การสร้างและสร้างกราฟการสลักด้วยเซมิคอนดักเตอร์ไอออนและพลาสมา

• พิมพ์: Graphite Parts
• องค์ประกอบ: C
• ปริมาณคาร์บอน: 99.9995
• เกรด: Customization
• ก่อตัวเป็นรูปเป็นแท่ง: การสร้างกราฟแบบสแตติก
• สัณฐานวิทยาของคริสตัล: Artificial Graphite
• แพคเพจการขนส่ง: Wooden Case
• เครื่องหมายการค้า: SIAMC
• ที่มา: China
• รหัสพิกัดศุลกากร: 681519

คำอธิบายสินค้า

ผลิตภัณฑ์กราไฟต์ของ SIAMC ถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายในอุปกรณ์ฝังไอออนและการกัดกรดพลาสมาเนื่องจากมีความต้านทานความร้อนที่ดีเยี่ยมการเหนี่ยวนำความร้อนปริมาณสารปนเปื้อนในระดับต่ำและความต้านทานการกัดกร่อนโดยคานไอออน
ในการปลูกสร้างไอออนจะใช้กราไฟต์ความบริสุทธิ์สูงในหลอดทดลองใช้หลอดทดลองใช้งาน , สไลท์ , อิเล็กโทรด , ฝาครอบขั้วไฟฟ้า , ท่อร้อยสาย และอุปกรณ์ปลายทางลำแสง ส่วนประกอบเหล่านี้จำเป็นต้องมีความทนทานต่อการกัดกร่อนที่เกิดจากลำแสงของไอออน
ในการกัดกรดพลาสมาส่วนประกอบของช่องการตอบสนองพลาสมาจะสัมผัสกับก๊าซกัดกรดซึ่งอาจทำให้เกิดการปนเปื้อนและการกัดกร่อน อย่างไรก็ตามกราไฟต์มีความทนทานต่อการกัดกร่อนในสภาวะที่ทำงานหนักมากเช่นการทิ้งระเบิดไอออนหรือพลาสมาทำให้เป็นวัสดุที่เหมาะสมที่สุดสำหรับส่วนประกอบของอุปกรณ์กัดกรดพลาสมาเช่นขั้วไฟฟ้ากราไฟต์
ผลิตภัณฑ์กราไฟท์คุณภาพสูงของ SIAMC ให้ประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือที่ดีเยี่ยมสำหรับการปลูกสร้างไอออนและอุปกรณ์กัดกรดพลาสมาช่วยให้มั่นใจได้ในคุณภาพและประสิทธิภาพของการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์