetortron Swering Vacuum Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานโลหะ Rufitythenium อันมีค่าสูงสำหรับการเคลือบผิวแบบ Magnetoron Swistering วัสดุเคลือบ PVD ที่มีอนุภาคระเหย

ชิ้นงานโลหะ Rufitythenium อันมีค่าสูงสำหรับการเคลือบผิวแบบ Magnetoron Swistering วัสดุเคลือบ PVD ที่มีอนุภาคระเหย

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ชิ้นงานอะลูมิเนียมความบริสุทธิ์สูงอัล , วัสดุเป้าหมายอลูมิเนียม , PVD ( ไอระเหยกายภาพ ) วัสดุเคลือบผิว Magneton SOutput Aluminium Target และการเชื่อม

ชิ้นงานอะลูมิเนียมความบริสุทธิ์สูงอัล , วัสดุเป้าหมายอลูมิเนียม , PVD ( ไอระเหยกายภาพ ) วัสดุเคลือบผิว Magneton SOutput Aluminium Target และการเชื่อม

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานเหล็กบริสุทธิ์ระดับสูง , เป้าหมาย Fear2 (Iron Oxide) , สารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering พร้อมขนาดที่กำหนดเอง , การประกอบแผ่นรองหลัง

ชิ้นงานเหล็กบริสุทธิ์ระดับสูง , เป้าหมาย Fear2 (Iron Oxide) , สารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering พร้อมขนาดที่กำหนดเอง , การประกอบแผ่นรองหลัง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายไนโอโทเนียม , เป้าหมาย Nb2o5 (nobium pentoide) Monb ( อัลลอยโมลิบดีนัมไนโอโทเนียม ) สำหรับ PVD ( การกำจัดไอระเหยกายภาพ )

เป้าหมายไนโอโทเนียม , เป้าหมาย Nb2o5 (nobium pentoide) Monb ( อัลลอยโมลิบดีนัมไนโอโทเนียม ) สำหรับ PVD ( การกำจัดไอระเหยกายภาพ )

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD ท่อเป้าหมาย ฟิลเตอร์ท่อซิเนียม

เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD ท่อเป้าหมาย ฟิลเตอร์ท่อซิเนียม

US$50.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบทองด้วยการพ่นสปัตเตอร์แมกนีตรอนสำหรับเครื่องประดับโลหะสแตนเลส

เครื่องเคลือบทองด้วยการพ่นสปัตเตอร์แมกนีตรอนสำหรับเครื่องประดับโลหะสแตนเลส

US$60,000.00-300,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มโลหะด้วยการระเหยในสุญญากาศจากพลาสติกและอลูมิเนียม

เครื่องเคลือบฟิล์มโลหะด้วยการระเหยในสุญญากาศจากพลาสติกและอลูมิเนียม

US$60,000.00-300,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
เครื่องเคลือบโลหะ PVD สำหรับก๊อกน้ำ/ฝักบัว/ที่แขวน/มือจับประตูสแตนเลส

เครื่องเคลือบโลหะ PVD สำหรับก๊อกน้ำ/ฝักบัว/ที่แขวน/มือจับประตูสแตนเลส

US$80,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
1/4

Hunan Radiance Material Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับ PVD SOutputering

เป้าหมายทังสเตนที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับ PVD SOutputering

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายเทนเซอร์โมลิบดีนัมแบบรีไฮไฟสูงสำหรับ PVD Slatering

เป้าหมายเทนเซอร์โมลิบดีนัมแบบรีไฮไฟสูงสำหรับ PVD Slatering

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
15
เกี่ยวกับเรา การประกาศ ข้อตกลงสำหรับผู้ใช้ นโยบายความเป็นส่วนตัว คอนแทคเตอร์ Made-in-China.com ผลิตภัณฑ์ด่วน ข้อมูลเชิงลึก
ตัวเลือกภาษา: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. สงวนลิขสิทธิ์
Focusจะไม่รับผิดชอบต่อความแตกต่างระหว่างเวอร์ชันภาษาอังกฤษและเวอร์ชันภาษาอื่นของเว็บไซต์ หากมีความขัดแย้งใด ๆ ให้ใช้เวอร์ชันภาษาอังกฤษเป็นหลัก การใช้ไซต์นี้ของคุณอยู่ภายใต้และถือเป็นการรับทราบและยอมรับ ของเรา ข้อกำหนดและเงื่อนไข