หน้าหลักarrow-rightดัชนีโรงงานของจีนarrow-rightวัสดุเซรามิกเป้าหมาย โรงงานarrow-rightรายการของซัพพลายเออร์
ฟิลเตอร์
หมวดหมู่สินค้า
เพิ่มเติม
การรับรองระบบการจัดการ
เพิ่มเติม
ขีดความสามารถด้านวิจัยและพัฒนา
รายได้ประจำปี
เพิ่มเติม
จำนวนพนักงาน
เพิ่มเติม
จังหวัดและภูมิภาค
เพิ่มเติม
เกี่ยวกับ วัสดุเซรามิกเป้าหมาย
  • นวัตกรรมเทคโนโลยี
  • ซัพพลายเชนที่เชื่อถือได้
  • ความสามารถในการผลิตอย่างครบวงจร

วัสดุเซรามิกเป้าหมาย600+ โรงงานได้รับการตรวจสอบแล้ว

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Wo3 วัสดุเคลือบเซรามิกออกไซด์ทังสเตนเป้าหมาย

Wo3 วัสดุเคลือบเซรามิกออกไซด์ทังสเตนเป้าหมาย

US$100.00-500.00
1 บางส่วน(MOQ)
แผ่นดิสก์เซรามิก ITO วัสดุ ITO เป้าหมายออกไซด์อินเดียมและดีบุกสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง

แผ่นดิสก์เซรามิก ITO วัสดุ ITO เป้าหมายออกไซด์อินเดียมและดีบุกสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง

US$100.00-120.00
1 pieces(MOQ)
แผ่นทองแดงที่มีการเชื่อมต่อด้วยคาร์บอนบริสุทธิ์สูง 99.999% วัสดุเซรามิก ขนาดที่กำหนดเอง

แผ่นทองแดงที่มีการเชื่อมต่อด้วยคาร์บอนบริสุทธิ์สูง 99.999% วัสดุเซรามิก ขนาดที่กำหนดเอง

US$110.00-120.00
1 บางส่วน(MOQ)
99.99% วัสดุเซรามิก เป้าหมาย Znse เป้าหมายการสปัตเตอร์ Znse สำหรับการเคลือบ

99.99% วัสดุเซรามิก เป้าหมาย Znse เป้าหมายการสปัตเตอร์ Znse สำหรับการเคลือบ

US$110.00-120.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายเซรามิคโพลี - ซิลิคอนสำหรับเป้าหมายพัตต์ / ผลิตไฟฟ้าด้วยพลังงานแสงอาทิตย์

เป้าหมายเซรามิคโพลี - ซิลิคอนสำหรับเป้าหมายพัตต์ / ผลิตไฟฟ้าด้วยพลังงานแสงอาทิตย์

US$35.00-50.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายโมโนซิลิคอน เซรามิกโมโนคริสตัลไลน์สำหรับการสปัตเตอร์ เป้าหมายพลังงานแสงอาทิตย์ โทรศัพท์มือถือ

เป้าหมายโมโนซิลิคอน เซรามิกโมโนคริสตัลไลน์สำหรับการสปัตเตอร์ เป้าหมายพลังงานแสงอาทิตย์ โทรศัพท์มือถือ

US$35.00-75.00
1 กก.(MOQ)
In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

In2O3+Cu เป้าหมายเซรามิกออกไซด์อินเดียม+ทองแดงสำหรับการพ่นเป้าหมายเซรามิกสำหรับ LCD/แผงสัมผัส

US$40.00
1 กก.(MOQ)
SrRuO3 เป้าหมายเซรามิกสตรอนเทียมรูทีเนตสำหรับการเคลือบฟิล์มบางแบบออปติคัล

SrRuO3 เป้าหมายเซรามิกสตรอนเทียมรูทีเนตสำหรับการเคลือบฟิล์มบางแบบออปติคัล

US$40.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
แลนทานัม เฮกซาโบรไบด์ Lab6 เซรามิก ดิสก์ สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต

แลนทานัม เฮกซาโบรไบด์ Lab6 เซรามิก ดิสก์ สปัตเตอร์ริ่ง ทาร์เก็ต

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

เซรามิกเป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมเฮกซาโบรไรด์ Lab6 สำหรับการเคลือบฟิล์มบางด้วย PVD

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
เซรามิกเป้าหมายแลนทานัมเฮกซาโบรได์ที่มีอิเล็กตรอนปล่อยสูง Lab6

เซรามิกเป้าหมายแลนทานัมเฮกซาโบรได์ที่มีอิเล็กตรอนปล่อยสูง Lab6

US$50.00-200.00
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุคอมโพสิตที่ปรับแต่งได้ โบรอนไนไตรด์กับเซรามิกซิลิกอนไนไตรด์

วัสดุคอมโพสิตที่ปรับแต่งได้ โบรอนไนไตรด์กับเซรามิกซิลิกอนไนไตรด์

US$5.00-50.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
วัสดุเป้าหมายโครเมียมสำหรับเครื่องเคลือบสูญญากาศ

วัสดุเป้าหมายโครเมียมสำหรับเครื่องเคลือบสูญญากาศ

US$30.00-100.00
1 บางส่วน(MOQ)
ผู้ผลิตเครื่องเคลือบ PVD สำหรับก๊อกน้ำและเฟอร์นิเจอร์สแตนเลสสตีล

ผู้ผลิตเครื่องเคลือบ PVD สำหรับก๊อกน้ำและเฟอร์นิเจอร์สแตนเลสสตีล

US$15,000.00-150,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบเหล็กด้วยเทคโนโลยี PVD Arc

เครื่องเคลือบเหล็กด้วยเทคโนโลยี PVD Arc

US$55,000.00-150,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกเนตรอน

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกเนตรอน

US$55,000.00-150,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 ปี·5.0
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ไนไตรด์โบรอน เรือระเหยไนไตรด์โบรอน เซรามิกโบรอนไนไตรด์ หม้อไฟฟ้า

เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ไนไตรด์โบรอน เรือระเหยไนไตรด์โบรอน เซรามิกโบรอนไนไตรด์ หม้อไฟฟ้า

US$150.00-160.00
100 กก.(MOQ)
ไทเทเนียมไดโบไรด์ (TiB2) แผ่นเป้าสปัตเตอร์ริ่ง เซรามิก

ไทเทเนียมไดโบไรด์ (TiB2) แผ่นเป้าสปัตเตอร์ริ่ง เซรามิก

US$30.00
50 กก.(MOQ)
Tib2 เซรามิกส์เป้าหมายการพ่นไอระเหย ไทเทเนียมไดโบรไรด์

Tib2 เซรามิกส์เป้าหมายการพ่นไอระเหย ไทเทเนียมไดโบรไรด์

US$30.00
50 กก.(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายรูทีเนียมสำหรับการสปัตเตอร์ด้วยแมกเนตรอน ความบริสุทธิ์สูง

เป้าหมายรูทีเนียมสำหรับการสปัตเตอร์ด้วยแมกเนตรอน ความบริสุทธิ์สูง

US$32,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ทังสเตนความแม่นยำสูง

4n เป้าสำหรับการสปัตเตอร์ทังสเตนความแม่นยำสูง

US$3,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายรูทีเนียมบริสุทธิ์สูงเป้าหมายแบบกลมสำหรับการสปัตเตอร์

เป้าหมายรูทีเนียมบริสุทธิ์สูงเป้าหมายแบบกลมสำหรับการสปัตเตอร์

US$75,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายซิลิคอนไนไตรด์บริสุทธิ์สูง

วัสดุเป้าหมายซิลิคอนไนไตรด์บริสุทธิ์สูง

US$15,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
99.99% แผ่นเป้าหมายเซรามิกแทค ทังสเตนคาร์ไบด์

99.99% แผ่นเป้าหมายเซรามิกแทค ทังสเตนคาร์ไบด์

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.99% VSI2 เป้าหมายเซรามิก วานาเดียม ไดซิลิไซด์ เป้าหมายการสปัตเตอร์

99.99% VSI2 เป้าหมายเซรามิก วานาเดียม ไดซิลิไซด์ เป้าหมายการสปัตเตอร์

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
99.9% เป้าหมายเซรามิก WC ทังสเตนคาร์ไบด์ ทังสเตนคาร์บอน สำหรับการเคลือบ DLC

99.9% เป้าหมายเซรามิก WC ทังสเตนคาร์ไบด์ ทังสเตนคาร์บอน สำหรับการเคลือบ DLC

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
เป้าหมายเซรามิกคาร์ไบด์อะลูมิเนียมคุณภาพสูง Al4c3 เป้าหมาย

เป้าหมายเซรามิกคาร์ไบด์อะลูมิเนียมคุณภาพสูง Al4c3 เป้าหมาย

US$17.00-55.00
1 กก.(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
ซิลิคอนคาร์ไบด์เป้าหมาย ซิก 99.9% การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก

ซิลิคอนคาร์ไบด์เป้าหมาย ซิก 99.9% การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ เป้าหมายเซรามิก

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ซิลิคอนคาร์ไบด์ ซิก ความบริสุทธิ์สูง เคลือบเซรามิกเป้าหมาย การประมวลผลการสปัตเตอร์แมกนีตรอน การปรับแต่ง

ซิลิคอนคาร์ไบด์ ซิก ความบริสุทธิ์สูง เคลือบเซรามิกเป้าหมาย การประมวลผลการสปัตเตอร์แมกนีตรอน การปรับแต่ง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.9%- 99.99% Ruo2 เป้าหมาย 1-10inch รูทีเนียมไดออกไซด์สำหรับการสปัตเตอร์

เป้าหมายที่มีความบริสุทธิ์สูง 99.9%- 99.99% Ruo2 เป้าหมาย 1-10inch รูทีเนียมไดออกไซด์สำหรับการสปัตเตอร์

US$2,000.00-4,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์แทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง, เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม โรเดียม / รูทีเนียม

เป้าหมายการสปัตเตอร์แทนทาลัมบริสุทธิ์สูงสำหรับการเคลือบฟิล์มบาง, เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม โรเดียม / รูทีเนียม

US$700.00-1,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายกลมจากนิกเกิลคุณภาพสูงสำหรับการสปัตเตอร์

เป้าหมายกลมจากนิกเกิลคุณภาพสูงสำหรับการสปัตเตอร์

US$10.00
1 pcs(MOQ)
ท่อเป้าหมายที่มีความแข็งสูง ผิวเรียบและนิกเกิลที่มีความบริสุทธิ์สูง

ท่อเป้าหมายที่มีความแข็งสูง ผิวเรียบและนิกเกิลที่มีความบริสุทธิ์สูง

US$30.00
10 ชิ้น(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนเซรามิกที่มีจุดหลอมเหลวสูง Zr702

เป้าหมายการสปัตเตอร์ซิลิคอนเซรามิกที่มีจุดหลอมเหลวสูง Zr702

US$15.00
1 pcs(MOQ)
ดีเยี่ยมในการนำความร้อนและไฟฟ้า แท่งกลมเซอร์โคเนียมบริสุทธิ์ตรง

ดีเยี่ยมในการนำความร้อนและไฟฟ้า แท่งกลมเซอร์โคเนียมบริสุทธิ์ตรง

US$15.00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

ราคาเป้าหมายไทเทเนียมสำหรับการเคลือบ PVD/เป้าหมายไทเทเนียมแบบสปัตเตอร์บริสุทธิ์สูง เป้าหมายไทเทเนียมกลมสำหรับขาย

US$80.00-300.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบ PVD สำหรับแผ่นสแตนเลสสตีลคุณภาพสูง เครื่องเคลือบสูญญากาศขนาดใหญ่สำหรับท่อสแตนเลส เครื่องเคลือบแผ่นสแตนเลสสตีลสี

เครื่องเคลือบ PVD สำหรับแผ่นสแตนเลสสตีลคุณภาพสูง เครื่องเคลือบสูญญากาศขนาดใหญ่สำหรับท่อสแตนเลส เครื่องเคลือบแผ่นสแตนเลสสตีลสี

US$45,000.00-150,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
เครื่องเคลือบสูญญากาศ Cicel PVD สำหรับอ่างหรืออ่างล้างหน้า

เครื่องเคลือบสูญญากาศ Cicel PVD สำหรับอ่างหรืออ่างล้างหน้า

US$20,000.00-55,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
อุปกรณ์เคลือบด้วยสูญญากาศ PVD สำหรับแว่นกันแดด

อุปกรณ์เคลือบด้วยสูญญากาศ PVD สำหรับแว่นกันแดด

US$30,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมาย Tiox

เป้าหมาย Tiox

ต่อรองได้
5 ชิ้น(MOQ)
ITO Target

ITO Target

ต่อรองได้
5 ชิ้น(MOQ)
Ito ( แท็บเล็ต ) เป้าหมายการป้อนข้อมูล

Ito ( แท็บเล็ต ) เป้าหมายการป้อนข้อมูล

ต่อรองได้
5 ชิ้น(MOQ)
หมุนเป้าหมายซิลิคอน

หมุนเป้าหมายซิลิคอน

ต่อรองได้
5 เซ็ต(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 ปี
·ผู้ผลิต/โรงงานผลิต
ส่งแบบสอบถาม
เซรามิก, ไดอิเล็กทริก, ออปติก, ออกไซด์, ฟิล์มแข็ง, ฟิล์ม PTFE เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดูอัลเป้าหมาย

เซรามิก, ไดอิเล็กทริก, ออปติก, ออกไซด์, ฟิล์มแข็ง, ฟิล์ม PTFE เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนแบบดูอัลเป้าหมาย

US$26,500.00
1 บางส่วน(MOQ)
การเคลือบด้วยสปัตเตอร์แมกเนตรอนแบบเป้าหมายเดียวพร้อมตัวตรวจสอบความหนาฟิล์ม

การเคลือบด้วยสปัตเตอร์แมกเนตรอนแบบเป้าหมายเดียวพร้อมตัวตรวจสอบความหนาฟิล์ม

US$18,000.00-19,200.00
1 set(MOQ)
การเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบเดี่ยว แบบคู่ และแบบสามด้วยการตรวจสอบความหนาของฟิล์ม

การเคลือบด้วยแม่เหล็กแบบเดี่ยว แบบคู่ และแบบสามด้วยการตรวจสอบความหนาของฟิล์ม

US$60,000.00-61,200.00
1 set(MOQ)
การสปัตเตอร์ด้วยแม่เหล็กแบบจุดเดียวที่มีฟังก์ชันการพันใยแก้วนำแสง

การสปัตเตอร์ด้วยแม่เหล็กแบบจุดเดียวที่มีฟังก์ชันการพันใยแก้วนำแสง

US$28,000.00-29,500.00
1 set(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

Boron Nitride (BN) อุปกรณ์เคลือบเซรามิค Ntride PVD Scarbering , ไทเทเนียมไทเทเนียมคาร์ไบด์ , ไทเทเนียมขอบนอก , ขนาดที่ปรับแต่งได้ , การติดแผ่นรองด้านใน

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SOutput ความแม่นยำของชิ้นงาน , ข้อมูลจำเพาะแบบกำหนดเอง

วัสดุเป้าหมาย Ito (Indium Tin Oxide) หน้า Indium Tin Oxide Semiconductor Conductive Film แผ่นฟิล์ม Magnetoron SOutput ความแม่นยำของชิ้นงาน , ข้อมูลจำเพาะแบบกำหนดเอง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
แบเรียมไตตาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตรอนเทียเนต Target Basritot3, PVD Magnetoron SInputtrering Target , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ , อนุภาค , การติดแผ่นรอง

แบเรียมไตตาติโอ 3 เป้าหมาย , แบเรียมสตรอนเทียเนต Target Basritot3, PVD Magnetoron SInputtrering Target , วัสดุสิ้นเปลืองในห้องปฏิบัติการ , อนุภาค , การติดแผ่นรอง

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

วัสดุเป้าหมายระดับสูงของ Igzo (Indium Gallium Zinium Zinide) สำหรับสารเคลือบสุญญากาศ PVD Magnetortranstering Research และทดลองวัสดุ

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Jiangsu Haitai Optoelectronic Materials Technology Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายกล่อง

เป้าหมายกล่อง

US$1,400.00-9,200.00
2 ชิ้น(MOQ)
เป้าหมาย Sizr

เป้าหมาย Sizr

US$5,000.00-12,600.00
2 ชิ้น(MOQ)
เป้าหมายแบบรีอัล

เป้าหมายแบบรีอัล

US$280.00-2,230.00
2 ชิ้น(MOQ)

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
ทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์สูง Ws2 เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกสำหรับการเคลือบ

ทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์สูง Ws2 เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกสำหรับการเคลือบ

US$9.00-12.00
10 กก.(MOQ)
เปลือกเซรามิกทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์ Ws2 สำหรับการเคลือบคุณภาพสูง

เปลือกเซรามิกทังสเตนไดซัลไฟด์บริสุทธิ์ Ws2 สำหรับการเคลือบคุณภาพสูง

US$9.00-12.00
10 กก.(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

ส่งแบบสอบถาม
Azo Sputering Target Coating Material Ceramic Target for Glass Industry Thin Film Coating

Azo Sputering Target Coating Material Ceramic Target for Glass Industry Thin Film Coating

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Ybco Yb2cuba3o7 ytrium trium Copper Oxide Smilering Target

Ybco Yb2cuba3o7 ytrium trium Copper Oxide Smilering Target

US$250.00-500.00
1 บางส่วน(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
ชิ้นงานที่ใช้เทเซรามิค

ชิ้นงานที่ใช้เทเซรามิค

US$100.00
1 บางส่วน(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายแกโดลิเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการผลิตอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง

เป้าหมายแกโดลิเนียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการผลิตอิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูง

US$55.00-85.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายโลหะอิตเทรียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการจัดเก็บข้อมูลขั้นสูง

เป้าหมายโลหะอิตเทรียมบริสุทธิ์สูงสำหรับการจัดเก็บข้อมูลขั้นสูง

US$115.00-130.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมบริสุทธิ์สูงพรีเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์

เป้าหมายการสปัตเตอร์แลนทานัมบริสุทธิ์สูงพรีเมียมสำหรับอิเล็กทรอนิกส์

US$150.00-350.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการสปัตเตอร์อิตเทรียมบริสุทธิ์สูงสำหรับเทคโนโลยีเลเซอร์ขั้นสูง

เป้าหมายการสปัตเตอร์อิตเทรียมบริสุทธิ์สูงสำหรับเทคโนโลยีเลเซอร์ขั้นสูง

US$115.00-130.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 ปี·5.0
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
Mo1 ราคาเป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการสปัตเตอร์

Mo1 ราคาเป้าหมายโมลิบดีนัมสำหรับการสปัตเตอร์

US$40.00-88.00
1 kg(MOQ)
คุณภาพสูงเป้าหมายโมลิบดีนัมแผ่นโมลิบดีนัม

คุณภาพสูงเป้าหมายโมลิบดีนัมแผ่นโมลิบดีนัม

US$40.00-88.00
1 kg(MOQ)
เรือโมลิบดีนัมที่เชื่อถือได้มากที่สุด

เรือโมลิบดีนัมที่เชื่อถือได้มากที่สุด

US$31.00-54.00
1 kg(MOQ)
เรือโมลิบดีนัมมืออาชีพขาย

เรือโมลิบดีนัมมืออาชีพขาย

US$31.00-54.00
1 kg(MOQ)
1/2

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
ส่งแบบสอบถาม
แบรนด์ TMAXCN 99.5% เป้าซิลิคอนคาร์ไบด์เซรามิกซิกสำหรับการเคลือบ

แบรนด์ TMAXCN 99.5% เป้าซิลิคอนคาร์ไบด์เซรามิกซิกสำหรับการเคลือบ

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกซิงค์สแตนเนตความหนาแน่นสูง Zn2sno4 วัสดุเคลือบเซรามิก

แบรนด์ TMAXCN เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกซิงค์สแตนเนตความหนาแน่นสูง Zn2sno4 วัสดุเคลือบเซรามิก

US$78.00-90.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN - VTC-600-3HD-LD เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ในห้องปฏิบัติการ DC/RF 3 หัวเครื่องเคลือบสูญญากาศสูง 2 เครื่องเคลือบด้วยพลาสม่าแมกนีตรอน

แบรนด์ TMAXCN - VTC-600-3HD-LD เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์ในห้องปฏิบัติการ DC/RF 3 หัวเครื่องเคลือบสูญญากาศสูง 2 เครื่องเคลือบด้วยพลาสม่าแมกนีตรอน

US$18,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
แบรนด์ TMAXCN - VTC-600-3HD-GB 3 หัวสปัตเตอร์และแหล่งจ่ายไฟ RF/DC เครื่องเคลือบพลาสมาสปัตเตอร์ในกล่องถุงมือ

แบรนด์ TMAXCN - VTC-600-3HD-GB 3 หัวสปัตเตอร์และแหล่งจ่ายไฟ RF/DC เครื่องเคลือบพลาสมาสปัตเตอร์ในกล่องถุงมือ

US$16,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

เครื่องเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แม่เหล็กทรงกระบอกสแตนเลสแบบตั้งโต๊ะ

US$8,730.00-8,900.00
1 บางส่วน(MOQ)
การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

การเคลือบฟิล์มบางโลหะและออกไซด์ด้วยการสปัตเตอร์ด้วยแมกนีตรอนแบบคู่เป้าหมาย DC RF

US$21,000.00-26,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
3 เครื่องเคลือบด้วยแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งขนาดสามนิ้ว

3 เครื่องเคลือบด้วยแมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งขนาดสามนิ้ว

US$28,500.00-40,100.00
1 บางส่วน(MOQ)
โค้ตเตอร์แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งที่มีประสิทธิภาพสูงและต้นทุนต่ำ (500W DC&500W RF)

โค้ตเตอร์แมกนีตรอนสปัตเตอร์ริ่งที่มีประสิทธิภาพสูงและต้นทุนต่ำ (500W DC&500W RF)

US$28,500.00-40,100.00
1 บางส่วน(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

Sputtering Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99.99% for Optical Coating

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Rare Earth Cerium Dioxide CEO2 99.95% Ceramic Sputtering Target PVD Coating

Rare Earth Cerium Dioxide CEO2 99.95% Ceramic Sputtering Target PVD Coating

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Ceramic Sputtering Target in Various Shapes for PVD Coating Compound Target

Ceramic Sputtering Target in Various Shapes for PVD Coating Compound Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Dioxide Sio2 Ceramic Sputtering Target Granule for Evaporation Coating

Dioxide Sio2 Ceramic Sputtering Target Granule for Evaporation Coating

ต่อรองได้
1 กก.(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 ปี
·บริษัทการค้า
ส่งแบบสอบถาม
แท่งโลหะธูลิอัมเป้าหมายเกรนหมายเลข CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

แท่งโลหะธูลิอัมเป้าหมายเกรนหมายเลข CAS 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
ราคาจากโรงงาน ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์ ITO หมุนเวียนคุณภาพสูง 4n In2o3 และ Sno2

ราคาจากโรงงาน ขายเป้าหมายการสปัตเตอร์ ITO หมุนเวียนคุณภาพสูง 4n In2o3 และ Sno2

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
ราคาจำหน่ายโรงงาน เปอร์เซ็นต์ต่ำ 4n เป้าหมายกลม ITO ขนาดเล็ก

ราคาจำหน่ายโรงงาน เปอร์เซ็นต์ต่ำ 4n เป้าหมายกลม ITO ขนาดเล็ก

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
ราคาจำหน่ายโรงงาน เป้าหมาย ITO ความบริสุทธิ์สูง สำหรับ Rpd 4n

ราคาจำหน่ายโรงงาน เป้าหมาย ITO ความบริสุทธิ์สูง สำหรับ Rpd 4n

ต่อรองได้
1 Piece(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 ปี
·ผู้ผลิต / โรงงานและบริษัทผู้ค้า
ส่งแบบสอบถาม
หมุนแคโทด, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

หมุนแคโทด, เป้าหมายท่อทรงกระบอกสำหรับเครื่องเคลือบ

US$6,700.00-6,800.00
2 sets(MOQ)
5-200kw แหล่งการพ่นที่เป็นแบบทั่วไปสำหรับอุตสาหกรรมการเคลือบฟิล์มบาง แคโธดสปัตเตอร์แบบหมุน เป้าหมายการพ่นแบบหมุน

5-200kw แหล่งการพ่นที่เป็นแบบทั่วไปสำหรับอุตสาหกรรมการเคลือบฟิล์มบาง แคโธดสปัตเตอร์แบบหมุน เป้าหมายการพ่นแบบหมุน

US$6,900.00-7,000.00
2 sets(MOQ)
เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยระบบการกัดพลาสมา

เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยระบบการกัดพลาสมา

US$80,000.00-180,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เครื่องเคลือบผิวโลหะด้วยการระเหิดทางกายภาพสำหรับชิ้นส่วนพลาสติกเครื่องสำอาง

เครื่องเคลือบผิวโลหะด้วยการระเหิดทางกายภาพสำหรับชิ้นส่วนพลาสติกเครื่องสำอาง

US$30,000.00-60,000.00
1 เตรียมตัว(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายการพัตต์แบบ B2t3

เป้าหมายการพัตต์แบบ B2t3

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายสำหรับการพัตต์เซรามิค All2O3

เป้าหมายสำหรับการพัตต์เซรามิค All2O3

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงานทรงกระบอก Azo

ชิ้นงานทรงกระบอก Azo

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายการพัตต์เซรามิค B2O3

เป้าหมายการพัตต์เซรามิค B2O3

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายหมุนของเครื่องพลาริโอ , เป้าหมาย Magnetoron SOutput trastering , In2o3: เป้าหมายหมายเลข 2, 90 : 10 ITO, 95 ITO, 5 ITO, 97 3 ITO

เป้าหมายหมุนของเครื่องพลาริโอ , เป้าหมาย Magnetoron SOutput trastering , In2o3: เป้าหมายหมายเลข 2, 90 : 10 ITO, 95 ITO, 5 ITO, 97 3 ITO

ต่อรองได้
10 กก.(MOQ)
ชิ้นงานแบบหมุน Tiox การประยุกต์ใช้งานส่วนใหญ่สำหรับการเคลือบแก้ว Low-E เป้าหมาย Magnetoron SInputstering ชิ้นงาน Titanium Oxide

ชิ้นงานแบบหมุน Tiox การประยุกต์ใช้งานส่วนใหญ่สำหรับการเคลือบแก้ว Low-E เป้าหมาย Magnetoron SInputstering ชิ้นงาน Titanium Oxide

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายกลุ่มการเชื่อมต่อตู้ถึงกันของ Heeterose, เป้าหมายสำหรับการเดินไปมาของ ITO ของบริษัทสำหรับกลุ่มการเดินตู้ , 1: เป้าหมาย 3 Hjt ITO 97

เป้าหมายกลุ่มการเชื่อมต่อตู้ถึงกันของ Heeterose, เป้าหมายสำหรับการเดินไปมาของ ITO ของบริษัทสำหรับกลุ่มการเดินตู้ , 1: เป้าหมาย 3 Hjt ITO 97

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย NbOx แบบหมุนได้ 99.95 % สำหรับการป้อนเอาต์พุตคุณภาพสูง

เป้าหมาย NbOx แบบหมุนได้ 99.95 % สำหรับการป้อนเอาต์พุตคุณภาพสูง

ต่อรองได้
2 ชิ้น(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

ส่งแบบสอบถาม
ITO Target, ITO Rotary Target, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

ITO Target, ITO Rotary Target, Tp Tn Stn TFT-LCD ITO Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมายของพลาริการ์สเทอริง , ฟิล์มกระจก ITO, TTP/TTTTTD/TM/TV-LCD ITO

เป้าหมายของพลาริการ์สเทอริง , ฟิล์มกระจก ITO, TTP/TTTTTD/TM/TV-LCD ITO

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
Indium Oxide Target, In2o3 Target

Indium Oxide Target, In2o3 Target

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย Igzo เป้าหมาย TFT Channel Igzo Layชั้นใน Indium Gallant-Zinium Oxide

เป้าหมาย Igzo เป้าหมาย TFT Channel Igzo Layชั้นใน Indium Gallant-Zinium Oxide

ต่อรองได้
1 บางส่วน(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

ส่งแบบสอบถาม
4n เป้าหมาย Azo ZnO: Al2O3 เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบหมุน

4n เป้าหมาย Azo ZnO: Al2O3 เป้าหมายการสปัตเตอร์แบบหมุน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
99.999% แผ่นเป้าหมายซิลิคอนโมโนคริสตัลบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์/เป้าหมายเซรามิกซิลิคอน

99.999% แผ่นเป้าหมายซิลิคอนโมโนคริสตัลบริสุทธิ์สูงสำหรับการสปัตเตอร์/เป้าหมายเซรามิกซิลิคอน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n Nbo2 เป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

4n Nbo2 เป้าหมายไนโอเบียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
4n TiO2 เป้าหมายไทเทเนียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

4n TiO2 เป้าหมายไทเทเนียมออกไซด์ เป้าหมายหมุน เป้าหมายแบน

US$200.00-10,000.00
1 บางส่วน(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

ส่งแบบสอบถาม
เป้าหมายดิสก์ ITO คุณภาพและความบริสุทธิ์สูงสำหรับเครื่องป้อนเอาต์พุต และการเคลือบด้วยสุญญากาศ

เป้าหมายดิสก์ ITO คุณภาพและความบริสุทธิ์สูงสำหรับเครื่องป้อนเอาต์พุต และการเคลือบด้วยสุญญากาศ

US$10.00-5,000.00
30 ชิ้น(MOQ)
เป้าหมาย ITO คุณภาพสูงสำหรับเครื่องป้อนกระดาษและการเคลือบด้วยสุญญากาศ 90 มม . ค . 10

เป้าหมาย ITO คุณภาพสูงสำหรับเครื่องป้อนกระดาษและการเคลือบด้วยสุญญากาศ 90 มม . ค . 10

US$10.00-5,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
เป้าหมาย MoOx

เป้าหมาย MoOx

US$10.00-5,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
ชิ้นงาน Nb2ox คุณภาพสูงสำหรับเครื่องป้อนเอาต์พุตและการเคลือบด้วยสุญญากาศ

ชิ้นงาน Nb2ox คุณภาพสูงสำหรับเครื่องป้อนเอาต์พุตและการเคลือบด้วยสุญญากาศ

US$10.00-5,000.00
1 บางส่วน(MOQ)
122
เกี่ยวกับเรา การประกาศ ข้อตกลงสำหรับผู้ใช้ นโยบายความเป็นส่วนตัว คอนแทคเตอร์ Made-in-China.com ผลิตภัณฑ์ด่วน ข้อมูลเชิงลึก
ตัวเลือกภาษา: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. สงวนลิขสิทธิ์
Focusจะไม่รับผิดชอบต่อความแตกต่างระหว่างเวอร์ชันภาษาอังกฤษและเวอร์ชันภาษาอื่นของเว็บไซต์ หากมีความขัดแย้งใด ๆ ให้ใช้เวอร์ชันภาษาอังกฤษเป็นหลัก การใช้ไซต์นี้ของคุณอยู่ภายใต้และถือเป็นการรับทราบและยอมรับ ของเรา ข้อกำหนดและเงื่อนไข