อุปกรณ์ห้องแล็บทันตกรรมของโรงงานเซรามิเลสอุณหภูมิสูงเดนทัลซีเนียสเซมิคอลเซอเซเลซ

• อุณหภูมิสูงสุด: 1700
• อุณหภูมิในการทำงาน: 1600
• แผ่นทำความร้อน: ชิ้นส่วนทำความร้อน Mos2
• ขนาดห้อง: dia100x100 มม
• แรงดันไฟฟ้า: 220V /110V
• กำลังที่ใช้งานได้: 2 กิโลวัตต์
• ไม่ใช่ ของรุ่น: H-1700BL
• อัตราความร้อน: <=15C/ นาที
• ห้องฉนวน: ไฟเบอร์กรามิก 1800 ชนิด
• เทอร์โมคับเปลอร์: ชนิด B
• ความแม่นยำของอุณหภูมิ: +/- 1c
• อุณหภูมิความสม่ำเสมอ: +/- 5c
• น้ำหนักสุทธิ: 70 กก
• น้ำหนักรวม: 100 กก . 1
• แพคเพจการขนส่ง: Wooden Box
• ข้อมูลจำเพาะ: Dia120*120mm
• เครื่องหมายการค้า: HIQ
• ที่มา: จีน
• รหัสพิกัดศุลกากร: 85141090
• กำลังการผลิต: 120 Sets Per Month

คำอธิบายสินค้า

Zirconia sintering Furnace ใช้ก้าน MoSSi2 เป็นชิ้นส่วนทำความร้อน อุณหภูมิภายในเตาหลอมสูงสุดสามารถถึง 700 º C สามารถตั้งค่าโปรไฟล์อุณหภูมิเตาได้ 50 ส่วนและรันโดยอัตโนมัติด้วยอินเตอร์เฟซหน้าจอสัมผัส เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการวิจัยวัสดุห้องปฏิบัติการวิจัยเซรามิกและห้องแล็บทันตกรรม

3 ข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค

ชื่อ	หน่วย	พารามิเตอร์
กำลังการทำงาน	กิโลวัตต์	2 กิโลวัตต์
แรงดันไฟฟ้า	V	AC 220V, 50 Hz, เฟสเดียว
สูงสุด อุณหภูมิ	º C	1700
อุณหภูมิการทำงานต่อเนื่อง	º C	1600
อัตราความร้อนที่แนะนำ	º C/min	≤ 15
ควบคุมความแม่นยำของอุณหภูมิ	º C	± 1
แผ่นทำความร้อน		เครื่องทำความร้อน MoSi2
การเชื่อมต่อตัวนำความร้อน		การเชื่อมต่อแบบดาว
คู่ที่มีระบบความร้อน		ชนิด B
ขนาดของภายในห้อง	นิ้ว	Dia100x100 มม

5 ตัวควบคุมอุณหภูมิ
• Temperature Controller ใช้วิธีการปรับแต่ง AI แบบอัจฉริยะขั้นสูงไม่มีการถ่ายภาพเกินและมีฟังก์ชันปรับแต่งอัตโนมัติ
•ทั้งอินพุตและเอาต์พุตใช้ระบบปรับแต่งแบบดิจิตอลและตรวจสอบให้แน่ใจว่าการวัดมีความแม่นยำและเสถียร
•ความแม่นยำในการวัด :  0.2 100% เต็มสเกล
•ฟังก์ชันการแจ้งเตือน : วงจรเปิดของขีดจำกัดบนและอินพุต
• 51 เซกเมนต์ที่ตั้งโปรแกรมได้  สามารถสลับการทำงานแบบอัตโนมัติและแบบแมนนวลได้โดยไม่รบกวน
•ฟังก์ชันการจัดเก็บ : คอนโทรลเลอร์สามารถจัดเก็บโปรแกรมได้ 500 โปรแกรม
•แหล่งจ่ายไฟสลับใช้ได้ทั่วไป : 85V -264V AC, 50 - 60 Hz
•การสิ้นเปลืองพลังงาน :  ≤ 5W