Question 1

ประโยชน์ของการใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิกคืออะไร?

Accepted Answer

เป้าสปัตเตอร์เซรามิกถูกใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมต่างๆ เนื่องจากคุณสมบัติและข้อดีที่เป็นเอกลักษณ์ หนึ่งในประโยชน์หลักของการใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิกคือความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม คุณลักษณะนี้ช่วยให้พวกเขารักษาความสมบูรณ์ทางโครงสร้างและประสิทธิภาพแม้ที่อุณหภูมิสูง ทำให้เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันในอิเล็กทรอนิกส์และออปติก นอกจากนี้ วัสดุเซรามิกมักแสดงให้เห็นถึง * ความแข็งและความต้านทานการสึกหรอเมื่อเปรียบเทียบกับวัสดุโลหะ ซึ่งแปลว่าเป้าหมายมีอายุการใช้งานยาวนานขึ้นและลดความถี่ในการเปลี่ยน
อีกหนึ่งข้อดีที่สำคัญคือความสามารถของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกในการผลิตฟิล์มบางคุณภาพสูงที่มีความสม่ำเสมอและการยึดเกาะที่ยอดเยี่ยม สิ่งนี้มีความสำคัญโดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งความแม่นยำของฟิล์มบางสามารถส่งผลโดยตรงต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ส่วนประกอบทางเคมีของวัสดุเซรามิกยังสามารถปรับแต่งเพื่อให้ได้คุณสมบัติทางไฟฟ้า ออปติก หรือกลศาสตร์เฉพาะ ทำให้สามารถปรับแต่งตามความต้องการของแอปพลิเคชันได้
นอกจากนี้ เป้าสปัตเตอร์เซรามิกยังมีแนวโน้มที่จะปนเปื้อนน้อยลงในระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์ สิ่งนี้มีความสำคัญในอุตสาหกรรมที่มีเทคโนโลยีสูงซึ่งแม้แต่สิ่งสกปรกเล็กน้อยก็สามารถนำไปสู่ข้อบกพร่องที่สำคัญในผลิตภัณฑ์สุดท้าย ลักษณะไม่ทำปฏิกิริยาของเซรามิกหลายชนิดยังหมายความว่าพวกเขาสามารถใช้ในกระบวนการสปัตเตอร์เชิงปฏิกิริยาโดยไม่มีความเสี่ยงของปฏิกิริยาเคมีที่ไม่ต้องการซึ่งอาจทำให้คุณภาพของฟิล์มที่ฝากลดลง
โดยสรุปแล้ว ประโยชน์ของการใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิก ได้แก่ ความเสถียรทางความร้อน ความแข็ง ความต้านทานการสึกหรอ ความสามารถในการผลิตฟิล์มบางคุณภาพสูง ตัวเลือกการปรับแต่ง และความเสี่ยงในการปนเปื้อนที่ลดลง ข้อดีเหล่านี้ทำให้พวกเขาเป็นตัวเลือกที่ต้องการในหลายแอปพลิเคชัน โดยเฉพาะในสาขาอิเล็กทรอนิกส์ ออปติก และวิทยาศาสตร์วัสดุ

Question 2

วิธีการผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิกคืออะไร?

Accepted Answer

กระบวนการผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิกประกอบด้วยหลายขั้นตอนสำคัญเพื่อให้แน่ใจว่าการผลิตวัสดุคุณภาพสูงที่เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันต่างๆ ในเบื้องต้น กระบวนการเริ่มต้นด้วยการเลือกวัตถุดิบ ซึ่งมักจะรวมถึงออกไซด์ของโลหะหรือสารประกอบเซรามิกอื่นๆ วัสดุเหล่านี้ถูกเลือกตามคุณสมบัติที่ต้องการของเป้าหมายสุดท้าย เช่น ความนำไฟฟ้า ความแข็ง และความเสถียรทางความร้อน
เมื่อเลือกวัตถุดิบแล้ว จะมีการผสมในสัดส่วนที่แม่นยำเพื่อสร้างผงที่เป็นเนื้อเดียวกัน จากนั้นผงนี้จะถูกนำไปผ่านกระบวนการที่เรียกว่าการบีบอัดผง ซึ่งจะถูกกดลงในแม่พิมพ์ภายใต้ความดันสูงเพื่อสร้างร่างกายสีเขียว ร่างกายสีเขียวนี้ยังไม่หนาแน่นเต็มที่และต้องการการประมวลผลเพิ่มเติมเพื่อให้ได้คุณสมบัติที่ต้องการ
ขั้นตอนถัดไปคือการเผาเตา ซึ่งเป็นการทำให้ร่างกายสีเขียวร้อนขึ้นที่อุณหภูมิที่ต่ำกว่าจุดหลอมเหลวในบรรยากาศที่ควบคุมได้ กระบวนการนี้ช่วยให้อนุภาคเชื่อมต่อกัน ส่งผลให้เกิดเป้าสปัตเตอร์เซรามิกที่หนาแน่นและแข็งแรง อุณหภูมิและเวลาที่ใช้ในการเผาจะถูกควบคุมอย่างระมัดระวังเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพโครงสร้างจุลภาคและคุณสมบัติของเป้าหมาย
หลังจากการเผา เป้าสปัตเตอร์เซรามิกอาจต้องผ่านกระบวนการเพิ่มเติม เช่น การกลึงหรือการขัดเพื่อให้ได้ขนาดและพื้นผิวที่ต้องการ กระบวนการทำให้เสร็จสมบูรณ์เหล่านี้มีความสำคัญต่อการทำให้แน่ใจว่าเป้าหมายสามารถรวมเข้ากับระบบสปัตเตอร์ได้อย่างง่ายดายและให้การฝากที่สม่ำเสมอในระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์
สุดท้าย เป้าสปัตเตอร์เซรามิกที่ผลิตแล้วจะต้องผ่านการทดสอบคุณภาพเพื่อให้แน่ใจว่าตรงตามข้อกำหนดและมาตรฐานที่จำเป็น ซึ่งอาจรวมถึงการทดสอบความหนาแน่น ความแข็ง และการวิเคราะห์โครงสร้างจุลภาค เมื่อพวกเขาผ่านการทดสอบเหล่านี้ เป้าหมายจะถูกบรรจุและเตรียมพร้อมสำหรับการจัดส่งให้กับลูกค้า
โดยสรุปแล้ว การผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิกเกี่ยวข้องกับการเลือกวัตถุดิบอย่างรอบคอบ การบีบอัดผง การเผา การทำให้เสร็จสมบูรณ์ และการควบคุมคุณภาพ แต่ละขั้นตอนมีความสำคัญต่อการผลิตเป้าหมายคุณภาพสูงที่ตรงตามความต้องการของอุตสาหกรรมต่างๆ

Question 3

แอปพลิเคชันใดบ้างที่ใช้เป้าสปัตเตอร์เซรามิก?

Accepted Answer

เป้าสปัตเตอร์เซรามิกถูกใช้ในหลากหลายแอปพลิเคชันในอุตสาหกรรมต่างๆ เนื่องจากคุณสมบัติและข้อดีที่เป็นเอกลักษณ์ หนึ่งในแอปพลิเคชันที่เด่นชัดที่สุดคือในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งใช้ในการฝากฟิล์มบางบนเวเฟอร์ซิลิคอน ฟิล์มบางเหล่านี้มีความสำคัญต่อการผลิตวงจรรวม เซนเซอร์ และส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ ความสามารถของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกในการผลิตฟิล์มคุณภาพสูงที่มีความสม่ำเสมอดีทำให้พวกเขาเหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันนี้
อีกหนึ่งแอปพลิเคชันที่สำคัญของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกคือในการผลิตการเคลือบออปติก การเคลือบเหล่านี้ใช้เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพของเลนส์ กระจก และส่วนประกอบออปติกอื่นๆ โดยการปรับปรุงการสะท้อน การส่งผ่าน และความทนทาน คุณสมบัติทางเคมีของวัสดุเซรามิกสามารถปรับแต่งเพื่อให้ได้คุณสมบัติทางออปติกเฉพาะ ทำให้พวกเขามีความหลากหลายสูงสำหรับแอปพลิเคชันทางออปติกต่างๆ
เป้าสปัตเตอร์เซรามิกยังถูกใช้ในการผลิตการเคลือบแข็งสำหรับเครื่องมือและส่วนประกอบ การเคลือบเหล่านี้ให้ความต้านทานการสึกหรอที่เพิ่มขึ้นและยืดอายุการใช้งานของเครื่องมือที่ใช้ในกระบวนการกลึงและการผลิต ความแข็งและความทนทานของวัสดุเซรามิกทำให้เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันที่การเคลือบแบบดั้งเดิมอาจล้มเหลว
นอกจากนี้ เป้าสปัตเตอร์เซรามิกยังใช้ในการผลิตการเคลือบตกแต่งสำหรับผลิตภัณฑ์ผู้บริโภค การเคลือบเหล่านี้สามารถให้ความน่าสนใจทางสุนทรียะในขณะที่ยังให้การป้องกันต่อการสึกหรอและการกัดกร่อน ความหลากหลายของวัสดุเซรามิกทำให้สามารถเลือกสีและการตกแต่งที่หลากหลาย ทำให้เป็นที่นิยมในอุตสาหกรรมยานยนต์และอิเล็กทรอนิกส์ผู้บริโภค
โดยสรุปแล้ว เป้าสปัตเตอร์เซรามิกมีการใช้งานในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ การเคลือบออปติก การเคลือบแข็งสำหรับเครื่องมือ และการเคลือบตกแต่งสำหรับผลิตภัณฑ์ผู้บริโภค คุณสมบัติและข้อดีที่เป็นเอกลักษณ์ทำให้พวกเขาเป็นทรัพยากรที่มีค่าในแอปพลิเคชันที่มีเทคโนโลยีสูงและอุตสาหกรรมต่างๆ

Question 4

วัสดุใดบ้างที่ใช้กันทั่วไปสำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิก?

Accepted Answer

เป้าสปัตเตอร์เซรามิกทำจากวัสดุหลากหลายชนิด ซึ่งแต่ละชนิดเลือกตามคุณสมบัติและความเหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันต่างๆ หนึ่งในวัสดุที่ใช้กันอย่างแพร่หลายที่สุดสำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิกคืออลูมิเนียมออกไซด์ หรือที่เรียกว่าอัลูมินา วัสดุนี้ได้รับความนิยมเนื่องจากความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม ความแข็ง และคุณสมบัติการเป็นฉนวนไฟฟ้า ทำให้เหมาะสมสำหรับแอปพลิเคชันในอิเล็กทรอนิกส์และออปติก
วัสดุที่ใช้กันอย่างแพร่หลายอีกชนิดหนึ่งคือไทเทเนียมไดออกไซด์ ซึ่งเป็นที่รู้จักในด้านดัชนีการหักเหสูงและคุณสมบัติทางออปติกที่ยอดเยี่ยม เป้าหมายไทเทเนียมไดออกไซด์มักใช้ในการผลิตการเคลือบออปติก ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพของเลนส์และกระจก ความสามารถในการปรับแต่งคุณสมบัติของไทเทเนียมไดออกไซด์ผ่านการเติมสารอื่นๆ ยังขยายการใช้งานในอุตสาหกรรมต่างๆ
เซอร์โคเนียมออกไซด์เป็นอีกทางเลือกที่ได้รับความนิยมสำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิก มันมีความเสถียรทางความร้อนสูงและความต้านทานต่อการสึกหรอ ทำให้เหมาะสมสำหรับการเคลือบแข็งและแอปพลิเคชันที่ต้องการความทนทาน เป้าสเซอร์โคเนียมออกไซด์มักใช้ในการผลิตเครื่องมือและส่วนประกอบที่ต้องเผชิญกับความเครียดและการสึกหรอในระดับสูง
ซิลิคอนไนไตรด์ยังถูกใช้ในการผลิตเป้าสปัตเตอร์เซรามิก โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ เป้าซิลิคอนไนไตรด์มีชื่อเสียงในด้านคุณสมบัติทางกลและความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม ทำให้เหมาะสมสำหรับการฝากฟิล์มบางบนเวเฟอร์ซิลิคอน ความสามารถในการสร้างฟิล์มคุณภาพสูงที่มีการยึดเกาะที่ดีมีความสำคัญต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์
โดยสรุปแล้ว วัสดุทั่วไปที่ใช้สำหรับเป้าสปัตเตอร์เซรามิก ได้แก่ อลูมิเนียมออกไซด์ ไทเทเนียมไดออกไซด์ เซอร์โคเนียมออกไซด์ และซิลิคอนไนไตรด์ วัสดุแต่ละชนิดมีคุณสมบัติที่เป็นเอกลักษณ์ซึ่งทำให้เหมาะสมกับแอปพลิเคชันเฉพาะ ส่งผลให้เกิดความหลากหลายและประสิทธิภาพของเป้าสปัตเตอร์เซรามิกในอุตสาหกรรมต่างๆ

เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก90+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

เป้าหมายเซรามิคโพลี - ซิลิคอนสำหรับเป้าหมายพัตต์ / ผลิตไฟฟ้าด้วยพลังงานแสงอาทิตย์

เป้าหมายโมโนซิลิคอน เซรามิกโมโนคริสตัลไลน์สำหรับการสปัตเตอร์ เป้าหมายพลังงานแสงอาทิตย์ โทรศัพท์มือถือ

In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

SrRuO3 เป้าหมายเซรามิกสตรอนเทียมรูทีเนตสำหรับการเคลือบฟิล์มบางแบบออปติคัล

เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก Znse ความบริสุทธิ์สูง 99.99% สำหรับการเคลือบฟิล์มบาง

ความหนาแน่นสูง 99.99% อลูมินาแท้ อลูมิเนียม Oxide/Al2O3 เป้าหมายการสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก

สนับสนุน OEM MOS2 เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก

99.9% เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกฮาฟเนียมออกไซด์ Hfo2 แผ่นสำหรับการเคลือบสุญญากาศ

99.99% Tasi2 เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิไซด์แทนทาลัมเซรามิก

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ที่ทำจากเซรามิก Gzo ซึ่งมีการเติมสารเจือปนแกลเลียมในออกไซด์ของสังกะสี

99.95% Cosi2 เป้าหมายการสปัตเตอร์ โคบอลต์ซิลิไซด์ เป้าหมายเซรามิกสำหรับการสปัตเตอร์

99.99% B4c เป้าหมายเซรามิก คาร์บอไนด์โบรอน คาร์บอน เป้าหมายการสปัตเตอร์สำหรับการเคลือบ

ซิลิคอนคาร์ไบด์เป้าหมาย ซิก 99.9% การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก

ซิลิคอนคาร์ไบด์ ซิก ความบริสุทธิ์สูง เคลือบเซรามิกเป้าหมาย การประมวลผลการสปัตเตอร์แมกนีตรอน การปรับแต่ง

เป้าหมายที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.9%- 99.99% Ruo2 เป้าหมาย 1-10inch รูทีเนียมไดออกไซด์สำหรับการสปัตเตอร์

99.95% แท่งสปัตเตอร์แทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง

แลนทานัม เฮกซาโบรไบด์ Lab6 เซรามิก ดิสก์ สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต

เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

เซรามิกเป้าหมายแลนทานัมเฮกซาโบรได์ที่มีอิเล็กตรอนปล่อยสูง Lab6

เป้าหมายการพ่นวัสดุเซรามิกแลนทานัมโบรไรด์ Lab6

แบรนด์ TMAXCN 99.5% เป้าซิลิคอนคาร์ไบด์เซรามิกซิกสำหรับการเคลือบ

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกซิงค์สแตนเนตความหนาแน่นสูง Zn2sno4 วัสดุเคลือบเซรามิก

แบรนด์ TMAXCN ความบริสุทธิ์สูง 99.5% คาร์ไบด์โบรอนบริสุทธิ์ B4c เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก

เครื่องเคลือบด้วยแม่เหล็กไฟฟ้าแบบเบนช์ท็อปสำหรับโลหะ ออกไซด์ เซรามิก และเซมิคอนดักเตอร์

ผู้ผลิตและผู้จัดจำหน่ายเป้าหมายไทเทเนียม

อุปกรณ์เคลือบด้วยการพ่นพลาสม่า PVD สำหรับภาชนะบนโต๊ะอาหาร

เครื่องเคลือบสูญญากาศด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอน Mf PVD

สายการเคลือบด้วยการพ่นสปัตเตอร์แม่เหล็กสำหรับการตกแต่ง PVD ของนาฬิกาที่มีคุณภาพสูง

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ไนไตรด์โบรอน เรือระเหยไนไตรด์โบรอน เซรามิกโบรอนไนไตรด์ หม้อไฟฟ้า

ไทเทเนียมไดโบไรด์ (TiB2) แผ่นเป้าสปัตเตอร์ริ่ง เซรามิก

Tib2 เซรามิกส์เป้าหมายการพ่นไอระเหย ไทเทเนียมไดโบรไรด์

ลูกปืนอะลูมิเนียม API-625 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

ลูกปืนอะลูมิเนียม APP-512 เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.999% มีสินค้าในสต็อก

เป้าหมายรูทีเนียมสำหรับการสปัตเตอร์ด้วยแมกเนตรอน ความบริสุทธิ์สูง

วัสดุเป้าหมายซิลิคอนไนไตรด์บริสุทธิ์สูง

4n เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ทังสเตนความแม่นยำสูง

เป้าหมายทองแดงบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์ในสุญญากาศ

เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนเซรามิกที่มีจุดหลอมเหลวสูง Zr702

เป้าหมายกลมจากนิกเกิลคุณภาพสูงสำหรับการสปัตเตอร์

ท่อเป้าหมายที่มีความแข็งสูง ผิวเรียบและนิกเกิลที่มีความบริสุทธิ์สูง

ดีเยี่ยมในการนำความร้อนและไฟฟ้า แท่งกลมเซอร์โคเนียมบริสุทธิ์ตรง

เป้าหมายการสปัตเตอร์ออกไซด์ของอิตเทรียมระดับพรีเมียม 4n-5n สำหรับตัวเร่งปฏิกิริยา

ผงออกไซด์อิตเทรียมบริสุทธิ์สูง Y2o3 สำหรับวัสดุทันตกรรม

ผงแร่หายากบริสุทธิ์สูง 99.995% Y2o3 เม็ดสำหรับเป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิก

เครื่องเคลือบฟิล์มตกแต่งแบบสูญญากาศซิเซล (CCZK-ION)

เครื่องเคลือบฟิล์มแม่เหล็กแบบต่อเนื่องด้วยกระบวนการสปัตเตอร์ที่มีคุณภาพสูง

เครื่องจักรเคลือบสูญญากาศชิ้นส่วนรถยนต์คุณภาพสูง

วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SInputering

โค้ตเตอร์สปัตเตอร์ริงแมกเนตรอนสี่ตัวพร้อมห้องโหลดล็อกสำหรับฟิล์มบางเซรามิก

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

เครื่องเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบปรับแต่งได้พร้อม 3 เป้าหมายสำหรับการเตรียมโลหะ

การเคลือบด้วยสปัตเตอร์แมกเนตรอนแบบเป้าหมายเดียวพร้อมตัวตรวจสอบความหนาฟิล์ม

การสปัตเตอร์ด้วยแม่เหล็กแบบจุดเดียวที่มีฟังก์ชันการพันใยแก้วนำแสง

การเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบเดี่ยว แบบคู่ และแบบสามด้วยการตรวจสอบความหนาของฟิล์ม

วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

Ito ( แท็บเล็ต ) เป้าหมายการป้อนข้อมูล

เป้าหมายของเซอร์รีเนียมสเทอริง

ITO Target

เป้าหมาย Tiox

เป้าหมายการป้อนข้อมูล Ito

เป้าหมายของเอาต์พุตเป้าหมายแบบ Oium ที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับอุตสาหกรรมฟิล์มบาง

คุณภาพสูงเป้าหมายโมลิบดีนัมแผ่นโมลิบดีนัม

Mo1 ราคาเป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการสปัตเตอร์

เรือโมลิบดีนัมถาดโมลิบดีนัมที่เชื่อถือได้

ขายดีถาดโมลิบดีนัมบริสุทธิ์

Ferrous Oxide Feo 4n Sputtering Target for PVD Coating

Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

Yttrium Zirconium Oxide Ysz(Zro2/Y2o3 99.99% Sputtering Target Ceramic Target

Dioxide Sio2 Ceramic Sputtering Target Granule for Evaporation Coating

หมุนแคโทด, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

เครื่องสปัตเตอร์แมกนีตรอน PVD สำหรับการบำบัดพื้นผิวเซรามิก

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนความแม่นยำสูงสำหรับโลหะ แก้ว และเซรามิก

99.999% แผ่นเป้าหมายซิลิคอนโมโนคริสตัลบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์/เป้าหมายเซรามิกซิลิคอน

4n เป้าหมาย Azo ZnO: Al2O3 เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบหมุน

4n TiO2 เป้าหมายไทเทเนียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

ราคาจากโรงงาน ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์ ITO หมุนเวียนคุณภาพสูง 4n In2o3 และ Sno2

ราคาจำหน่ายโรงงาน เป้าหมาย ITO ความบริสุทธิ์สูง สำหรับ Rpd 4n

ราคาจำหน่ายโรงงาน เปอร์เซ็นต์ต่ำ 4n เป้าหมายกลม ITO ขนาดเล็ก