ซัพพลายเออร์ที่มีใบอนุญาตการทำธุรกิจ
ซัพพลายเออร์ที่ผ่านการตรวจสอบแล้ว กระจกสำหรับเครื่องพิมพ์หิน
องค์ประกอบออปติคัลในการทำลวดลายวงจรมักใช้ในการรับแสงการส่องสว่างการตรวจจับพลังงานระบบเส้นทางแสงและฉากอื่นๆ ระบบการฉายรังสีของเครื่องลายหินประกอบด้วยระบบการส่องสว่างและเลนส์ใกล้วัตถุที่ฉายภาพ (1) 1 ความเที่ยงตรงสูง : เพื่อให้ได้ภาพที่ถูกต้องการควบคุมความเบี่ยงเบนอย่างเข้มงวดความเรียบของเลนส์และข้อกำหนดการเคลือบเลนส์มีค่าสูง 2 (3) ค่าสูง : การผลิตเลนส์ออปติกที่มีความแม่นยำสูงต้องใช้เครื่องเจียรความแม่นยำสูงและการขัดเลนส์อย่างละเอียด
ขนาดวัสดุ
เลนส์ผลิตจากวัสดุ Microthin ที่มีเส้นผ่านศูนย์กลางภายใน 9.6 ซม . และเส้นผ่านศูนย์กลางภายนอก 19.4 ซม . บนระนาบ A ความหนาด้านข้างคือ 5.1 ซม . ใช้กับส่วนที่ต้องการความแม่นยำของเครื่องกัดรูมันวาว
ของการประยุกต์ใช้งาน
เป็นส่วนประกอบหลักของเครื่องพิมพ์หินโดยส่วนใหญ่ใช้ในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ , ชีวการแพทย์ , โฟโตกราฟี , นาโน
หลักการทำงาน
โดยส่วนใหญ่แล้วจะใช้เทคโนโลยีการฉายภาพด้วยแสง โดยฉายแสงลงบนพื้นผิวของซิลิกอนเวเฟอร์โดยการวางแหล่งกำเนิดแสงที่โฟกัสสูงผ่านระบบเลนส์ที่ออกแบบมาเป็นพิเศษ ซิลิกอนเวเฟอร์จะถูกเคลือบด้วยสารกันแสงและกระบวนการฉายและพัฒนาสารกันแสงจะสร้างรูปแบบวงจรที่ต้องการ เครื่องคัดแยกใช้เทคโนโลยีที่สำคัญมากมายเพื่อการถ่ายโอนแบบความละเอียดสูงและการถ่ายโอนแบบเทียบกับต้นแบบ ระบบเลนส์ประกอบด้วยเลนส์หลายชิ้นที่ใช้ในการโฟกัสแสงไปที่ซิลิกอนเวเฟอร์เพื่อสร้างเป็นรูปแบบ ระบบเลนส์ที่มีความละเอียดสูงจำเป็นต้องมีความเบี่ยงเบนน้อยกว่ามุมมองภาพกว้างกว่าและการส่งผ่านแสงที่สูงกว่า ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมาด้วยการพัฒนานาโนเทคโนโลยีการถ่ายโอนข้อมูลได้ถูกแทนที่ด้วยการทำลวดลายวงจรของการถ่ายข้อมูลด้วยระบบเลนส์ที่ซับซ้อนมากขึ้น
| ก | ||
| เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน | เส้นผ่านศูนย์กลางภายนอก | ความหนา |
| 9.6 | 19.4 | 5.1 |
ซัพพลายเออร์ที่มีใบอนุญาตการทำธุรกิจ
ซัพพลายเออร์ที่ผ่านการตรวจสอบแล้ว 
