Question 1

ประโยชน์ของการใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิกคืออะไร?

Accepted Answer

เป้าสปัตเตอร์เซรามิกถูกใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมต่างๆ เนื่องจากคุณสมบัติและข้อดีที่เป็นเอกลักษณ์ หนึ่งในประโยชน์หลักของการใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิกคือความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม คุณลักษณะนี้ช่วยให้พวกเขารักษาความสมบูรณ์ทางโครงสร้างและประสิทธิภาพแม้ที่อุณหภูมิสูง ทำให้เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันในอิเล็กทรอนิกส์และออปติก นอกจากนี้ วัสดุเซรามิกมักแสดงให้เห็นถึง * ความแข็งและความต้านทานการสึกหรอเมื่อเปรียบเทียบกับวัสดุโลหะ ซึ่งแปลว่าเป้าหมายมีอายุการใช้งานยาวนานขึ้นและลดความถี่ในการเปลี่ยน
อีกหนึ่งข้อดีที่สำคัญคือความสามารถของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกในการผลิตฟิล์มบางคุณภาพสูงที่มีความสม่ำเสมอและการยึดเกาะที่ยอดเยี่ยม สิ่งนี้มีความสำคัญโดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งความแม่นยำของฟิล์มบางสามารถส่งผลโดยตรงต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ส่วนประกอบทางเคมีของวัสดุเซรามิกยังสามารถปรับแต่งเพื่อให้ได้คุณสมบัติทางไฟฟ้า ออปติก หรือกลศาสตร์เฉพาะ ทำให้สามารถปรับแต่งตามความต้องการของแอปพลิเคชันได้
นอกจากนี้ เป้าสปัตเตอร์เซรามิกยังมีแนวโน้มที่จะปนเปื้อนน้อยลงในระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์ สิ่งนี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมที่มีเทคโนโลยีสูงซึ่งแม้แต่สิ่งสกปรกเล็กน้อยก็สามารถนำไปสู่ข้อบกพร่องที่สำคัญในผลิตภัณฑ์สุดท้าย ลักษณะไม่ทำปฏิกิริยาของเซรามิกหลายชนิดยังหมายความว่าพวกเขาสามารถใช้ในกระบวนการสปัตเตอร์เชิงปฏิกิริยาโดยไม่มีความเสี่ยงของปฏิกิริยาเคมีที่ไม่ต้องการซึ่งอาจทำให้คุณภาพของฟิล์มที่ฝากลดลง
โดยสรุปแล้ว ประโยชน์ของการใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิก ได้แก่ ความเสถียรทางความร้อน ความแข็ง ความต้านทานการสึกหรอ ความสามารถในการผลิตฟิล์มบางคุณภาพสูง ตัวเลือกการปรับแต่ง และความเสี่ยงในการปนเปื้อนที่ลดลง ข้อดีเหล่านี้ทำให้พวกเขาเป็นตัวเลือกที่ต้องการในหลายแอปพลิเคชัน โดยเฉพาะในสาขาอิเล็กทรอนิกส์ ออปติก และวิทยาศาสตร์วัสดุ

Question 2

วิธีการผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิกคืออะไร?

Accepted Answer

กระบวนการผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิกประกอบด้วยหลายขั้นตอนสำคัญเพื่อให้แน่ใจว่าการผลิตวัสดุคุณภาพสูงที่เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันต่างๆ ในเบื้องต้น กระบวนการเริ่มต้นด้วยการเลือกวัตถุดิบ ซึ่งมักจะรวมถึงออกไซด์ของโลหะหรือสารประกอบเซรามิกอื่นๆ วัสดุเหล่านี้ถูกเลือกตามคุณสมบัติที่ต้องการของเป้าหมายสุดท้าย เช่น ความนำไฟฟ้า ความแข็ง และความเสถียรทางความร้อน
เมื่อเลือกวัตถุดิบแล้ว จะมีการผสมในสัดส่วนที่แม่นยำเพื่อสร้างผงที่เป็นเนื้อเดียวกัน จากนั้นผงนี้จะถูกนำไปผ่านกระบวนการที่เรียกว่าการบีบอัดผง ซึ่งจะถูกกดลงในแม่พิมพ์ภายใต้ความดันสูงเพื่อสร้างร่างกายสีเขียว ร่างกายสีเขียวนี้ยังไม่หนาแน่นเต็มที่และต้องการการประมวลผลเพิ่มเติมเพื่อให้ได้คุณสมบัติที่ต้องการ
ขั้นตอนถัดไปคือการเผาเตา ซึ่งเป็นการทำให้ร่างกายสีเขียวร้อนขึ้นที่อุณหภูมิที่ต่ำกว่าจุดหลอมเหลวในบรรยากาศที่ควบคุมได้ กระบวนการนี้ช่วยให้อนุภาคเชื่อมต่อกัน ส่งผลให้เกิดเป้าสปัตเตอร์เซรามิกที่หนาแน่นและแข็งแรง อุณหภูมิและเวลาที่ใช้ในการเผาจะถูกควบคุมอย่างระมัดระวังเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพโครงสร้างจุลภาคและคุณสมบัติของเป้าหมาย
หลังจากการเผา เป้าสปัตเตอร์เซรามิกอาจต้องผ่านกระบวนการเพิ่มเติม เช่น การกลึงหรือการขัดเพื่อให้ได้ขนาดและพื้นผิวที่ต้องการ กระบวนการทำให้เสร็จสมบูรณ์เหล่านี้มีความสำคัญต่อการทำให้แน่ใจว่าเป้าหมายสามารถรวมเข้ากับระบบสปัตเตอร์ได้อย่างง่ายดายและให้การฝากที่สม่ำเสมอในระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์
สุดท้าย เป้าสปัตเตอร์เซรามิกที่ผลิตแล้วจะต้องผ่านการทดสอบคุณภาพเพื่อให้แน่ใจว่าตรงตามข้อกำหนดและมาตรฐานที่จำเป็น ซึ่งอาจรวมถึงการทดสอบความหนาแน่น ความแข็ง และการวิเคราะห์โครงสร้างจุลภาค เมื่อพวกเขาผ่านการทดสอบเหล่านี้ เป้าหมายจะถูกบรรจุและเตรียมพร้อมสำหรับการจัดส่งให้กับลูกค้า
โดยสรุปแล้ว การผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิกเกี่ยวข้องกับการเลือกวัตถุดิบอย่างรอบคอบ การบีบอัดผง การเผา การทำให้เสร็จสมบูรณ์ และการควบคุมคุณภาพ แต่ละขั้นตอนมีความสำคัญต่อการผลิตเป้าหมายคุณภาพสูงที่ตรงตามความต้องการของอุตสาหกรรมต่างๆ

Question 3

แอปพลิเคชันใดบ้างที่ใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิก?

Accepted Answer

เป้าสปัตเตอร์เซรามิกถูกใช้ในหลากหลายแอปพลิเคชันในอุตสาหกรรมต่างๆ เนื่องจากคุณสมบัติและข้อดีที่เป็นเอกลักษณ์ หนึ่งในแอปพลิเคชันที่เด่นชัดที่สุดคือในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งใช้ในการฝากฟิล์มบางบนเวเฟอร์ซิลิคอน ฟิล์มบางเหล่านี้มีความสำคัญต่อการผลิตวงจรรวม เซนเซอร์ และส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ ความสามารถของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกในการผลิตฟิล์มคุณภาพสูงที่มีความสม่ำเสมอดีทำให้พวกเขาเหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันนี้
อีกหนึ่งแอปพลิเคชันที่สำคัญของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกคือในการผลิตการเคลือบออปติก การเคลือบเหล่านี้ใช้เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพของเลนส์ กระจก และส่วนประกอบออปติกอื่นๆ โดยการปรับปรุงการสะท้อน การส่งผ่าน และความทนทาน คุณสมบัติทางเคมีของวัสดุเซรามิกสามารถปรับแต่งเพื่อให้ได้คุณสมบัติทางออปติกเฉพาะ ทำให้พวกเขามีความหลากหลายสูงสำหรับแอปพลิเคชันทางออปติกต่างๆ
เป้าสปัตเตอร์เซรามิกยังถูกใช้ในการผลิตการเคลือบแข็งสำหรับเครื่องมือและส่วนประกอบ การเคลือบเหล่านี้ให้ความต้านทานการสึกหรอที่เพิ่มขึ้นและยืดอายุการใช้งานของเครื่องมือที่ใช้ในกระบวนการกลึงและการผลิต ความแข็งและความทนทานของวัสดุเซรามิกทำให้เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันที่การเคลือบแบบดั้งเดิมอาจล้มเหลว
นอกจากนี้ เป้าสปัตเตอร์เซรามิกยังใช้ในการผลิตการเคลือบตกแต่งสำหรับผลิตภัณฑ์ผู้บริโภค การเคลือบเหล่านี้สามารถให้ความน่าสนใจทางสุนทรียะในขณะที่ยังให้การป้องกันต่อการสึกหรอและการกัดกร่อน ความหลากหลายของวัสดุเซรามิกทำให้สามารถเลือกสีและการตกแต่งที่หลากหลาย ทำให้เป็นที่นิยมในอุตสาหกรรมยานยนต์และอิเล็กทรอนิกส์ผู้บริโภค
โดยสรุปแล้ว เป้าสปัตเตอร์เซรามิกมีการใช้งานในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ การเคลือบออปติก การเคลือบแข็งสำหรับเครื่องมือ และการเคลือบตกแต่งสำหรับผลิตภัณฑ์ผู้บริโภค คุณสมบัติและข้อดีที่เป็นเอกลักษณ์ทำให้พวกเขาเป็นทรัพยากรที่มีค่าในแอปพลิเคชันที่มีเทคโนโลยีสูงและอุตสาหกรรมต่างๆ

Question 4

วัสดุใดบ้างที่ใช้กันทั่วไปสำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิก?

Accepted Answer

เป้าสปัตเตอร์เซรามิกทำจากวัสดุหลากหลายชนิด ซึ่งแต่ละชนิดเลือกตามคุณสมบัติและความเหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันต่างๆ หนึ่งในวัสดุที่ใช้กันอย่างแพร่หลายที่สุดสำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิกคืออลูมิเนียมออกไซด์ หรือที่เรียกว่าอัลูมินา วัสดุนี้ได้รับความนิยมเนื่องจากความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม ความแข็ง และคุณสมบัติการเป็นฉนวนไฟฟ้า ทำให้เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันในอิเล็กทรอนิกส์และออปติก
วัสดุที่ใช้กันอย่างแพร่หลายอีกชนิดหนึ่งคือไทเทเนียมไดออกไซด์ ซึ่งเป็นที่รู้จักในด้านดัชนีการหักเหสูงและคุณสมบัติทางออปติกที่ยอดเยี่ยม เป้าหมายไทเทเนียมไดออกไซด์มักใช้ในการผลิตการเคลือบออปติก ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพของเลนส์และกระจก ความสามารถในการปรับแต่งคุณสมบัติของไทเทเนียมไดออกไซด์ผ่านการเติมสารอื่นๆ ยังขยายการใช้งานในอุตสาหกรรมต่างๆ
เซอร์โคเนียมออกไซด์เป็นอีกทางเลือกที่ได้รับความนิยมสำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิก มันมีความเสถียรทางความร้อนสูงและความต้านทานต่อการสึกหรอ ทำให้เหมาะสมสำหรับการเคลือบแข็งและแอปพลิเคชันที่ต้องการความทนทาน เป้าสเซอร์โคเนียมออกไซด์มักใช้ในการผลิตเครื่องมือและส่วนประกอบที่ต้องเผชิญกับความเครียดและการสึกหรอในระดับสูง
ซิลิคอนไนไตรด์ยังถูกใช้ในการผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิก โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ เป้าซิลิคอนไนไตรด์มีชื่อเสียงในด้านคุณสมบัติทางกลและความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม ทำให้เหมาะสมสำหรับการฝากฟิล์มบางบนเวเฟอร์ซิลิคอน ความสามารถในการสร้างฟิล์มคุณภาพสูงที่มีการยึดเกาะที่ดีมีความสำคัญต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์
โดยสรุปแล้ว วัสดุทั่วไปที่ใช้สำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิก ได้แก่ อลูมิเนียมออกไซด์ ไทเทเนียมไดออกไซด์ เซอร์โคเนียมออกไซด์ และซิลิคอนไนไตรด์ วัสดุแต่ละชนิดมีคุณสมบัติที่เป็นเอกลักษณ์ซึ่งทำให้เหมาะสมกับแอปพลิเคชันเฉพาะ ส่งผลให้เกิดความหลากหลายและประสิทธิภาพของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกในอุตสาหกรรมต่างๆ

เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก100+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

เป้าหมายเซรามิคโพลี - ซิลิคอนสำหรับเป้าหมายพัตต์ / ผลิตไฟฟ้าด้วยพลังงานแสงอาทิตย์

เป้าหมายโมโนซิลิคอน เซรามิกโมโนคริสตัลไลน์สำหรับการสปัตเตอร์ เป้าหมายพลังงานแสงอาทิตย์ โทรศัพท์มือถือ

In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

SrRuO3 เป้าหมายเซรามิกสตรอนเทียมรูทีเนตสำหรับการเคลือบฟิล์มบางแบบออปติคัล

ซินคัง เซรามิก สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต ความบริสุทธิ์สูง 99.99% เอชโซ (HfO2/ZrO2) สำหรับการเคลือบในสุญญากาศ

เซรามิกออกไซด์อลูมิเนียม 99.99% แผ่นกลม Al2O3 เป้าหมายการสปัตเตอร์ ขนาดที่กำหนดเอง

ซินกังเซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แทนทาลัมเพนทอกไซด์บริสุทธิ์สูง Ta2o5 แผ่นทองแดงพันธะ

ซิลิคอนคาร์ไบด์ ซิก ความบริสุทธิ์สูง เคลือบเซรามิกเป้าหมาย การประมวลผลการสปัตเตอร์แมกนีตรอน การปรับแต่ง

ซิลิคอนคาร์ไบด์เป้าหมาย ซิก 99.9% การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก

เป้าหมายที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.9%- 99.99% Ruo2 เป้าหมาย 1-10inch รูทีเนียมไดออกไซด์สำหรับการสปัตเตอร์

99.95% แท่งสปัตเตอร์แทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง

แลนทานัม เฮกซาโบรไบด์ Lab6 เซรามิก ดิสก์ สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต

เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

เซรามิกดิสก์เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีลานทานัมเฮกซาบอไรด์บริสุทธิ์สูง Lab6

เซรามิกเป้าหมายแลนทานัมเฮกซาโบรได์ที่มีอิเล็กตรอนปล่อยสูง Lab6

แบรนด์ TMAXCN 99.5% เป้าซิลิคอนคาร์ไบด์เซรามิกซิกสำหรับการเคลือบ

แบรนด์ TMAXCN ความบริสุทธิ์สูง 99.5% คาร์ไบด์โบรอนบริสุทธิ์ B4c เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก

เครื่องเคลือบด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบเบนช์ท็อปสำหรับโลหะ ออกไซด์ เซรามิก และเซมิคอนดักเตอร์

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกซิงค์สแตนเนตความหนาแน่นสูง Zn2sno4 วัสดุเคลือบเซรามิก

การเคลือบโลหะสูญญากาศด้วยเป้าหมายเซอร์โคเนียม

การเคลือบโลหะสูญญากาศด้วยเป้าหมายโลหะผสมไทเทเนียมและอลูมิเนียม

การเคลือบสูญญากาศเป้าหมายไทเทเนียม

ผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายไทเทเนียม

เป้าเซรามิก Strontium Ruthenate ความบริสุทธิ์สูง 99.99% Srruo3 ได้รับการรับรอง ISO9001 ขนาดกำหนดเอง สำหรับฟิล์มบางเซมิคอนดักเตอร์ PVD

เป้าหมายรูทีเนียมสำหรับการสปัตเตอร์ด้วยแมกเนตรอน ความบริสุทธิ์สูง

99.95% เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ทังสเตนความแม่นยำสูง

การเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบแพลนาร์ เป้าหมายการเคลือบด้วยแม่เหล็ก 2/4/6/8 นิ้ว

2 ปืนสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบสวิงขนาดนิ้วสำหรับอุปกรณ์เคลือบฟิล์มบาง

แหล่งสปัตเตอร์แมกเนตรอน 2 นิ้ว สำหรับเครื่องเคลือบ PVD ในสภาวะสูญญากาศ

2" เส้นผ่านศูนย์กลางแม่เหล็กถาวรแบบวงกลมสำหรับปืนเป้าหมายการเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แบบแมกนีตรอน

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ไนไตรด์โบรอน เรือระเหยไนไตรด์โบรอน เซรามิกโบรอนไนไตรด์ หม้อไฟฟ้า

ไทเทเนียมไดโบไรด์ (TiB2) แผ่นเป้าสปัตเตอร์ริ่ง เซรามิก

Tib2 เซรามิกส์เป้าหมายการพ่นไอระเหย ไทเทเนียมไดโบรไรด์

ลูกปืนอะลูมิเนียม APP-512 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

ลูกปืนอะลูมิเนียม API-625 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนเซรามิกที่มีจุดหลอมเหลวสูง Zr702

ท่อเป้าหมายที่มีความแข็งสูง ผิวเรียบและนิกเกิลที่มีความบริสุทธิ์สูง

เป้าหมายกลมจากนิกเกิลคุณภาพสูงสำหรับการสปัตเตอร์

ดีเยี่ยมในการนำความร้อนและไฟฟ้า แท่งกลมเซอร์โคเนียมบริสุทธิ์ตรง

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์ของอิตเทรียมบริสุทธิ์สูง 4n-5n สำหรับตัวเร่งปฏิกิริยา

ผงออกไซด์อิตเทรียมบริสุทธิ์สูง Y2o3 สำหรับวัสดุทันตกรรม

ผงแร่หายากบริสุทธิ์สูง 99.995% Y2o3 เม็ดสำหรับเป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก

ค่าใช้จ่ายต่ำ 99.999% แร่หายาก Y2o3 เม็ดสำหรับเคลือบเซรามิกขั้นสูง

โรงงานอุปกรณ์เคลือบด้วยสปัตเตอร์แมกนีตรอนสำหรับล้อรถยนต์

วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SInputering

การเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบเดี่ยว แบบคู่ และแบบสามด้วยการตรวจสอบความหนาของฟิล์ม

เครื่องเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบดูอัลทาร์เก็ตสูญญากาศขนาด 2 นิ้ว ด้วยพลังงาน RF

เครื่องเคลือบฟิล์มเซมิคอนดักเตอร์ด้วยการสปัตเตอร์แบบแมกนีตรอน RF แบบสองเป้าหมายในสภาวะสุญญากาศ

โค้ตเตอร์สปัตเตอร์ริงแมกเนตรอนสี่ตัวพร้อมห้องโหลดล็อกสำหรับฟิล์มบางเซรามิก

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนสี่เป้าสำหรับเซมิคอนดักเตอร์

วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

Izo Target, Sputtering Izo Target, Indium-Zinc Oxide

เป้าหมายของพลาริการ์สเทอริง , ฟิล์มกระจก ITO, TTP/TTTTTD/TM/TV-LCD ITO

Ito Target, LED / OLED / TP ITO Target, LED Semiconductor ITO Sassay

ATO Target, IR Window Film ATO , Antimony Tin Oxide Target

เป้าหมายของเซอร์รีเนียมสเทอริง

Ito ( แท็บเล็ต ) เป้าหมายการป้อนข้อมูล

เป้าหมาย Tiox

หมุนเป้าหมายซิลิคอน

Ito Customizable Size 99.99 % แผ่นเซรามิค Indium Tin Oxide หมุนเวียน ITO ชิ้นงานสปัตเตอริง

Mo1 ราคาเป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการสปัตเตอร์

คุณภาพสูงเป้าหมายโมลิบดีนัมแผ่นโมลิบดีนัม

ขายดีถาดโมลิบดีนัมบริสุทธิ์

เรือโมลิบดีนัมบริสุทธิ์ เรือโมลิบดีนัมที่เชื่อถือได้ที่สุด (La2O3) และเรือโลหะผสมทีซียม

หมุนขั้วไฟฟ้า, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนความแม่นยำสูงสำหรับโลหะ แก้ว และเซรามิก

เครื่องสปัตเตอร์แมกนีตรอน PVD สำหรับการบำบัดพื้นผิวเซรามิก

เป้าหมายการพ่นแบบหมุน 4n-5n ซิอัล นิค ร์ ซัล นิค ซัล ซีน ทิออกซ์ เอ็นบ็อกซ์

เครื่องพ่นผงเคลือบ เครื่องพ่น Hvof เครื่องเชื้อเพลิงออกซิเจนความเร็วสูง

บริการเคลือบผิวด้วยการพ่นสายไฟฟ้าคู่แบบอาร์ค

เครื่องเคลือบเซรามิก Hvof เครื่องเคลือบอาร์คความร้อน

Rare Earth Cerium Dioxide CEO2 99.95% Ceramic Sputtering Target PVD Coating

Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Dioxide Sio2 Ceramic Sputtering Target Granule for Evaporation Coating

Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

ราคาจากโรงงาน ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์ ITO หมุนเวียนคุณภาพสูง 4n In2o3 และ Sno2

ราคาจำหน่ายโรงงาน เป้าหมาย ITO ความบริสุทธิ์สูง สำหรับ Rpd 4n