หน้าหลักarrow-rightดัชนีโรงงานของจีนarrow-rightออกไซด์เป้าหมาย โรงงานarrow-rightรายการของซัพพลายเออร์
ฟิลเตอร์
หมวดหมู่สินค้า
เพิ่มเติม
การรับรองระบบการจัดการ
เพิ่มเติม
ขีดความสามารถด้านวิจัยและพัฒนา
รายได้ประจำปี
เพิ่มเติม
จำนวนพนักงาน
จังหวัดและภูมิภาค
เพิ่มเติม
เกี่ยวกับ ออกไซด์เป้าหมาย
  • นวัตกรรมเทคโนโลยี
  • ซัพพลายเชนที่เชื่อถือได้
  • ความสามารถในการผลิตอย่างครบวงจร

ออกไซด์เป้าหมาย500+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

ส่งแบบสอบถาม
In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

US$40.00
1 กก.(MOQ)
In2O3 เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียมสำหรับการสปัตเตอร์สำหรับ LCD/แผงสัมผัส

In2O3 เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียมสำหรับการสปัตเตอร์สำหรับ LCD/แผงสัมผัส

US$650.00
1 กก.(MOQ)
เป้าสำหรับการพ่นวัสดุเทลลูไรด์ออกไซด์เซรามิกสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

เป้าสำหรับการพ่นวัสดุเทลลูไรด์ออกไซด์เซรามิกสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

US$500.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์ทองแดงบริสุทธิ์สูงสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์ทองแดงบริสุทธิ์สูงสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

US$10.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ออกไซด์อินเดียมดีบุกที่มีราคาที่ดีที่สุด

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ออกไซด์อินเดียมดีบุกที่มีราคาที่ดีที่สุด

US$50.00-999.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายออกไซด์ฮาฟเนียม 99.99% ขาว Hfo2 เป้าหมายเซรามิก

เป้าหมายออกไซด์ฮาฟเนียม 99.99% ขาว Hfo2 เป้าหมายเซรามิก

US$110.00-120.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์รูทีเนียมบริสุทธิ์ที่ปรับแต่งได้

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์รูทีเนียมบริสุทธิ์ที่ปรับแต่งได้

US$500.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์โมลิบดีนัมคุณภาพสูง Mno3 สำหรับออปติก

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์โมลิบดีนัมคุณภาพสูง Mno3 สำหรับออปติก

US$20.00-30.00
10 ชิ้น(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
Zro2-Sio2 เป้าหมายเซรามิกซิลิคอนไดออกไซด์ซิลิเกตซิลิคอนออกไซด์ซิลิเกตเซรามิก

Zro2-Sio2 เป้าหมายเซรามิกซิลิคอนไดออกไซด์ซิลิเกตซิลิคอนออกไซด์ซิลิเกตเซรามิก

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.99% เป้าหมายเซรามิก MGO แมกนีเซียมออกไซด์ สำหรับการสปัตเตอร์

99.99% เป้าหมายเซรามิก MGO แมกนีเซียมออกไซด์ สำหรับการสปัตเตอร์

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายเซรามิกไนโอเบียมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูง Nb2o5

เป้าหมายเซรามิกไนโอเบียมออกไซด์ที่มีความบริสุทธิ์สูง Nb2o5

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายเซรามิก ATO ที่มีสารต้านทานแอนติโมนี

เป้าหมายเซรามิก ATO ที่มีสารต้านทานแอนติโมนี

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์ของอิตเทรียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์ของอิตเทรียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบ

US$115.00-130.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อิตเทอร์เบียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานในอิเล็กทรอนิกส์

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อิตเทอร์เบียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานในอิเล็กทรอนิกส์

US$190.00-199.00
1 บางส่วน(MOQ)
ดิสก์เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่ทำจากอิตเทรียม แบเรียม ทองแดงออกไซด์ระดับพรีเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์

ดิสก์เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่ทำจากอิตเทรียม แบเรียม ทองแดงออกไซด์ระดับพรีเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์

US$190.00-199.00
1 บางส่วน(MOQ)
ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์เซอเรียมที่มีแร่หายากจากโรงงานโดยตรง

ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์เซอเรียมที่มีแร่หายากจากโรงงานโดยตรง

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายออกไซด์อิตเทรียม Y2o3 เป้าหมาย

เป้าหมายออกไซด์อิตเทรียม Y2o3 เป้าหมาย

US$6,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายออกไซด์อินเดียมดีบุก

เป้าหมายออกไซด์อินเดียมดีบุก

US$7,800.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อะลูมิเนียม Al2O3 เป้าหมาย

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์อะลูมิเนียม Al2O3 เป้าหมาย

US$6,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายออกไซด์อินเดียมดีบุกสำหรับการสปัตเตอร์ในสุญญากาศ เป้าหมาย PVD Creen

เป้าหมายออกไซด์อินเดียมดีบุกสำหรับการสปัตเตอร์ในสุญญากาศ เป้าหมาย PVD Creen

US$4,600.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

US$21,000.00-26,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์ด้วยการสปัตเตอร์แมกเนตรอนสามตัว

เครื่องเคลือบฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์ด้วยการสปัตเตอร์แมกเนตรอนสามตัว

US$37,300.00-126,870.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยการสปัตเตอร์แบบหมุนเดี่ยวสำหรับการวิจัยเซลล์แสงอาทิตย์

เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยการสปัตเตอร์แบบหมุนเดี่ยวสำหรับการวิจัยเซลล์แสงอาทิตย์

US$30,000.00-39,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์ม PTFE ด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบสามเป้าหมายแบบ DC

เครื่องเคลือบฟิล์ม PTFE ด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบสามเป้าหมายแบบ DC

US$28,500.00-40,100.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
99.99% แผ่นเป้าหมายออกไซด์ของแกเลียม Ga2o3 เป้าหมาย

99.99% แผ่นเป้าหมายออกไซด์ของแกเลียม Ga2o3 เป้าหมาย

US$300.00
1 บางส่วน(MOQ)
อุปกรณ์เคลือบด้วยพลาสมาสเปรย์ ป้องกันการติดและทนทานต่อการสึกหรอ ซิลิกอน อลูมิเนียม อลูมินา เซอร์โคเนีย

อุปกรณ์เคลือบด้วยพลาสมาสเปรย์ ป้องกันการติดและทนทานต่อการสึกหรอ ซิลิกอน อลูมิเนียม อลูมินา เซอร์โคเนีย

US$35,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการพ่นวัสดุไทเทเนียม อลูมิเนียม ทองแดง โครเมียม นิกเกิล ท่อแมกนีตรอน การเคลือบ PVD แบบหมุน

เป้าหมายการพ่นวัสดุไทเทเนียม อลูมิเนียม ทองแดง โครเมียม นิกเกิล ท่อแมกนีตรอน การเคลือบ PVD แบบหมุน

US$0.50-10.00
10 ชิ้น(MOQ)
ชิ้นส่วนเครื่องจักรกลที่มีความแม่นยำจากอลูมิเนียมอโนไดซ์ที่ผ่านการกลึง CNC

ชิ้นส่วนเครื่องจักรกลที่มีความแม่นยำจากอลูมิเนียมอโนไดซ์ที่ผ่านการกลึง CNC

US$0.50-10.00
10 ชิ้น(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ออกไซด์ดีบุก (SnO2) วัสดุระเหย เม็ด 1-10mm ความบริสุทธิ์ 99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์

ออกไซด์ดีบุก (SnO2) วัสดุระเหย เม็ด 1-10mm ความบริสุทธิ์ 99.99% เป้าหมายการสปัตเตอร์

US$200.00
1 กก.(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
แท่งโลหะธูลิอัมเป้าหมายเกรนหมายเลข CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

แท่งโลหะธูลิอัมเป้าหมายเกรนหมายเลข CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
โลหะโฮลเมียมแท่งเกรนหมายเลข CAS 7440-60-0 Ho 3n 4n

โลหะโฮลเมียมแท่งเกรนหมายเลข CAS 7440-60-0 Ho 3n 4n

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
โลหะยูโรเปียมแท่งเป้าหมายเกรนหมายเลข CAS 7440-53-1 EU 3n 4n

โลหะยูโรเปียมแท่งเป้าหมายเกรนหมายเลข CAS 7440-53-1 EU 3n 4n

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
แท่งโลหะพราซิโอดิเมียม เม็ด CAS หมายเลข 7440-10-0 พร 2n5 3n

แท่งโลหะพราซิโอดิเมียม เม็ด CAS หมายเลข 7440-10-0 พร 2n5 3n

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายของทองแดงแผ่นทองแดงโรงงานผลิตในเมืองกว่างตงแผ่นทองแดงแบบ Tin Oxide ITO SInputering

เป้าหมายของทองแดงแผ่นทองแดงโรงงานผลิตในเมืองกว่างตงแผ่นทองแดงแบบ Tin Oxide ITO SInputering

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
ปุ่มควบคุมชิ้นงานสีทองแดงแบบโรตารี่สำหรับตัวนำเคลือบโลหะเซมิคอนดักเตอร์

ปุ่มควบคุมชิ้นงานสีทองแดงแบบโรตารี่สำหรับตัวนำเคลือบโลหะเซมิคอนดักเตอร์

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายการป้อนแผ่นทองแดง 99.95 % จากโรงงานในกวางตุ้ง ผู้ผลิต

เป้าหมายการป้อนแผ่นทองแดง 99.95 % จากโรงงานในกวางตุ้ง ผู้ผลิต

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)
เคลือบ PVD โรงงานเคลือบ Cu Plate แผ่นทองแดงเป้าหมายสำหรับการป้อนข้อมูลด้วยมัลติอาร์ค Rotary Semiconductor

เคลือบ PVD โรงงานเคลือบ Cu Plate แผ่นทองแดงเป้าหมายสำหรับการป้อนข้อมูลด้วยมัลติอาร์ค Rotary Semiconductor

US$10.00-15.00
1 กก.(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ปี
·ผู้ผลิต/โรงงานผลิต
ส่งแบบสอบถาม
4-Inch เครื่องเคลือบฟิล์มออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์แบบแมกเนตรอนเป้าหมายเดี่ยว

4-Inch เครื่องเคลือบฟิล์มออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์แบบแมกเนตรอนเป้าหมายเดี่ยว

US$32,000.00-34,000.00
1 set(MOQ)
500W ดีซี 300W อาร์เอฟ ดูอัล ทาร์เก็ต แมกนีตรอน สปัตเตอร์ริ่ง โค้ตเตอร์ สำหรับการสปัตเตอร์โลหะและออกไซด์

500W ดีซี 300W อาร์เอฟ ดูอัล ทาร์เก็ต แมกนีตรอน สปัตเตอร์ริ่ง โค้ตเตอร์ สำหรับการสปัตเตอร์โลหะและออกไซด์

US$31,000.00-32,500.00
1 set(MOQ)
เซรามิก, ไดอิเล็กทริก, ออปติก, ออกไซด์, ฟิล์มแข็ง, ฟิล์ม PTFE เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดูอัลเป้าหมาย

เซรามิก, ไดอิเล็กทริก, ออปติก, ออกไซด์, ฟิล์มแข็ง, ฟิล์ม PTFE เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดูอัลเป้าหมาย

US$26,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์ด้วยการสปัตเตอร์แบบแมกนีตรอน RF แบบสองเป้าหมายในสภาวะสุญญากาศ

เครื่องเคลือบฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์ด้วยการสปัตเตอร์แบบแมกนีตรอน RF แบบสองเป้าหมายในสภาวะสุญญากาศ

US$26,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
อิฐบริสุทธิ์ 99.9%Min 1-10inch Ruo2 ออกไซด์รูทีเนียม Targ

อิฐบริสุทธิ์ 99.9%Min 1-10inch Ruo2 ออกไซด์รูทีเนียม Targ

US$2,000.00-4,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
99.99. % แผ่นทังสเตนของ Wolfram เป้าหมายทังสเตนสำหรับการสปัตเตอร์

99.99. % แผ่นทังสเตนของ Wolfram เป้าหมายทังสเตนสำหรับการสปัตเตอร์

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
99.999% Wti20 เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ติ้งทังสเตนไทเทเนียม

99.999% Wti20 เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ติ้งทังสเตนไทเทเนียม

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
99.99% เป้าสปัตเตอร์ริ่งทังสเตนบริสุทธิ์สูง, 5n เป้าทังสเตน

99.99% เป้าสปัตเตอร์ริ่งทังสเตนบริสุทธิ์สูง, 5n เป้าทังสเตน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SOutput ความแม่นยำของชิ้นงาน , ข้อมูลจำเพาะแบบกำหนดเอง

วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SOutput ความแม่นยำของชิ้นงาน , ข้อมูลจำเพาะแบบกำหนดเอง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายสังกะสีออกไซด์ความบริสุทธิ์สูง (AZO) สังกะสีออกไซด์ , Zinc Oxide (ZnO) ที่ชุบอะลูมิเนียมออกไซด์ (Al2O3), ชิ้นงานแมกเนตรอนสปัตเตอริงออกไซด์และการเชื่อมแผ่นหลัง

วัสดุเป้าหมายสังกะสีออกไซด์ความบริสุทธิ์สูง (AZO) สังกะสีออกไซด์ , Zinc Oxide (ZnO) ที่ชุบอะลูมิเนียมออกไซด์ (Al2O3), ชิ้นงานแมกเนตรอนสปัตเตอริงออกไซด์และการเชื่อมแผ่นหลัง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
สารเป้าหมาย Yterb2o3, Scientific Research Experience,Scotering ถูกเคลือบสารระเหย , การเคลือบสารระเหย , เซมิคอนดักเตอร์

สารเป้าหมาย Yterb2o3, Scientific Research Experience,Scotering ถูกเคลือบสารระเหย , การเคลือบสารระเหย , เซมิคอนดักเตอร์

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ความต้านทานความร้อน ความแข็งแรงและความทนทาน เป้าหมายกลมไทเทเนียม

ความต้านทานความร้อน ความแข็งแรงและความทนทาน เป้าหมายกลมไทเทเนียม

US$10.00
5 ชิ้น(MOQ)
แผ่นอโนดไทเทเนียมตามแบบของลูกค้า

แผ่นอโนดไทเทเนียมตามแบบของลูกค้า

US$30.00
1 kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
บล็อกอลูมิเนียมสำหรับการวิจัยในห้องปฏิบัติการ

บล็อกอลูมิเนียมสำหรับการวิจัยในห้องปฏิบัติการ

US$2,960.00
1 ตัน(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Ybco Yb2cuba3o7 ytrium trium Copper Oxide Smilering Target

Ybco Yb2cuba3o7 ytrium trium Copper Oxide Smilering Target

US$250.00-500.00
1 บางส่วน(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 ปี·5.0
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
ผงเปลเลตเป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์แมกนีเซียม CAS1309-48-4

ผงเปลเลตเป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์แมกนีเซียม CAS1309-48-4

US$550.00-1,500.00
10 ตัน(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
แผ่นแทนทาลัมสำหรับการกลึงที่แม่นยำและการใช้งานขั้นสูง

แผ่นแทนทาลัมสำหรับการกลึงที่แม่นยำและการใช้งานขั้นสูง

ต่อรองได้
10 กก.(MOQ)
แผ่นเป้าหมายแทนทาลัมสำหรับการวิจัยและพัฒนาวัสดุขั้นสูง

แผ่นเป้าหมายแทนทาลัมสำหรับการวิจัยและพัฒนาวัสดุขั้นสูง

ต่อรองได้
10 กก.(MOQ)
แผ่นแทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานในอวกาศและการป้องกัน

แผ่นแทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการใช้งานในอวกาศและการป้องกัน

ต่อรองได้
10 กก.(MOQ)
เป้าหมายบอร์ดแทนทาลัมสำหรับโครงการวิจัยและพัฒนานวัตกรรม

เป้าหมายบอร์ดแทนทาลัมสำหรับโครงการวิจัยและพัฒนานวัตกรรม

ต่อรองได้
10 กก.(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ปี·5.0
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ในสุญญากาศ

เป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ในสุญญากาศ

US$45.00
1 kg(MOQ)
ผู้ผลิตชั้นนำของจีน แผ่นโมลิบดีนัมกลมบริสุทธิ์สูงคุณภาพเยี่ยม

ผู้ผลิตชั้นนำของจีน แผ่นโมลิบดีนัมกลมบริสุทธิ์สูงคุณภาพเยี่ยม

US$40.00
1 kg(MOQ)
โลหะผงโลหะวิทยาแผ่นทังสเตน

โลหะผงโลหะวิทยาแผ่นทังสเตน

US$45.00
1 กก.(MOQ)
แผ่นแผ่นทังสเตนบริสุทธิ์ความหนาแน่นสูง 19.3G/Cm3

แผ่นแผ่นทังสเตนบริสุทธิ์ความหนาแน่นสูง 19.3G/Cm3

US$50.00
10 กก.(MOQ)
1/2

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
ซิลิคอนเป้าหมายซิลิคอนพอลิซิลิคอนชิ้น

ซิลิคอนเป้าหมายซิลิคอนพอลิซิลิคอนชิ้น

US$26.00-28.00
1 piece(MOQ)
ชิ้นส่วนซิลิคอนเป้าหมายซิลิคอนเวเฟอร์ซิลิคอนโมโนคริสตัล

ชิ้นส่วนซิลิคอนเป้าหมายซิลิคอนเวเฟอร์ซิลิคอนโมโนคริสตัล

US$4.00-5.00
1 piece(MOQ)
ชิ้นส่วนซิลิคอนโมโนคริสตัลลิน แผ่นซิลิคอน

ชิ้นส่วนซิลิคอนโมโนคริสตัลลิน แผ่นซิลิคอน

US$4.00-5.00
1 piece(MOQ)
99.9999% เม็ดซิลิคอนบริสุทธิ์สำหรับการผลิตพลังงานแสงอาทิตย์

99.9999% เม็ดซิลิคอนบริสุทธิ์สำหรับการผลิตพลังงานแสงอาทิตย์

US$97.50-100.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
High Purity Alloy Target 99.99% 4n Nio Nickel Oxide for Thin-Film Optical Coating PVD Evaporation

High Purity Alloy Target 99.99% 4n Nio Nickel Oxide for Thin-Film Optical Coating PVD Evaporation

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Gallium Oxide Sputtering Target Ga2o3 Purity 99.99% 4n

Gallium Oxide Sputtering Target Ga2o3 Purity 99.99% 4n

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
4n Nbo2 เป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

4n Nbo2 เป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n TiO2 เป้าหมายไทเทเนียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

4n TiO2 เป้าหมายไทเทเนียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n เป้าหมายอะลูมินา Al2O3 เป้าหมาย, เป้าหมายออกไซด์อะลูมิเนียมแบบหมุน เป้าหมายแบบแบน

4n เป้าหมายอะลูมินา Al2O3 เป้าหมาย, เป้าหมายออกไซด์อะลูมิเนียมแบบหมุน เป้าหมายแบบแบน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายกลมออกไซด์ไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์ 99.99%

เป้าหมายกลมออกไซด์ไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์ 99.99%

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ชิ้นงานแบบหมุน Tiox การประยุกต์ใช้งานส่วนใหญ่สำหรับการเคลือบแก้ว Low-E เป้าหมาย Magnetoron SInputstering ชิ้นงาน Titanium Oxide

ชิ้นงานแบบหมุน Tiox การประยุกต์ใช้งานส่วนใหญ่สำหรับการเคลือบแก้ว Low-E เป้าหมาย Magnetoron SInputstering ชิ้นงาน Titanium Oxide

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นชิ้นงานแผ่นติด ITO แผ่นอินดี้ถาดออกไซด์เป้าหมายถาดใส่แผ่นเซรามิค 99.99 %

แผ่นชิ้นงานแผ่นติด ITO แผ่นอินดี้ถาดออกไซด์เป้าหมายถาดใส่แผ่นเซรามิค 99.99 %

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย ITO 99.99 % 97 3 95 : 5 90 Indium Tin Oxide Smพัตต์ สำหรับ Conductive Film ปี 10

เป้าหมาย ITO 99.99 % 97 3 95 : 5 90 Indium Tin Oxide Smพัตต์ สำหรับ Conductive Film ปี 10

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ผงเคมีออกไซด์นำเข้า 2 ของไบโอ 3 ของอินทิโนอ็อลใช้ในการผลิตเป้าหมายของไตโอไเตอร์เทรเตอร์ของไตอุเข้าออกไซด์ผงชนิดผง 2 หัว

ผงเคมีออกไซด์นำเข้า 2 ของไบโอ 3 ของอินทิโนอ็อลใช้ในการผลิตเป้าหมายของไตโอไเตอร์เทรเตอร์ของไตอุเข้าออกไซด์ผงชนิดผง 2 หัว

ต่อรองได้
50 กก.(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
อุปกรณ์เคลือบฟิล์มหลายชั้นที่นำไฟฟ้าแบบการพ่นสปัตเตอร์ด้วยเป้าหมายคู่ RF&DC&MF

อุปกรณ์เคลือบฟิล์มหลายชั้นที่นำไฟฟ้าแบบการพ่นสปัตเตอร์ด้วยเป้าหมายคู่ RF&DC&MF

US$45,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ระบบสปัตเตอร์แมกนีตรอนสูญญากาศสูงที่หลากหลายพร้อมเป้าหมายหลายตัวสำหรับการเคลือบฟิล์มหลายชั้นแบบผสม

ระบบสปัตเตอร์แมกนีตรอนสูญญากาศสูงที่หลากหลายพร้อมเป้าหมายหลายตัวสำหรับการเคลือบฟิล์มหลายชั้นแบบผสม

US$50,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนอัตโนมัติในห้องปฏิบัติการสำหรับโลหะ ออกไซด์ และเซมิคอนดักเตอร์ใน SEM วัสดุพลังงาน

เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนอัตโนมัติในห้องปฏิบัติการสำหรับโลหะ ออกไซด์ และเซมิคอนดักเตอร์ใน SEM วัสดุพลังงาน

US$30,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเคลือบ PVD ความบริสุทธิ์สูงจากแบรนด์ TMAXCN ทังสเตนออกไซด์ Wo3 เป้าหมายการสปัตเตอร์

วัสดุเคลือบ PVD ความบริสุทธิ์สูงจากแบรนด์ TMAXCN ทังสเตนออกไซด์ Wo3 เป้าหมายการสปัตเตอร์

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการพัตต์เซรามิค B2O3

เป้าหมายการพัตต์เซรามิค B2O3

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย Ito / อิน 2o3: Sn2=10wt%/ITO แผนภูมิแรงดันเป้าหมาย : 90

เป้าหมาย Ito / อิน 2o3: Sn2=10wt%/ITO แผนภูมิแรงดันเป้าหมาย : 90

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายสำหรับการพัตต์เซรามิค All2O3

เป้าหมายสำหรับการพัตต์เซรามิค All2O3

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานอลูมิเนียมสังกะสีออกไซด์ของสะพัตต์แบบ Azo

ชิ้นงานอลูมิเนียมสังกะสีออกไซด์ของสะพัตต์แบบ Azo

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายของพลาริการ์สเทอริง , ฟิล์มกระจก ITO, TTP/TTTTTD/TM/TV-LCD ITO

เป้าหมายของพลาริการ์สเทอริง , ฟิล์มกระจก ITO, TTP/TTTTTD/TM/TV-LCD ITO

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Ito Target, LED / OLED / TP ITO Target, LED Semiconductor ITO Sassay

Ito Target, LED / OLED / TP ITO Target, LED Semiconductor ITO Sassay

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ATO Target, IR Window Film ATO , Antimony Tin Oxide Target

ATO Target, IR Window Film ATO , Antimony Tin Oxide Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Indium Oxide Target, In2o3 Target

Indium Oxide Target, In2o3 Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
ZnO 99.95 % สำหรับการผลิตกระจกประหยัดพลังงานพลาส Smart แผ่นรองเป้าหมาย Glass zink Oxide ZnO

ZnO 99.95 % สำหรับการผลิตกระจกประหยัดพลังงานพลาส Smart แผ่นรองเป้าหมาย Glass zink Oxide ZnO

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นหนีบผมเป้าหมาย Gzo Gallium Zin Oxide Gentering Gzo ขนาด 99.95 % เป้าหมาย Gzo SInputering

แผ่นหนีบผมเป้าหมาย Gzo Gallium Zin Oxide Gentering Gzo ขนาด 99.95 % เป้าหมาย Gzo SInputering

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องดูดฝุ่น PVD เป้าหมายแบบหมุนเคลือบไทเทเนียมออกไซด์ไทเทเนียม 99.9 % ชิ้นงานไทเทเนียมออกไซด์เคลือบไทเทเนียมเคลือบไทเทเนียม

เครื่องดูดฝุ่น PVD เป้าหมายแบบหมุนเคลือบไทเทเนียมออกไซด์ไทเทเนียม 99.9 % ชิ้นงานไทเทเนียมออกไซด์เคลือบไทเทเนียมเคลือบไทเทเนียม

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
แผงควบคุมเป้าหมายแบบหมุน Nobium Oxide (Nium Oxide 99.99 % ประสิทธิภาพสูง ชิ้นงานสำหรับพัตต์แบบหมุนได้ที่ใช้วัสดุเคลือบผิว

แผงควบคุมเป้าหมายแบบหมุน Nobium Oxide (Nium Oxide 99.99 % ประสิทธิภาพสูง ชิ้นงานสำหรับพัตต์แบบหมุนได้ที่ใช้วัสดุเคลือบผิว

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Able Target Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายของ Gdbacuox Smubering และเป้าหมาย Ybacox Searering , Gdba1.8a3ox Gdba1.cuba1.9 cuba3OV, Yb2cu3o7, Y1b2cub2cu7 ยาบิกุ ฉox

เป้าหมายของ Gdbacuox Smubering และเป้าหมาย Ybacox Searering , Gdba1.8a3ox Gdba1.cuba1.9 cuba3OV, Yb2cu3o7, Y1b2cub2cu7 ยาบิกุ ฉox

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานสปีปัตเตอริง , Al2O3/อะลูมิเนียม ออกไซด์ , Al2O3/ZnO/Azo Aluminium Oxide

ชิ้นงานสปีปัตเตอริง , Al2O3/อะลูมิเนียม ออกไซด์ , Al2O3/ZnO/Azo Aluminium Oxide

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานที่มีการสปัตเตอริง

ชิ้นงานที่มีการสปัตเตอริง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายสำหรับพัตต์ของโลกที่หายาก

เป้าหมายสำหรับพัตต์ของโลกที่หายาก

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เครื่องเคลือบด้วยอาร์กอนสำหรับการผลิตแบตช์ขนาดใหญ่ที่มีเป้าหมายแคโทดหลายตัว

เครื่องเคลือบด้วยอาร์กอนสำหรับการผลิตแบตช์ขนาดใหญ่ที่มีเป้าหมายแคโทดหลายตัว

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มโปร่งใสที่มีผลผลิตสูงด้วยเป้าหมาย ITO เครื่องเคลือบอาร์

เครื่องเคลือบฟิล์มโปร่งใสที่มีผลผลิตสูงด้วยเป้าหมาย ITO เครื่องเคลือบอาร์

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
การผลิตสารเคลือบป้องกันการสะท้อนสำหรับอุตสาหกรรมแว่นตา เครื่องเคลือบสารป้องกันการสะท้อน

การผลิตสารเคลือบป้องกันการสะท้อนสำหรับอุตสาหกรรมแว่นตา เครื่องเคลือบสารป้องกันการสะท้อน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มออพติคัลที่มีความแม่นยำพร้อมเครื่องทำความสะอาดพลาสม่าเคลือบอาร์

เครื่องเคลือบฟิล์มออพติคัลที่มีความแม่นยำพร้อมเครื่องทำความสะอาดพลาสม่าเคลือบอาร์

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
1/4
118
เกี่ยวกับเรา การประกาศ ข้อตกลงสำหรับผู้ใช้ นโยบายความเป็นส่วนตัว คอนแทคเตอร์ Made-in-China.com ผลิตภัณฑ์ด่วน ข้อมูลเชิงลึก
ตัวเลือกภาษา: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. สงวนลิขสิทธิ์
Focusจะไม่รับผิดชอบต่อความแตกต่างระหว่างเวอร์ชันภาษาอังกฤษและเวอร์ชันภาษาอื่นของเว็บไซต์ หากมีความขัดแย้งใด ๆ ให้ใช้เวอร์ชันภาษาอังกฤษเป็นหลัก การใช้ไซต์นี้ของคุณอยู่ภายใต้และถือเป็นการรับทราบและยอมรับ ของเรา ข้อกำหนดและเงื่อนไข